[發(fā)明專利]一種基于光譜角度的高光譜圖像目標(biāo)特征提取方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202011188705.2 | 申請(qǐng)日: | 2020-10-30 |
| 公開(公告)號(hào): | CN112329792B | 公開(公告)日: | 2022-12-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 孫康;陳金勇;李方方;王敏;帥通;王士成 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國電子科技集團(tuán)公司第五十四研究所 |
| 主分類號(hào): | G06V10/46 | 分類號(hào): | G06V10/46 |
| 代理公司: | 河北東尚律師事務(wù)所 13124 | 代理人: | 王文慶 |
| 地址: | 050081 河北省石家莊市中山西路*** | 國省代碼: | 河北;13 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 光譜 角度 圖像 目標(biāo) 特征 提取 方法 | ||
本發(fā)明公開了一種基于光譜角度的高光譜圖像目標(biāo)特征提取方法,屬于遙感圖像處理技術(shù)領(lǐng)域。其包括以下步驟:計(jì)算高光譜圖像的協(xié)方差矩陣和均值光譜;計(jì)算投影均值光譜和投影目標(biāo)光譜;從投影均值光譜和投影目標(biāo)光譜中依次去除每個(gè)元素,形成新的投影均值光譜和投影目標(biāo)光譜,并計(jì)算其光譜角度;搜索具有最大光譜角度的投影均值光譜和投影目標(biāo)光譜,將其替換原投影均值光譜和投影目標(biāo)光譜;更新當(dāng)前剩余的特征數(shù)目,直至特征數(shù)目達(dá)到要求。本發(fā)明通過協(xié)方差矩陣的引入,對(duì)均值光譜和目標(biāo)光譜進(jìn)行投影,在突出目標(biāo)信息的同時(shí),對(duì)背景進(jìn)行了壓制,從而能夠獲取目標(biāo)與背景最大區(qū)分的波段,提高了高光譜圖像目標(biāo)提取的精度。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于遙感圖像處理技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種基于光譜角度的高光譜圖像目標(biāo)特征提取方法。
背景技術(shù)
高光譜遙感技術(shù)能夠?qū)崿F(xiàn)地物從可見光到紅外的連續(xù)光譜采樣,形成極為豐富的光譜信息。與普通遙感圖像相比,高光譜圖像的一個(gè)重要優(yōu)勢是增加了豐富的光譜維信息,能充分反映出目標(biāo)內(nèi)部的物理結(jié)構(gòu)特性以及化學(xué)成分特性的差異,從而實(shí)現(xiàn)地物光譜維度的精細(xì)區(qū)分。高光譜圖像精細(xì)的光譜數(shù)據(jù)為目標(biāo)檢測等提供了數(shù)據(jù)基礎(chǔ)。
在高光譜圖像的目標(biāo)檢測應(yīng)用中,一個(gè)重要的技術(shù)是目標(biāo)光譜特征提取技術(shù),簡稱目標(biāo)特征提取技術(shù)。其能夠在數(shù)百個(gè)高光譜圖像波段中,選擇出十余個(gè)或更少量的特征波段,這些特征波段是目標(biāo)與其他地物區(qū)分的重要特征。通過對(duì)特征波段光譜特性的研究,能夠?yàn)槟繕?biāo)的檢測、識(shí)別提供重要支撐。
目前的目標(biāo)特征提取研究大部分都是針對(duì)目標(biāo)的光譜進(jìn)行研究,而不考慮目標(biāo)所處的背景,對(duì)圖像中其他地物的信息利用不足,因此特征提取效果不理想。
發(fā)明內(nèi)容
有鑒于此,本發(fā)明的目的在于提供一種基于光譜角度的高光譜圖像目標(biāo)特征提取方法,該方法同時(shí)考慮目標(biāo)及圖像背景的特征提取,不需要復(fù)雜的模型和參數(shù),易于實(shí)現(xiàn),可自動(dòng)化執(zhí)行,適用于多種目標(biāo)和背景。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,本發(fā)明采用的技術(shù)方案為:
一種基于光譜角度的高光譜圖像目標(biāo)特征提取方法,用于從總波段數(shù)為L的高光譜圖像中對(duì)某一目標(biāo)進(jìn)行目標(biāo)特征提取;包括以下步驟:
步驟1,計(jì)算高光譜圖像的協(xié)方差矩陣K和均值光譜
步驟2,讀取待處理目標(biāo)的目標(biāo)光譜d以及針對(duì)該目標(biāo)所欲提取的特征數(shù)目n,n<L;
步驟3,利用協(xié)方差矩陣K、均值光譜以及目標(biāo)光譜d,計(jì)算投影均值光譜和投影目標(biāo)光譜投影均值光譜和投影目標(biāo)光譜中均包含m個(gè)元素,即m個(gè)特征,m的初始值為L;
步驟4,從投影均值光譜和投影目標(biāo)光譜中去除第i個(gè)特征,1≤i≤m,形成新的投影均值光譜和投影目標(biāo)光譜
步驟5,針對(duì)i的每一個(gè)取值,計(jì)算相應(yīng)的投影均值光譜和投影目標(biāo)光譜的光譜角度;
步驟6,搜索具有最大光譜角度的投影均值光譜和投影目標(biāo)光譜將其作為新的投影均值光譜和投影目標(biāo)光譜
步驟7,將m減1,若m>n,則重復(fù)步驟4~步驟7,否則,此時(shí)的投影目標(biāo)光譜即為目標(biāo)特征提取結(jié)果。
進(jìn)一步的,所述步驟1中,協(xié)方差矩陣K為:
其中,kij為高光譜圖像第i波段和第j波段的內(nèi)積;
均值光譜為:
其中,xpq為高光譜圖像第p行、第q列的像素光譜,N為高光譜圖像的總行數(shù),M為高光譜圖像的總列數(shù)。
進(jìn)一步的,所述步驟3的具體方式為:
步驟3a,計(jì)算協(xié)方差矩陣K的逆矩陣K-1;
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于中國電子科技集團(tuán)公司第五十四研究所,未經(jīng)中國電子科技集團(tuán)公司第五十四研究所許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.17sss.com.cn/pat/books/202011188705.2/2.html,轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 彩色圖像和單色圖像的圖像處理
- 圖像編碼/圖像解碼方法以及圖像編碼/圖像解碼裝置
- 圖像處理裝置、圖像形成裝置、圖像讀取裝置、圖像處理方法
- 圖像解密方法、圖像加密方法、圖像解密裝置、圖像加密裝置、圖像解密程序以及圖像加密程序
- 圖像解密方法、圖像加密方法、圖像解密裝置、圖像加密裝置、圖像解密程序以及圖像加密程序
- 圖像編碼方法、圖像解碼方法、圖像編碼裝置、圖像解碼裝置、圖像編碼程序以及圖像解碼程序
- 圖像編碼方法、圖像解碼方法、圖像編碼裝置、圖像解碼裝置、圖像編碼程序、以及圖像解碼程序
- 圖像形成設(shè)備、圖像形成系統(tǒng)和圖像形成方法
- 圖像編碼裝置、圖像編碼方法、圖像編碼程序、圖像解碼裝置、圖像解碼方法及圖像解碼程序
- 圖像編碼裝置、圖像編碼方法、圖像編碼程序、圖像解碼裝置、圖像解碼方法及圖像解碼程序





