[發(fā)明專利]模塊襯底及印刷襯底在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 202010121388.6 | 申請日: | 2020-02-26 |
| 公開(公告)號: | CN112566355A | 公開(公告)日: | 2021-03-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 村上克也 | 申請(專利權(quán))人: | 鎧俠股份有限公司 |
| 主分類號: | H05K1/02 | 分類號: | H05K1/02;H05K1/18 |
| 代理公司: | 北京律盟知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287 | 代理人: | 張世俊 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 模塊 襯底 印刷 | ||
1.一種模塊襯底,其特征在于具備:
印刷襯底,具有貫通孔;
半導(dǎo)體裝置,以覆蓋所述貫通孔的方式安裝在所述印刷襯底;以及
傳熱性的多角柱,設(shè)置在所述貫通孔內(nèi);且
所述半導(dǎo)體裝置具有接地端子或電源端子,
所述多角柱在所述多角柱的角,被所述貫通孔的內(nèi)壁支持,
所述多角柱與所述接地端子或所述電源端子連接。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的模塊襯底,其特征在于:
所述印刷襯底在安裝所述半導(dǎo)體的面的另一側(cè)的面配置著散熱用片材,
所述多角柱與所述散熱用片材接觸。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的模塊襯底,其特征在于:
所述多角柱是金屬塊,
所述貫通孔的內(nèi)壁由金屬膜覆蓋,
所述金屬塊或所述金屬膜與所述接地端子連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的模塊襯底,其特征在于:
所述多角柱是芯片電容器,
所述芯片電容器具備:
第1外部電極,電連接于所述電源端子;及
第2外部電極,電連接于所述接地端子。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的模塊襯底,其特征在于:
從安裝所述半導(dǎo)體裝置的面觀察時的所述貫通孔的形狀是圓形。
6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的模塊襯底,其特征在于:
從安裝所述半導(dǎo)體裝置的面觀察時的所述貫通孔的形狀包含多個第1圓弧及多個第2圓弧,
所述第2圓弧的曲率小于所述第1圓弧的曲率,
在一個第1圓弧與其它第1圓弧之間存在所述第2圓弧。
7.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的模塊襯底,其特征在于:
所述半導(dǎo)體裝置包含非易失性存儲器及控制所述非易失性存儲器的控制器。
8.一種印刷襯底,其特征在于具備:能安裝半導(dǎo)體裝置的安裝區(qū)域、及貫通孔,
所述貫通孔是:
配置在所述安裝區(qū)域內(nèi),且
能設(shè)置與所述半導(dǎo)體裝置連接的傳熱性的多角柱。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于鎧俠股份有限公司,未經(jīng)鎧俠股份有限公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.17sss.com.cn/pat/books/202010121388.6/1.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。
- 上一篇:薄膜制造方法
- 下一篇:汽缸缸體以及結(jié)合有汽缸缸套的汽缸缸體





