[發(fā)明專利]一種基于光譜角度的高光譜圖像目標(biāo)特征提取方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011188705.2 | 申請日: | 2020-10-30 |
| 公開(公告)號: | CN112329792B | 公開(公告)日: | 2022-12-09 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 孫康;陳金勇;李方方;王敏;帥通;王士成 | 申請(專利權(quán))人: | 中國電子科技集團(tuán)公司第五十四研究所 |
| 主分類號: | G06V10/46 | 分類號: | G06V10/46 |
| 代理公司: | 河北東尚律師事務(wù)所 13124 | 代理人: | 王文慶 |
| 地址: | 050081 河北省石家莊市中山西路*** | 國省代碼: | 河北;13 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 基于 光譜 角度 圖像 目標(biāo) 特征 提取 方法 | ||
1.一種基于光譜角度的高光譜圖像目標(biāo)特征提取方法,其特征在于,用于從總波段數(shù)為L的高光譜圖像中對某一目標(biāo)進(jìn)行目標(biāo)特征提取;包括以下步驟:
步驟1,計(jì)算高光譜圖像的協(xié)方差矩陣K和均值光譜協(xié)方差矩陣K為:
其中,kij為高光譜圖像第i波段和第j波段的內(nèi)積;
均值光譜為:
其中,xpq為高光譜圖像第p行、第q列的像素光譜,N為高光譜圖像的總行數(shù),M為高光譜圖像的總列數(shù);
步驟2,讀取待處理目標(biāo)的目標(biāo)光譜d以及針對該目標(biāo)所欲提取的特征數(shù)目n,n<L;
步驟3,利用協(xié)方差矩陣K、均值光譜以及目標(biāo)光譜d,計(jì)算投影均值光譜和投影目標(biāo)光譜投影均值光譜和投影目標(biāo)光譜中均包含m個(gè)元素,即m個(gè)特征,m的初始值為L;
步驟4,從投影均值光譜和投影目標(biāo)光譜中去除第i個(gè)特征,1≤i≤m,形成新的投影均值光譜和投影目標(biāo)光譜
步驟5,針對i的每一個(gè)取值,計(jì)算相應(yīng)的投影均值光譜和投影目標(biāo)光譜的光譜角度;
步驟6,搜索具有最大光譜角度的投影均值光譜和投影目標(biāo)光譜將其作為新的投影均值光譜和投影目標(biāo)光譜
步驟7,將m減1,若m>n,則重復(fù)步驟4~步驟7,否則,此時(shí)的投影目標(biāo)光譜即為目標(biāo)特征提取結(jié)果。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于光譜角度的高光譜圖像目標(biāo)特征提取方法,其特征在于,所述步驟3的具體方式為:
步驟3a,計(jì)算協(xié)方差矩陣K的逆矩陣K-1;
步驟3b,計(jì)算投影均值光譜
其中,為的轉(zhuǎn)置;
步驟3c,計(jì)算投影目標(biāo)光譜
其中,dT為d的轉(zhuǎn)置。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種基于光譜角度的高光譜圖像目標(biāo)特征提取方法,其特征在于,所述步驟5中,投影均值光譜和投影目標(biāo)光譜的光譜角度為:
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