[發明專利]曝光裝置及曝光方法有效
| 申請號： | 202010854084.0 | 申請日： | 2020-08-24 |
| 公開（公告）號： | CN111965949B | 公開（公告）日： | 2023-06-06 |
| 發明（設計）人： | 朱天宇;杜衛沖 | 申請（專利權）人： | 中山新諾科技股份有限公司 |
| 主分類號： | G03F7/20 | 分類號： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人： | 朱志達 |
| 地址： | 528437 廣東*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 曝光 裝置 方法 | ||
1.一種曝光裝置，其特征在于，包括：
機架；
第一曝光組件和第二曝光組件，所述第一曝光組件和所述第二曝光組件均設在所述機架上，所述第一曝光組件和所述第二曝光組件之間形成曝光區，所述第一曝光組件和所述第二曝光組件分別用于曝光基板的上板面和下板面，所述曝光區包括第一區域和第二區域；
所述第一曝光組件包括第一曝光引擎和第三曝光引擎，所述第二曝光組件包括第二曝光引擎和第四曝光引擎，所述第一曝光引擎與所述第三曝光引擎沿所述基板的前進方向間隔布置，所述第二曝光引擎與所述第四曝光引擎沿所述基板的前進方向間隔布置，所述第一區域與所述第一曝光引擎和所述第二曝光引擎的曝光范圍對應，所述第二區域與所述第三曝光引擎和所述第四曝光引擎的曝光范圍對應；
監測組件，所述監測組件設在所述機架上，所述監測組件用于監測基板的位置，所述監測組件包括第一監測組件、第二監測組件、第三監測組件和第四監測組件，所述第一監測組件和所述第二監測組件用于監測所述基板進入所述第一區域時或進入所述第一區域之后的位置，所述第三監測組件和所述第四監測組件用于監測所述基板進入所述第二區域時或進入所述第二區域之后的位置及
控制器，所述控制器與所述第一曝光引擎、第三曝光引擎、第二曝光引擎和第四曝光引擎電性連接，所述第一監測組件、第二監測組件、第三監測組件和第四監測組件均與所述控制器電性連接并將監測信息反饋至所述控制器。
2.根據權利要求1所述的曝光裝置，其特征在于，所述機架包括底板、第一側板和第二側板，所述第一側板和所述第二側板分別固定在所述底板的相對兩端，所述第一曝光組件和所述第二曝光組件均設在所述第一側板和所述第二側板之間。
3.根據權利要求2所述的曝光裝置，其特征在于，所述第一曝光組件還包括第一安裝架，所述第一安裝架的兩端分別與所述第一側板和所述第二側板固定，所述第一曝光引擎設在所述第一安裝架上，所述第一曝光引擎設有至少一個并能夠沿所述第一安裝架移動；
所述第二曝光組件還包括第二安裝架，所述第二安裝架的兩端分別與所述第一側板和所述第二側板固定，所述第二曝光引擎設在所述第二安裝架上，所述第二曝光引擎設有至少一個并能夠沿所述第二安裝架移動。
4.根據權利要求3所述的曝光裝置，其特征在于，所述第一曝光組件還包括第一支撐桿，所述第一支撐桿設有兩個并分別固定在所述第一側板和所述第二側板上，所述第一安裝架的兩端分別與對應的所述第一支撐桿固定；
所述第二曝光組件還包括第二支撐桿，所述第二支撐桿設有兩個并分別固定在所述第一側板和所述第二側板，所述第二安裝架的兩端分別與對應的所述第二支撐桿固定。
5.根據權利要求4所述的曝光裝置，其特征在于，所述第一曝光組件還包括第三安裝架，所述第三安裝架的兩端分別與對應的所述第一支撐桿固定，所述第三安裝架與所述第一安裝架呈間隔設置，所述第三曝光引擎設在所述第三安裝架上，所述第三曝光引擎設有至少一個并能夠沿所述第三安裝架移動；
所述第二曝光組件還包括第四安裝架，所述第四安裝架的兩端分別與對應的所述第二支撐桿固定，所述第四安裝架與所述第二安裝架呈間隔設置，所述第四曝光引擎設在所述第四安裝架上，所述第四曝光引擎設有至少一個并能夠沿所述第四安裝架移動。
6.根據權利要求5所述的曝光裝置，其特征在于，所述第一監測組件和所述第二監測組件均設有至少兩個；所述第三監測組件和所述第四監測組件均設有至少兩個。
7.根據權利要求1-6任一項所述的曝光裝置，其特征在于，所述曝光裝置還包括滾動組件，所述滾動組件設在所述機架上，所述第一曝光組件和所述第二曝光組件分別位于所述滾動組件的相對兩側；
所述滾動組件包括第一滾輪和第二滾輪，所述第一滾輪和所述第二滾輪沿所述基板的移動方向呈間隔轉動設在所述機架上。
8.一種基于權利要求1所述的曝光裝置的曝光方法，其特征在于，包括以下步驟：
監測基板的第一位置信息；
根據所述第一位置信息調整第一原始曝光信息，并得到第一曝光信息；
根據所述第一曝光信息對所述基板進行曝光；
監測所述基板的第二位置信息，所述第二位置信息指所述基板在所述第一曝光引擎和所述第二曝光引擎曝光后，進入所述第三曝光引擎和所述第四曝光引擎的曝光區域時基板的位置信息；
根據所述第二位置信息調整第二原始曝光信息，并得到第二曝光信息；
根據所述第二曝光信息對所述基板進行曝光。
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