[發明專利]對齊模塊在審
| 申請號: | 202011069579.9 | 申請日: | 2017-04-24 |
| 公開(公告)號: | CN112133655A | 公開(公告)日: | 2020-12-25 |
| 發明(設計)人: | 樸海允;金娧永;梁孝誠;樸贊洙;金潁俊 | 申請(專利權)人: | 圓益IPS股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/67 | 分類號: | H01L21/67;H01L21/68 |
| 代理公司: | 北京青松知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 11384 | 代理人: | 鄭青松 |
| 地址: | 韓國京畿道平*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 對齊 模塊 | ||
1.一種對齊模塊,用于從外部導入兩張直四角形基板(1)后,在向水平方向平行配置的狀態下,排列所述兩張直四角形基板(1)的水平位置,其特征在于,包括:
對齊腔室(100),形成密閉的內部空間;及
基板支承部件(130),設置在所述對齊腔室(100)上,支承兩張基板(1);及
對齊部(200),設置在所述對齊腔室(100)上,排列通過所述基板支承部件(130)支承的兩張直四角形基板(1)的水平位置,且
所述對齊部(200)包括:
中央排列部(210),包括多個中央排列部件(212),所述多個中央排列部件(212)為了從所述兩張直四角形基板(1)構成的第一直四角形的一側向所述兩張直四角形基板(1)相對的一對內側邊之間進行線形移動,從而支承所述一對內側邊,將與基板(1)的配置方向形成垂直的水平假想中心線L為標準,從所述水平假想中心線L的最外側部分S逐漸向基板(1)的方向與所述水平假想中心線L靠近地配置;及
一對側面排列部(220),在所述兩張直四角形基板(1)的頂點中,將所述中央排列部件(212)的位置安置在對向對角線方向的所述兩張直四角形基板(1)的頂點上,從而通過旋轉和線形移動中至少任意一種方式向水平方向分別加壓所述兩張直四角形基板(1)。
2.根據權利要求1所述的對齊模塊,其特征在于,
所述中央排列部(210)包括排列部件移動部(214),
用于從所述第一直四角形的一側向所述一對內側邊之間線形移動所述多個中央排列部件(212)。
3.根據權利要求2所述的對齊模塊,其特征在于,
所述中央排列部(210)包括主體部(215),
所述主體部(215)設置有所述多個中央排列部件(212),并通過所述排列部件移動部(214)線形移動。
4.根據權利要求3所述的對齊模塊,其特征在于,
第一假想配置線A1和第二假想配置線A2以所述水平假想中心線L為中心構成線對稱,
所述多個中央排列部件(212)構成圓柱狀,其中心沿著所述第一假想配置線A1和第二假想配置線A2而配置。
5.根據權利要求4所述的對齊模塊,其特征在于,
所述多個中央排列部件(212)的外徑相同。
6.根據權利要求4所述的對齊模塊,其特征在于,
所述多個中央排列部件(212)遠離基板(1)的同時,其外徑增加。
7.根據權利要求3所述的對齊模塊,其特征在于,
所述多個中央排列部件(212)沿著所述水平假想中心線L以一列配置,并在遠離基板(1)的同時,其外徑增加。
8.根據權利要求1至7中任意一項所述的對齊模塊,其特征在于,
所述中央排列部(210)還包括間隔擴張部件(218),
所述間隔擴張部件(218)以朝向所述一對內側邊的方向為標準,從所述中央排列部(212)的前方進入至所述內側邊之間,當由于線形移動導致所述內側邊之間的間隔比預先設定的最小間隔小時,加壓所述內側邊從而使所述一對內側邊之間的間隔擴張。
9.根據權利要求8所述的對齊模塊,其特征在于,
所述間隔擴張部件(218)向所述一對內側邊的方向移動的同時,其水平寬度呈現逐漸減小的錐狀。
10.根據權利要求1至7中任意一項所述的對齊模塊,其特征在于,
所述中央排列部(210)包括外廓支承部件(219),
所述外廓支承部件(219)支承與所述內側邊鄰接的所述兩張直四角形基板(1)的外側邊。
11.根據權利要求10所述的對齊模塊,其特征在于,
所述外廓支承部件(219)能夠調整朝向所述內側邊方向的設置位置。
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H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內或其上形成的多個固態組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造





