[發(fā)明專利]一種電子能損計算方法、裝置及電子設(shè)備在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202110313380.4 | 申請日: | 2021-03-24 |
| 公開(公告)號: | CN113076687A | 公開(公告)日: | 2021-07-06 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 郭尋;薛建明;王浩;劉勇;田原;黃華清;王一涵 | 申請(專利權(quán))人: | 北京大學(xué) |
| 主分類號: | G06F30/27 | 分類號: | G06F30/27;G06K9/62;G06F17/18 |
| 代理公司: | 深圳市六加知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44372 | 代理人: | 江曉蘇 |
| 地址: | 100871*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 電子 計算方法 裝置 電子設(shè)備 | ||
本發(fā)明涉及材料分析技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種電子能損計算方法、裝置及電子設(shè)備。該電子能損計算方法包括:獲取計算參數(shù),所述計算參數(shù)包括入射離子的原子序數(shù)、原子質(zhì)量和動能,以及材料的原子序數(shù)和原子質(zhì)量;將所述入射離子的所述原子序數(shù)、所述原子質(zhì)量和所述動能,以及所述材料的所述原子序數(shù)和所述原子質(zhì)量進(jìn)行預(yù)處理,獲得預(yù)處理后的參數(shù);將所述預(yù)處理后的參數(shù)輸入預(yù)測數(shù)據(jù)模型,并輸出獲得所述材料對所述入射離子的能量損失。本發(fā)明提供的電子能損計算方法和裝置提高了電子能損的計算結(jié)果的真實(shí)性和準(zhǔn)確性。
【技術(shù)領(lǐng)域】
本發(fā)明涉及材料分析技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種電子能損計算方法、裝置及電子設(shè)備。
【背景技術(shù)】
具有一定動能的離子射入材料(比如靶材料)后,會與材料中的原子核及核外電子發(fā)生持續(xù)作用,將自身動能不斷傳遞給材料,直至所有動能全部耗盡或完全穿透材料。這一過程被稱之為該離子的能量損失(簡稱能損)過程。在能損研究相關(guān)領(lǐng)域中,離子與材料中的原子核發(fā)生碰撞而導(dǎo)致的能損被稱之為核能損,與材料中的電子發(fā)生相互作用而產(chǎn)生的能損被稱之為電子能損。如何定量地計算離子在材料中的能損,長期以來一直是學(xué)界研究的重點(diǎn)。
目前計算離子在材料中電子能損的方法,通常是先基于經(jīng)驗(yàn)與猜測構(gòu)造一個電子阻止本領(lǐng)(即平均每個靶原子對入射離子在單位距離內(nèi)能損的平均貢獻(xiàn))計算函數(shù),再通過大量的試驗(yàn)數(shù)據(jù)對該函數(shù)的參數(shù)進(jìn)行優(yōu)化與改進(jìn),最終獲得一個可以吻合絕大多數(shù)實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)的擬合函數(shù)。目前主流的電子阻止本領(lǐng)計算模型,如公開發(fā)表的SRIM程序和MSTAR程序,均采用這一方法。
發(fā)明人在實(shí)現(xiàn)本發(fā)明實(shí)施例的過程中,發(fā)現(xiàn)相關(guān)技術(shù)至少存在以下問題:由于擬合函數(shù)本身來源于經(jīng)驗(yàn)與猜想,因此計算模型本身從來源上就存在極大的主觀性,難以保證這一模型可以充分體現(xiàn)電子阻止本領(lǐng)的真實(shí)特征。
【發(fā)明內(nèi)容】
本發(fā)明要解決的技術(shù)問題是提供一種電子能損計算方法、裝置及電子設(shè)備,以解決相關(guān)技術(shù)在獲取電子能損時由于人為因素干擾而造成預(yù)測結(jié)果真實(shí)性低的技術(shù)問題。
本發(fā)明實(shí)施例的一個方面,提供了一種電子能損計算方法,所述方法包括:
獲取計算參數(shù),所述計算參數(shù)包括入射離子的原子序數(shù)、原子質(zhì)量和動能,以及材料的原子序數(shù)和原子質(zhì)量;
將所述入射離子的所述原子序數(shù)、所述原子質(zhì)量和所述動能,以及所述材料的所述原子序數(shù)和所述原子質(zhì)量進(jìn)行預(yù)處理,獲得預(yù)處理后的參數(shù);
將所述預(yù)處理后的參數(shù)輸入預(yù)測數(shù)據(jù)模型,并輸出獲得所述材料對所述入射離子的能量損失。
可選地,所述方法還包括:獲取所述預(yù)測數(shù)據(jù)模型;
所述獲取所述預(yù)測數(shù)據(jù)模型包括:
獲取實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)庫;
根據(jù)所述實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)庫獲取訓(xùn)練樣本和測試樣本;
將所述訓(xùn)練樣本和所述測試樣本中的數(shù)據(jù)進(jìn)行正則化操作,以獲得所述數(shù)據(jù)對應(yīng)的正則化參數(shù);
將所述訓(xùn)練樣本輸入預(yù)設(shè)算法模型中進(jìn)行訓(xùn)練,并輸出訓(xùn)練結(jié)果;
根據(jù)所述訓(xùn)練結(jié)果,將所述測試樣本輸入訓(xùn)練好的所述預(yù)設(shè)算法模型中進(jìn)行測試,并輸出測試結(jié)果;
基于所述正則化參數(shù)約束所述訓(xùn)練結(jié)果和所述測試結(jié)果的關(guān)系,以使所述訓(xùn)練結(jié)果與所述測試結(jié)果逼近;
將輸出的訓(xùn)練結(jié)果最逼近所述測試結(jié)果的算法模型作為所述預(yù)測數(shù)據(jù)模型。
可選地,所述根據(jù)所述實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)庫獲取訓(xùn)練樣本和測試樣本,包括:
按照預(yù)設(shè)比例將所述實(shí)驗(yàn)數(shù)據(jù)庫中的數(shù)據(jù)劃分為第一訓(xùn)練樣本和測試樣本;
獲取第一入射離子能量和第二入射離子能量對應(yīng)的電子阻止本領(lǐng)數(shù)據(jù),所述電子阻止本領(lǐng)數(shù)據(jù)作為邊界數(shù)據(jù)集;
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