6.根據(jù)權(quán)利要求1至5中的任一項(xiàng)所述的基板升降異常檢測(cè)裝置，其特征在于，

所述基板處理裝置具備：腔室，其在處理所述基板時(shí)被設(shè)為真空環(huán)境；以及靜電吸盤，其在處理所述基板時(shí)對(duì)所述基板進(jìn)行靜電吸附，

所述測(cè)定部除了測(cè)定與施加于所述升降機(jī)構(gòu)的載荷具有相關(guān)性的參數(shù)之外，還測(cè)定同所述靜電吸盤與所述基板之間的吸附力具有相關(guān)性的參數(shù)以及與所述腔室內(nèi)的壓力具有相關(guān)性的參數(shù)中的至少1個(gè)參數(shù)，

所述學(xué)習(xí)模型被輸入在通過所述升降機(jī)構(gòu)使所述基板上升的過程中由所述測(cè)定部連續(xù)地測(cè)定出的所述參數(shù)的多個(gè)測(cè)定值，并輸出所述基板的升降異常的程度。