[發(fā)明專利]波前測(cè)量設(shè)備及波前測(cè)量方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 202010095192.4 | 申請(qǐng)日： | 2020-02-14 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN111256956A | 公開（公告）日： | 2020-06-09 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 談順毅 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 上海慧希電子科技有限公司 |
| 主分類號(hào)： | G01M11/02 | 分類號(hào)： | G01M11/02 |
| 代理公司： | 上海段和段律師事務(wù)所 31334 | 代理人： | 李佳俊;郭國(guó)中 |
| 地址： | 200001 上*** | 國(guó)省代碼： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 測(cè)量 設(shè)備 測(cè)量方法 | ||
1.一種波前測(cè)量設(shè)備，其特征在于，包括：波前補(bǔ)償系統(tǒng)、控制系統(tǒng)以及檢測(cè)系統(tǒng)；
所述控制系統(tǒng)連接所述波前補(bǔ)償系統(tǒng)和所述檢測(cè)系統(tǒng)，所述控制系統(tǒng)控制所述波前補(bǔ)償系統(tǒng)補(bǔ)償輸入波前，使所述波前補(bǔ)償系統(tǒng)輸出可被所述檢測(cè)系統(tǒng)檢測(cè)的波前。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的波前測(cè)量設(shè)備，其特征在于，所述波前補(bǔ)償系統(tǒng)包含空間光調(diào)制器。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的波前測(cè)量設(shè)備，其特征在于，所述空間光調(diào)制器使用純相位調(diào)制的硅基液晶或液晶器件和/或透射式的相位調(diào)制液晶器件。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的波前測(cè)量設(shè)備，其特征在于，所述波前測(cè)量設(shè)備還包括光源系統(tǒng)。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的波前測(cè)量設(shè)備，其特征在于，所述波前測(cè)量設(shè)備還包括光學(xué)耦合系統(tǒng)，設(shè)置于所述波前補(bǔ)償系統(tǒng)前端和/或所述波前補(bǔ)償系統(tǒng)和所述檢測(cè)系統(tǒng)之間。
6.根據(jù)權(quán)利要求5所述的波前測(cè)量設(shè)備，其特征在于，所述光學(xué)耦合系統(tǒng)包含濾波系統(tǒng)。
7.根據(jù)權(quán)利要求5所述的波前測(cè)量設(shè)備，其特征在于，所述光學(xué)耦合系統(tǒng)包含透鏡。
8.根據(jù)權(quán)利要求5所述的波前測(cè)量設(shè)備，其特征在于，所述光學(xué)耦合系統(tǒng)包含分光和/或合光器件，將光源發(fā)出的光束分為多個(gè)部分，一部分輸入待測(cè)器件后被補(bǔ)償系統(tǒng)補(bǔ)償，另一部分作為參考光與補(bǔ)償系統(tǒng)輸出的光波前合路后輸入檢測(cè)系統(tǒng)。
9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的波前測(cè)量設(shè)備，其特征在于，所述檢測(cè)系統(tǒng)包含CCD和/或CMOS。
10.根據(jù)權(quán)利要求1所述的波前測(cè)量設(shè)備，其特征在于，所述檢測(cè)系統(tǒng)通過(guò)檢測(cè)干涉條紋的方式來(lái)實(shí)現(xiàn)檢測(cè)。
11.根據(jù)權(quán)利要求1所述的波前測(cè)量設(shè)備，其特征在于，所述檢測(cè)系統(tǒng)采用微透鏡陣列+CCD/CMOS。
12.根據(jù)權(quán)利要求1所述的波前測(cè)量設(shè)備，其特征在于，所述控制系統(tǒng)通過(guò)對(duì)光學(xué)系數(shù)、預(yù)設(shè)的相位分布、空間光調(diào)制器現(xiàn)有的相位分布、檢測(cè)系統(tǒng)得到的相位分布和光學(xué)系統(tǒng)參數(shù)的至少其中之一來(lái)計(jì)算輸出到空間光調(diào)制器的波前補(bǔ)償/相位分布。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的波前測(cè)量設(shè)備，其特征在于，所述光學(xué)系數(shù)包括：zernike系數(shù)、seidel系數(shù)的至少其中之一。
14.根據(jù)權(quán)利要求1所述的波前測(cè)量設(shè)備，其特征在于，所述控制系統(tǒng)根據(jù)檢測(cè)系統(tǒng)得到的光學(xué)參數(shù)和預(yù)設(shè)的閾值之間是否滿足設(shè)定的數(shù)學(xué)關(guān)系來(lái)判斷檢測(cè)結(jié)果。
15.根據(jù)權(quán)利要求1所述的波前測(cè)量設(shè)備，其特征在于，所述控制系統(tǒng)根據(jù)檢測(cè)到的光學(xué)參數(shù)調(diào)整輸出到空間光調(diào)制器的波前補(bǔ)償/相位分布，直到得到符合測(cè)量要求的檢測(cè)結(jié)果。
16.根據(jù)權(quán)利要求1所述的波前測(cè)量設(shè)備，其特征在于，所述檢測(cè)系統(tǒng)根據(jù)測(cè)得數(shù)據(jù)輸出光學(xué)系數(shù)和/或光波前的相位和/或強(qiáng)度分布。
17.根據(jù)權(quán)利要求1所述的波前測(cè)量設(shè)備，其特征在于，所述控制系統(tǒng)根據(jù)檢測(cè)結(jié)果計(jì)算出待測(cè)波前/器件對(duì)應(yīng)的光學(xué)參數(shù)，所述光學(xué)參數(shù)包括MTF、PSF、LSF、能量分布、像差數(shù)值的至少其中之一。
18.根據(jù)權(quán)利要求1所述的波前測(cè)量設(shè)備，其特征在于，所述檢測(cè)設(shè)備還包括上料系統(tǒng)，所述上料系統(tǒng)包含可移動(dòng)的機(jī)械平臺(tái)、夾持設(shè)備、氣吸設(shè)備、視覺(jué)檢測(cè)設(shè)備的至少其中之一。
19.根據(jù)權(quán)利要求18所述的波前測(cè)量設(shè)備，其特征在于，所述控制系統(tǒng)根據(jù)上料誤差控制波前補(bǔ)償系統(tǒng)做波前補(bǔ)償。
20.一種波前測(cè)量方法，其特征在于，采用權(quán)利要求1至19任一項(xiàng)所述的波前測(cè)量設(shè)備進(jìn)行波前測(cè)量；
通過(guò)所述控制系統(tǒng)控制所述波前補(bǔ)償系統(tǒng)補(bǔ)償輸入波前，使所述波前補(bǔ)償系統(tǒng)輸出可被所述檢測(cè)系統(tǒng)檢測(cè)的波前。
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