[發(fā)明專利]一種多氣環(huán)多逃逸通道的透明窗產(chǎn)生裝置和在線測量系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010396945.5 | 申請日: | 2020-05-12 |
| 公開(公告)號: | CN111693647B | 公開(公告)日: | 2022-12-20 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 高詠生;朱錦煒 | 申請(專利權(quán))人: | 香港科技大學(xué) |
| 主分類號: | G01N33/00 | 分類號: | G01N33/00 |
| 代理公司: | 北京天昊聯(lián)合知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人: | 彭瑞欣;姜春咸 |
| 地址: | 中國香港*** | 國省代碼: | 香港;81 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 多氣環(huán)多 逃逸 通道 透明 產(chǎn)生 裝置 在線 測量 系統(tǒng) | ||
本發(fā)明提供一種多氣環(huán)多逃逸通道的透明窗產(chǎn)生裝置,該透明窗產(chǎn)生裝置用于在線測量系統(tǒng),所述透明窗產(chǎn)生裝置的一側(cè)表面為執(zhí)行面,所述執(zhí)行面用于朝向待檢測的工件設(shè)置,所述透明窗產(chǎn)生裝置包括至少一組測量通道、至少一組輔助噴氣通道、至少一組主環(huán)形噴氣通道和至少一組環(huán)形排氣通道,每組所述輔助噴氣通道包括至少一個所述輔助噴氣通道,每組所述主環(huán)形噴氣通道包括至少一個所述主環(huán)形噴氣通道,每組所述環(huán)形排氣通道包括至少一個所述環(huán)形排氣通道。本發(fā)明還提供一種在線測量系統(tǒng),能夠?qū)ぜ砻孢M(jìn)行精確測量。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及機(jī)加工中的在線測量系統(tǒng),具體地,涉及一種多氣環(huán)多逃逸通道的透明窗產(chǎn)生裝置和一種包括該透明窗產(chǎn)生裝置的在線測量系統(tǒng)。
背景技術(shù)
在對工件進(jìn)行機(jī)加工時,為了判斷工件的表面狀態(tài),需要對工件的表面狀態(tài)進(jìn)行測量。
現(xiàn)有的測量類型包括在線測量、離線測量和在位測量,其中,因在線測量不會打斷正在進(jìn)行的機(jī)加工過程,因此,得到了越來越廣泛的應(yīng)用。
在機(jī)加工的過程中刀具與工件相互作用產(chǎn)生大量的熱以及大量的切屑,為了提高加工精度、保證工件表面質(zhì)量以及刀具的壽命,必須使用冷卻劑降低加工過程中工件的表面溫度。但是,冷卻劑的存在容易影響到在線測量的準(zhǔn)確性。
因此,如何避免冷卻劑對在線測量造成不良影響成為本領(lǐng)域亟待解決的技術(shù)問題。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種多氣環(huán)多逃逸通道的透明窗產(chǎn)生裝置和一種包括該透明窗產(chǎn)生裝置的在線測量系統(tǒng),所述透明窗產(chǎn)生裝置能夠在對正在加工的工件進(jìn)行測量時,降低甚至消除冷卻劑對測量的影響。
為了實(shí)現(xiàn)上述目的,作為本發(fā)明的一個方面,提供一種多氣環(huán)多逃逸通道的透明窗產(chǎn)生裝置,該透明窗產(chǎn)生裝置用于在線測量系統(tǒng),其特征在于,所述透明窗產(chǎn)生裝置的一側(cè)表面為執(zhí)行面,所述執(zhí)行面用于朝向待檢測的工件設(shè)置,所述透明窗產(chǎn)生裝置包括至少一組測量通道、至少一組輔助噴氣通道、至少一組主環(huán)形噴氣通道和至少一組環(huán)形排氣通道,每組所述輔助噴氣通道包括至少一個所述輔助噴氣通道,每組所述主環(huán)形噴氣通道包括至少一個所述主環(huán)形噴氣通道,每組所述主環(huán)形排氣通道包括至少一個所述環(huán)形排氣通道:
每組所述測量通道都包括探測信號入口、探測信號出口和探測口,所述探測口形成在所述執(zhí)行面上,且所述測量通道用于將探測信號入口入射的信號引導(dǎo)至所述探測口,并將從探測口入射的信號引導(dǎo)至所述探測信號出口;
每組所述主環(huán)形噴氣通道對應(yīng)一組所述測量通道,所述主環(huán)形噴氣通道的出口形成在所述執(zhí)行面上,所述主環(huán)形噴氣通道環(huán)繞在相應(yīng)的所述測量通道外部,且所述主環(huán)形噴氣通道設(shè)置為使得該主環(huán)形噴氣通道噴出的氣體朝遠(yuǎn)離該主環(huán)形噴氣通道對應(yīng)的所述測量通道的方向流動;
每組所述輔助噴氣通道對應(yīng)一組所述測量通道,所述噴氣通道的出口形成在所述執(zhí)行面上,所述噴氣通道用于朝相應(yīng)的所述探測口的外圍噴出氣體,且所述噴氣通道設(shè)置為使得該噴氣通道噴出的氣體朝遠(yuǎn)離該噴氣通道對應(yīng)的探測口的方向流動;
每組所述環(huán)形排氣通道對應(yīng)一組所述主環(huán)形噴氣通道,所述環(huán)形排氣通道的入口形成在所述執(zhí)行面上,所述環(huán)形排氣通道環(huán)繞相應(yīng)的主環(huán)形噴氣通道設(shè)置。
可選地,每組所述主環(huán)形噴氣通道包括間隔設(shè)置的多個所述主環(huán)形噴氣通道。
可選地,所述透明窗產(chǎn)生裝置還包括至少一條補(bǔ)氣通道,在同一組所述主環(huán)形噴氣通道中,相鄰兩個所述主環(huán)形噴氣通道之間設(shè)置有所述補(bǔ)氣通道。
可選地,相鄰兩個所述主環(huán)形噴氣通道之間設(shè)置有多個所述補(bǔ)氣通道,多個所述補(bǔ)氣通道環(huán)繞所述主環(huán)形噴氣通道的軸線均勻間隔設(shè)置。
可選地,所述主環(huán)形噴氣通道包括互相連通的豎直環(huán)形噴氣通道部和傾斜環(huán)形噴氣通道部,所述傾斜環(huán)形噴氣通道的一端開口與所述豎直環(huán)形噴氣通道部連通,所述傾斜環(huán)形噴氣通道部的另一端開口形成在所述執(zhí)行面上。
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