[發(fā)明專利]質(zhì)量范圍改進(jìn)的離子俘獲方案在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010174928.7 | 申請(qǐng)日: | 2020-03-13 |
| 公開(公告)號(hào): | CN111696846A | 公開(公告)日: | 2020-09-22 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | D·諾爾丁;A·馬卡羅夫;A·彼得森 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 塞莫費(fèi)雪科學(xué)(不來梅)有限公司 |
| 主分類號(hào): | H01J49/06 | 分類號(hào): | H01J49/06;H01J49/42 |
| 代理公司: | 上海專利商標(biāo)事務(wù)所有限公司 31100 | 代理人: | 陶家蓉;陳揚(yáng)揚(yáng) |
| 地址: | 德國(guó)*** | 國(guó)省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 質(zhì)量 范圍 改進(jìn) 離子 俘獲 方案 | ||
本發(fā)明提供在離子俘獲組件100、120中俘獲離子的方法和控制離子俘獲組件100、120中離子俘獲的控制器130。本發(fā)明的一種方法包括向所述離子俘獲組件100、120引入離子,向所述離子俘獲組件100、120施加第一RF俘獲振幅,從而俘獲具有第一m/z比范圍內(nèi)m/z比的引入離子,并且冷卻所述俘獲的離子。該方法還包括將RF俘獲振幅從第一RF俘獲振幅降至較低的第二RF俘獲振幅,從而降低所述離子俘獲組件100、120的低質(zhì)量截止值,并且在較低的第二RF俘獲振幅,俘獲具有第二m/z比范圍內(nèi)m/z比的引入離子。第二m/z比范圍的質(zhì)量下限值低于施加第一RF俘獲振幅時(shí)所述離子俘獲組件100、120的低質(zhì)量截止值。保持所述離子俘獲組件100、120中已俘獲離子的總數(shù)低于作為第一和第二RF俘獲振幅的函數(shù)測(cè)定的閾值。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及在離子俘獲組件中俘獲離子。
背景技術(shù)
質(zhì)譜是重要的化學(xué)分析技術(shù)。通常,質(zhì)譜儀包括從樣品生成離子的離子源、各種透鏡、濾質(zhì)器、離子俘獲/儲(chǔ)存裝置和/或碎裂裝置、和一個(gè)或多個(gè)質(zhì)量分析器。
質(zhì)譜儀的一個(gè)重要組件是線性離子阱。這種線性離子阱的一個(gè)實(shí)例是彎曲的線性離子阱或C-阱,其在使用勢(shì)阱的俘獲容積中儲(chǔ)存/俘獲離子,其中通過施加RF電勢(shì)至一組彎曲的細(xì)長(zhǎng)棒(一般布置為四極桿、六極桿或八極桿),產(chǎn)生所述勢(shì)阱。
線性離子阱的一個(gè)應(yīng)用是作為質(zhì)量分析之前的居間儲(chǔ)存裝置。例如,C-阱可以用來儲(chǔ)存離子并注入軌道俘獲質(zhì)量分析器,如Thermo FisherScientific以名稱銷售的設(shè)備。這些質(zhì)量分析器具有高的質(zhì)量準(zhǔn)確度和高的質(zhì)量分辨率,并且因此越來越多地用于檢測(cè)有機(jī)小分子,如用于食品和藥品分析、代謝組學(xué)和反禁藥應(yīng)用。本文中,術(shù)語質(zhì)量可以用來指質(zhì)荷比m/z。
線性離子阱的難題之一是可以被同時(shí)俘獲的各質(zhì)量的范圍。離子可通過以下方式俘獲于線性阱中:向縱向電極施加RF電壓,以徑向限制離子,同時(shí)向安置于縱向電極對(duì)面軸向末端的末端電極施加靜(DC)電勢(shì),以軸向限制離子。由給定的已施加RF電壓產(chǎn)生的贗勢(shì)阱在強(qiáng)度上隨離子質(zhì)量漸增而降低。但是,質(zhì)量更大的離子具有與質(zhì)量更小的離子相似的動(dòng)能。因此,質(zhì)量更大的離子更可能具有足夠能量逃脫由給定的所施加RF俘獲振幅所產(chǎn)生的贗勢(shì)阱,并且因此更可能在該阱中衰減。因此,質(zhì)量更大的離子具有較低的俘獲效率,因而限制離子阱的質(zhì)量范圍。在實(shí)踐中,離子阱如C-阱中最高俘獲質(zhì)量對(duì)最低俘獲質(zhì)量的比率往往限于15-20。
期望俘獲于線性離阱內(nèi)部的質(zhì)量范圍盡可能地寬。一種定義線性離子阱中離子的質(zhì)量范圍(即,m/z比范圍)的方式為可以在離子阱中俘獲的最高質(zhì)量對(duì)最低質(zhì)量比率。對(duì)于小分子應(yīng)用,常見的所需質(zhì)量范圍可以是1200/15(80)、1500/15(100)或2000/15(133)。
圖1是在注入和儲(chǔ)存期間施加至線性離子阱的RF俘獲振幅(伏峰-峰,Vpp)對(duì)線性離子阱中所俘獲離子的相對(duì)強(qiáng)度的曲線圖。對(duì)于該曲線圖,施加相同的RF振幅至用于注入和儲(chǔ)存的線性離子阱。該曲線圖的每條線代表不同質(zhì)量的離子??梢砸姷剑|(zhì)量更大的離子在較低的RF振幅具有較低的強(qiáng)度。
本發(fā)明尋求增加離子俘獲組件(如線性離子阱)并且尤其但不排他地增加彎曲線性離子阱(C-阱)的俘獲質(zhì)量范圍。
發(fā)明概述
根據(jù)本發(fā)明的第一方面,提供如權(quán)利要求1中所述的一種在離子俘獲組件中俘獲離子的方法。
權(quán)利要求1的方法包括:(a)向離子俘獲組件引入離子;(b)向離子俘獲組件施加第一RF俘獲振幅,從而俘獲具有第一m/z比范圍內(nèi)的m/z比的引入離子;(c)冷卻俘獲的離子;(d)將RF俘獲振幅從第一RF俘獲振幅降至較低的第二RF俘獲振幅,從而降低離子俘獲組件的低質(zhì)量截止值;并且(e)在較低的第二RF俘獲振幅,俘獲具有第二m/z比范圍內(nèi)的m/z比的引入離子,其中第二m/z比范圍的質(zhì)量下限值低于施加第一RF俘獲振幅時(shí)離子阱組件的低質(zhì)量截止值,其中保持離子阱中已俘獲離子的總數(shù)低于作為第一和第二RF俘獲振幅的函數(shù)測(cè)定的閾值。
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