[發(fā)明專利]一種曝光機自動上下料系統(tǒng)及方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202011151879.1 | 申請日: | 2020-10-23 |
| 公開(公告)號: | CN112407841B | 公開(公告)日: | 2022-09-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 趙濤;周超;陳國軍;吳景舟;馬迪 | 申請(專利權(quán))人: | 江蘇迪盛智能科技有限公司 |
| 主分類號: | B65G43/08 | 分類號: | B65G43/08;B65G47/74;B65G47/24;B65G11/02;G03F7/20 |
| 代理公司: | 蘇州集律知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(普通合伙) 32269 | 代理人: | 安紀平 |
| 地址: | 215000 江蘇省蘇州市吳中*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 曝光 自動 上下 系統(tǒng) 方法 | ||
1.一種曝光機自動上下料系統(tǒng),其特征在于,所述系統(tǒng)包括:
上料機,所述上料機包括上料臺和設(shè)置在上料臺上的第一上料口,所述上料臺上放置有至少一個被曝光物體,所述被曝光物體在上料臺上沿上料方向移動到所述第一上料口,且自所述第一上料口沿與上料方向相垂直的進料方向輸送給曝光機,所述被曝光物體在上料臺上的放置方向與所述上料方向和進料方向均垂直;
曝光機,所述曝光機包括可沿豎直方向移動的梁架、固定于梁架上的曝光光源、固定夾板和可相對固定夾板上下移動的移動夾板,所述移動夾板與所述固定夾板之間形成工作區(qū)域,所述工作區(qū)域包括預(yù)上料區(qū)、曝光區(qū)和下料區(qū),所述預(yù)上料區(qū)與第一上料口對接,自所述第一上料口輸送過來的被曝光物體經(jīng)所述預(yù)上料區(qū)輸送到曝光區(qū)進行曝光,曝光后經(jīng)所述下料區(qū)輸送給下料機,所述曝光區(qū)包括曝光光源,所述曝光光源照射出的光源與被曝光物體的曝光面相垂直;
下料機,所述下料機包括下料臺和設(shè)置在下料臺上的第一下料口,所述第一下料口與所述下料區(qū)對接,曝光后的被曝光物體自所述第一下料口沿與進料方向相同的出料方向輸送給下料臺,所述被曝光物體在下料臺上沿與出料方向相垂直的下料方向下料,所述被曝光物體在下料臺上的放置方向與所述出料方向和下料方向均垂直;
上下料控制裝置,與所述上料機、曝光機和下料機均相連,用于控制上料機、曝光機和下料機分別進行上料、曝光和下料,其中,
所述被曝光物體從上料、曝光到下料過程中始終處于豎直設(shè)置狀態(tài)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種曝光機自動上下料系統(tǒng),其特征在于,所述上料機包括設(shè)置于上料臺上的上料架、傳動裝置和導(dǎo)軌,所述被曝光物體卡固在所述上料架上,所述導(dǎo)軌在上料臺上沿上料方向延伸設(shè)置,所述傳動裝置與上料架相連,驅(qū)動上料架沿導(dǎo)軌移動。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的一種曝光機自動上下料系統(tǒng),其特征在于,所述上料架包括導(dǎo)槽板和卡槽柱,所述導(dǎo)槽板位于上料臺上,且所述導(dǎo)槽板上設(shè)置多個導(dǎo)槽,多個導(dǎo)槽在上料臺上沿上料方向延伸,且每個導(dǎo)槽沿進料方向延伸;所述卡槽柱的一端與導(dǎo)槽板靠近第一上料口的一端相固定連接,且所述卡槽柱向靠近導(dǎo)槽板的方向傾斜設(shè)置,所述卡槽柱上設(shè)置多個與導(dǎo)槽一一對應(yīng)的卡槽,每個被曝光物體的底端和與底端相鄰的一側(cè)端分別卡置于導(dǎo)槽和對應(yīng)的卡槽內(nèi)。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種曝光機自動上下料系統(tǒng),其特征在于,所述第一上料口設(shè)置于上料臺的位于進料方向的一側(cè)端上,上料架在傳動裝置的驅(qū)動下將放置有被曝光物體的導(dǎo)槽移動到第一上料口處。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種曝光機自動上下料系統(tǒng),其特征在于,所述曝光機為LDI激光直寫式曝光機,所述曝光機靠近預(yù)上料區(qū)的一側(cè)設(shè)置有第二上料口,所述第二上料口與上料機的第一上料口對接;所述曝光機靠近下料區(qū)的一側(cè)設(shè)置有第二下料口,所述第二下料口與下料機的第一下料口對接。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種曝光機自動上下料系統(tǒng),其特征在于,所述下料機的結(jié)構(gòu)與上料機的結(jié)構(gòu)相同。
7.一種基于權(quán)利要求3~6任意一項所述的曝光機自動上下料系統(tǒng)的曝光機自動上下料方法,其特征在于,所述方法包括:
S100,上料機將上料臺上的被曝光物體沿上料方向移動到第一上料口,自所述第一上料口沿與上料方向相垂直的進料方向輸送給曝光機的預(yù)上料區(qū);
S200,所述曝光機的預(yù)上料區(qū)將被曝光物體輸送到曝光區(qū)進行曝光,曝光后經(jīng)曝光機的下料區(qū)輸送給下料機;
S300,曝光后的被曝光物體自下料機的第一下料口沿與進料方向相同的出料方向輸送給下料臺,在下料臺上沿與出料方向相垂直的下料方向下料。
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