[發(fā)明專利]一種光學(xué)薄膜成膜直接式光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)及其監(jiān)控測(cè)量方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010580681.9 | 申請(qǐng)日： | 2020-06-23 |
| 公開(kāi)（公告）號(hào)： | CN111609802A | 公開(kāi)（公告）日： | 2020-09-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 吳萍;長(zhǎng)家武彥;徐波;張?jiān)侘?/a>;佐藤文哉;上川尚;河崎直樹(shù);汪洋;龍汝磊;江耔昊;潘書躍;馬輝 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 光馳科技（上海）有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G01B11/06 | 分類號(hào)： | G01B11/06;C23C14/54;G02B1/10 |
| 代理公司： | 上海申蒙商標(biāo)專利代理有限公司 31214 | 代理人： | 周宇凡 |
| 地址： | 200444 上海市寶*** | 國(guó)省代碼： | 上海;31 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說(shuō)明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 光學(xué)薄膜 直接 光學(xué) 監(jiān)控 系統(tǒng) 及其 測(cè)量方法 | ||
1.一種光學(xué)薄膜成膜直接式光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)，可實(shí)現(xiàn)對(duì)鍍膜基片上的薄膜厚度及膜厚變化進(jìn)行檢測(cè)，其特征在于：所述監(jiān)控系統(tǒng)包括兩組或兩組以上可分別獨(dú)立形成監(jiān)控光路的光源發(fā)送器和光源接收器，兩路或兩路以上所述監(jiān)控光路均穿透所述鍍膜基片且沿所述鍍膜基片上的薄膜覆膜延伸方向間隔布置，所述光源接收器連接有將所述監(jiān)控光路的光信號(hào)轉(zhuǎn)化為可反映所述鍍膜基片上薄膜厚度信息的數(shù)據(jù)處理器。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光學(xué)薄膜成膜直接式光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)，其特征在于：至少一組所述光源發(fā)送器和所述光源接收器分別連接有位移機(jī)構(gòu)，所述位移機(jī)構(gòu)可驅(qū)動(dòng)所述光源發(fā)送器和所述光源接收器所形成的監(jiān)控光路沿所述鍍膜基片上的薄膜覆膜延伸方向位移。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的一種光學(xué)薄膜成膜直接式光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)，其特征在于：所述監(jiān)控光路可通過(guò)自所述鍍膜基片由下至上的上投光式布置，或自所述鍍膜基片由上至下的下投光式布置。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的一種光學(xué)薄膜成膜直接式光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)，其特征在于：所述監(jiān)控光路為激光監(jiān)控光路，所述光源發(fā)送器將激光發(fā)射至所述光源接收器。
5.根據(jù)權(quán)利要求3所述的一種光學(xué)薄膜成膜直接式光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)，其特征在于：所述光源發(fā)送器包括激光電源、激光發(fā)送鏡頭及光斬波器，所述激光光源通過(guò)光纖連接所述光斬波器，所述光斬波器通過(guò)光纖連接所述激光發(fā)送鏡頭，所述激光電源發(fā)出的激光自所述激光發(fā)送鏡頭發(fā)射至所述光源接收器。
6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的一種光學(xué)薄膜成膜直接式光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)，其特征在于：所述光源接收器包括激光接收鏡頭、探測(cè)器、數(shù)據(jù)處理器以及功率計(jì)，所述激光接收鏡頭通過(guò)光纖連接探測(cè)器，所述探測(cè)器分別連接所述數(shù)據(jù)處理器和所述功率計(jì)，且所述數(shù)據(jù)處理器連接所述光斬波器的斬波控制器。
7.一種涉及權(quán)利要求1所述的光學(xué)薄膜成膜直接式光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)的監(jiān)控測(cè)量方法，其特征在于：在真空鍍膜設(shè)備內(nèi)布置兩組或兩組以上光源發(fā)送器和光源接收器以形成對(duì)鍍膜基片的兩路或兩路以上的監(jiān)控光路；所述兩路或兩路以上監(jiān)控光路沿所述鍍膜基片上的薄膜覆膜延伸方向間隔布置且穿透所述鍍膜基片；根據(jù)所述兩路或兩路以上監(jiān)控光路所監(jiān)控反饋的薄膜厚度信息確定所述鍍膜基片上滿足膜厚設(shè)計(jì)要求的合格區(qū)域的面積。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的一種光學(xué)薄膜成膜直接式光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)的監(jiān)控測(cè)量方法，其特征在于：一路所述監(jiān)控光路的位置固定，另一路所述監(jiān)控光路的位置沿所述薄膜覆膜延伸方向位移，實(shí)現(xiàn)一鍍膜基片上的所述合格區(qū)域的面積的確定，或不同尺寸的所述鍍膜基片上的所述合格區(qū)域的面積的確定。
9.一種涉及權(quán)利要求1所述的光學(xué)薄膜成膜直接式光學(xué)監(jiān)控系統(tǒng)的監(jiān)控測(cè)量方法，其特征在于：在真空鍍膜設(shè)備內(nèi)布置兩組或兩組以上光源發(fā)送器和光源接收器以形成對(duì)鍍膜基片的兩路或兩路以上監(jiān)控光路；所述兩路或兩路以上監(jiān)控光路沿所述鍍膜基片上的薄膜覆膜延伸方向間隔布置且穿透所述鍍膜基片；在鍍膜過(guò)程中通過(guò)兩路或兩路以上所述監(jiān)控光路進(jìn)行中間測(cè)量，根據(jù)所述兩路或兩路以上監(jiān)控光路所監(jiān)控反饋的薄膜厚度信息修正所述真空鍍膜設(shè)備的鍍膜工藝參數(shù)。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息，商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于光馳科技（上海）有限公司，未經(jīng)光馳科技（上海）有限公司許可，擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作，請(qǐng)聯(lián)系【客服】
本文鏈接：http://www.17sss.com.cn/pat/books/202010580681.9/1.html，轉(zhuǎn)載請(qǐng)聲明來(lái)源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇：一種接骨膏及其制作方法
- 下一篇：一種新型高效節(jié)能釬焊爐的釬焊段
- 多級(jí)校內(nèi)監(jiān)控系統(tǒng)
- 多級(jí)校內(nèi)監(jiān)控系統(tǒng)
- 一種范圍廣、力度大的校內(nèi)監(jiān)控系統(tǒng)
- 一種監(jiān)控的方法及系統(tǒng)
- 設(shè)備的監(jiān)控方法、裝置、系統(tǒng)和空調(diào)
- 多級(jí)校內(nèi)監(jiān)控系統(tǒng)
- 設(shè)備監(jiān)控方法、裝置、計(jì)算機(jī)設(shè)備及存儲(chǔ)介質(zhì)
- 風(fēng)險(xiǎn)雷達(dá)預(yù)警的監(jiān)控方法及系統(tǒng)
- 區(qū)塊鏈網(wǎng)絡(luò)監(jiān)控系統(tǒng)、裝置及方法
- 基于機(jī)器視覺(jué)的車站客流安全智能監(jiān)控系統(tǒng)
