[發明專利]干燥裝置、干燥方法、清洗干燥系統及清洗干燥方法有效
| 申請號： | 202011024121.1 | 申請日： | 2020-09-25 |
| 公開（公告）號： | CN112146359B | 公開（公告）日： | 2022-03-11 |
| 發明（設計）人： | 劉峻 | 申請（專利權）人： | 長江存儲科技有限責任公司 |
| 主分類號： | F26B5/04 | 分類號： | F26B5/04;F26B9/06;F26B21/14;F26B23/04;F26B25/00;F26B25/18;B08B3/08 |
| 代理公司： | 上海專利商標事務所有限公司 31100 | 代理人： | 周全 |
| 地址： | 430079 湖北省武*** | 國省代碼： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 干燥 裝置 方法 清洗 系統 | ||
1.一種干燥裝置，用于對通過刻蝕形成有深孔的晶圓進行干燥，其特征在于，包括：
腔室，所述腔室設置于對所述晶圓進行刻蝕的刻蝕腔體內；
旋轉吸盤，該旋轉吸盤以吸附面朝下的方式倒置于所述腔室內，設置成能繞轉軸旋轉；
電源，該電源連接至所述旋轉吸盤，向所述旋轉吸盤供電；及
底座，該底座以能與所述旋轉吸盤一起旋轉的方式設置于所述旋轉吸盤的吸附面，用于固定所述晶圓。
2.如權利要求1所述的干燥裝置，其特征在于，
所述底座以靜電吸附的方式固定所述晶圓。
3.如權利要求1所述的干燥裝置，其特征在于，
所述腔室具有進氣口和出氣口，
所述干燥裝置還包括真空泵，該真空泵連接至所述腔室的所述出氣口，
從所述進氣口向所述腔室內導入干燥氣體，利用所述真空泵經由所述出氣口將所述干燥氣體導出至外部。
4.如權利要求3所述的干燥裝置，其特征在于，
所述干燥氣體是N2氣體、IPA氣體、CO2氣體中的任意一種或多種。
5.如權利要求1至4中任一項所述的干燥裝置，其特征在于，
還包括加熱器，該加熱器用于對所述腔室的內部進行加熱。
6.如權利要求5所述的干燥裝置，其特征在于，
所述加熱器設置于所述旋轉吸盤內。
7.如權利要求5所述的干燥裝置，其特征在于，
所述加熱器與所述旋轉吸盤隔開設置。
8.一種干燥方法，用于對通過刻蝕形成有深孔的晶圓進行干燥，其特征在于，包括如下步驟：
將所述晶圓固定于底座的步驟，所述底座以能與旋轉吸盤一起旋轉的方式設置于所述旋轉吸盤的吸附面，所述旋轉吸盤以所述吸附面朝下的方式倒置于腔室內，設置成能繞轉軸旋轉，所述腔室設置于對所述晶圓進行刻蝕的刻蝕腔體內；及
接通電源，使所述旋轉吸盤繞轉軸旋轉，利用重力和離心力使所述晶圓的所述深孔中的水分脫離的步驟。
9.如權利要求8所述的干燥方法，其特征在于，
所述晶圓以靜電吸附的方式固定于所述底座。
10.如權利要求8所述的干燥方法，其特征在于，
還包括經由所述腔室的進氣口向所述腔室內導入干燥氣體，并利用真空泵經由所述腔室的出氣口將所述干燥氣體導出至外部的步驟。
11.如權利要求10所述的干燥方法，其特征在于，
所述干燥氣體是N2氣體、IPA氣體、CO2氣體中的任意一種或多種。
12.如權利要求8至11中任一項所述的干燥方法，其特征在于，
還包括利用加熱器對所述腔室的內部進行加熱，以加快所述晶圓的所述深孔中的水分蒸發的步驟。
13.一種清洗干燥系統，用于對通過刻蝕形成有深孔的晶圓進行清洗和干燥，其特征在于，包括：
清洗裝置，該清洗裝置設置于對所述晶圓進行刻蝕的刻蝕腔體內，用于清洗所述晶圓；及
如權利要求1至7中任一項所述的干燥裝置。
14.如權利要求13所述的清洗干燥系統，其特征在于，
所述清洗裝置利用清洗液對所述晶圓進行清洗。
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