1.一種顯示基板的制備方法，其特征在于，包括：

在襯底基板的一側形成薄膜晶體管結構，所述薄膜晶體管結構包括依次疊設的柵金屬層、第一絕緣層和源漏金屬層；

在所述薄膜晶體管結構背離所述襯底基板的一側形成第二絕緣層；

在所述第二絕緣層背離所述襯底基板的一側依次形成色阻層和第三絕緣層，所述第三絕緣層開設有第一過孔和第二過孔，所述第一過孔在所述襯底基板上的正投影與所述源漏金屬層在所述襯底基板上的正投影至少部分相交，所述第一過孔與所述第二絕緣層之間保留有色阻層和/或第三絕緣層，所述第二過孔貫穿所述第三絕緣層和所述色阻層而暴露出所述第二絕緣層，所述第二過孔在所述襯底基板上的正投影與所述柵金屬層在所述襯底基板上的正投影至少部分相交，其中，所述色阻層的厚度范圍為1.0μm至2.0μm或第三絕緣層在第一過孔位置的厚度范圍為1.0μm至2.0μm；

采用刻蝕工藝對所述第一過孔位置和所述第二過孔位置進行刻蝕，在所述第一過孔位置形成第五過孔而暴露出至少部分所述源漏金屬層，在所述第二過孔位置形成第六過孔而暴露出至少部分所述柵金屬層。