[發(fā)明專利]一種提高特征X射線強度值的測試方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011406792.4 | 申請日： | 2020-12-04 |
| 公開（公告）號： | CN112730495A | 公開（公告）日： | 2021-04-30 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 楊水源;崔繼強;蔣少涌;張若曦 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國地質(zhì)大學（武漢） |
| 主分類號： | G01N23/2252 | 分類號： | G01N23/2252 |
| 代理公司： | 武漢知產(chǎn)時代知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 42238 | 代理人： | 龔春來 |
| 地址： | 430000 湖*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 提高 特征 射線 強度 測試 方法 | ||
1.一種提高特征X射線強度值的測試方法，其特征在于，包括：
利用電子探針不同波譜儀上的多個分光晶體，形成待測元素的測試系統(tǒng)，同時測試同一個待測元素；
獲取標準樣品中待測元素的總凈計數(shù)；
獲取待測樣品中待測元素的總凈計數(shù)；
根據(jù)標準樣品中待測元素的總凈計數(shù)、待測樣品中待測元素的總凈計數(shù)與標準樣品中待測元素的濃度計算待測樣品中待測元素的濃度；
根據(jù)待測樣品中待測元素在各個分光晶體上的背景強度，獲取待測樣品中待測元素的總背景強度。
2.如權(quán)利要求1所述的提高特征X射線強度值的測試方法，其特征在于，根據(jù)待測樣品中待測元素的總背景強度，計算待測元素的檢測限。
3.如權(quán)利要求1所述的提高特征X射線強度值的測試方法，其特征在于，不同波譜儀上的多個分光晶體為同種分光晶體。
4.如權(quán)利要求1所述的提高特征X射線強度值的測試方法，其特征在于，不同波譜儀上的多個分光晶體為不同種分光晶體。
5.如權(quán)利要求1所述的提高特征X射線強度值的測試方法，其特征在于，獲取標準樣品中待測元素的總凈計數(shù)的具體方法為：測試標準樣品中待測元素的特征X射線總強度和背景強度，計算各個分光晶體獲取的待測元素的凈記數(shù)，再計算標準樣品中待測元素的總凈計數(shù)。
6.如權(quán)利要求1所述的提高特征X射線強度值的測試方法，其特征在于，獲取待測樣品中待測元素的總凈計數(shù)的具體方法為：測試待測樣品中待測元素的特征X射線總強度和背景強度，計算各個分光晶體中獲取的待測元素的凈記數(shù)，再計算待測樣品中待測元素的總凈計數(shù)。
7.如權(quán)利要求1所述的提高特征X射線強度值的測試方法，其特征在于，待測樣品中待測元素的濃度的計算公式為：
其中，CY1、CY2…CYn(n為≥2的整數(shù))分別為不同波譜儀上的多個分光晶體，分別為測試標準樣品時各個分光晶體中獲取的待測元素的凈計數(shù)，分別為測試待測樣品時各個分光晶體中獲取的待測元素的凈計數(shù)，Cstd代表標準樣品待測元素的濃度，GZAF代表基質(zhì)校正因子，Cunk為待測樣品待測元素的濃度。
8.如權(quán)利要求1所述的提高特征X射線強度值的測試方法，其特征在于，待測樣品中待測元素的總背景強度的計算公式為：其中，分別為測試待測樣品時待測樣品在各個分光晶體上的背景強度，Iunk-bg為待測元素的總背景強度。
9.如權(quán)利要求2所述的提高特征X射線強度值的測試方法，其特征在于，待測元素的檢測限的計算公式為：
其中，CY1、CY2…CYn(n為≥2的整數(shù))分別為不同波譜儀上的多個分光晶體，分別為測試標準樣品時各個分光晶體的待測元素的凈計數(shù)，Cstd代表標準樣品待測元素的濃度，分別為測試待測樣品時待測樣品各個分光晶體上的背景強度，tback為背景的測試時間，GZAF代表基質(zhì)校正因子，D.L.為檢測限。
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