[發(fā)明專利]涂層和涂層制劑在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201980064959.2 | 申請日: | 2019-10-15 |
| 公開(公告)號: | CN112789251A | 公開(公告)日: | 2021-05-11 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 瑟伊斯·貝塞林;彼得·萊昂納多·伊麗莎白·瑪麗亞·帕斯曼;蓋伊·德拉亞斯瑪 | 申請(專利權(quán))人: | 帝斯曼知識產(chǎn)權(quán)資產(chǎn)管理有限公司 |
| 主分類號: | C03C17/34 | 分類號: | C03C17/34 |
| 代理公司: | 北京東方億思知識產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11258 | 代理人: | 趙艷 |
| 地址: | 荷蘭*** | 國省代碼: | 暫無信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 涂層 制劑 | ||
一種包括涂布層的經(jīng)涂布基材,所述涂布層包含無機(jī)氧化物和孔隙,所述涂布層顯示出改善的耐久性性能。所述經(jīng)涂布基材可以例如被用在太陽能模塊中。進(jìn)一步地,公開了一種涂層制劑和所述涂層制劑的用途。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及一種抗反射涂層。更特別地,本發(fā)明涉及一種示出改善的耐久性性能的抗反射涂層以及一種經(jīng)涂布基材、一種用于在太陽能模塊中使用的蓋玻璃上提供具有改善的性能的抗反射涂層的零件套件和一種太陽能模塊、以及一種制備經(jīng)涂布基材的方法。
本文公開了一種包含涂布層的經(jīng)涂布基材,所述層包含無機(jī)氧化物和孔隙,涂布層顯示出改善的耐久性性能。經(jīng)涂布基材可以例如被用在太陽能模塊中。進(jìn)一步地,公開了一種用于在太陽能模塊中使用的蓋玻璃上提供具有改善的性能的抗反射涂層的零件套件和這種套件的用途。
背景技術(shù)
抗反射(AR)涂層是沉積在需要高光透射的諸如太陽能模塊用蓋玻璃和溫室玻璃的基材上的涂層,并且所述涂層能夠減小所述基材的反射率。除了其他原因以外,太陽能模塊的性能往往還由于光透射通過的表面暴露于溫度和/或濕度條件而隨著時間的推移降低,這些溫度和/或濕度條件可能取決于當(dāng)?shù)厍闆r在白天和黑夜期間和/或在各季節(jié)期間顯著地改變。
本發(fā)明的目的是提供一種改善的涂層。
在本發(fā)明的另一方面中,本發(fā)明的一個目的是提供一種用于在太陽能模塊中使用的蓋玻璃上提供具有改善的性能的抗反射涂層的零件套件。
在本發(fā)明的另一個方面中,本發(fā)明的一個目的是提供一種改善涂層的耐久性性能的方法。
改善可以例如是實現(xiàn)涂層的改善的耐久性性能或本發(fā)明的另一特征。
發(fā)明內(nèi)容
在本發(fā)明的一個方面中,目的由根據(jù)如本文所描述的權(quán)利要求、實施方式和方面的套件來實現(xiàn)。
在本發(fā)明的另外的方面中,目的由根據(jù)如本文所描述的權(quán)利要求、實施方式和方面的方法、經(jīng)涂布基材或用途來實現(xiàn)。
附圖說明
在下面參考示例性實施方式以及附圖說明本發(fā)明,在附圖中
圖1a示意性地描繪了本發(fā)明中使用的具有橢球體形狀(扁長(細(xì)長)球體的2D圖像)的細(xì)長粒子的實施方式,具有:垂直長度為x1的較長(其還可以被稱為長)軸;長度為x2的垂直于較長軸的較短(其還可以被稱為短)軸;以及至少2的縱橫比(x1/x2)。
圖1b示意性地描繪了本發(fā)明中使用的具有桿狀形狀的細(xì)長粒子的實施方式,具有:長度為x1的較長軸;長度為x2的垂直于較長軸的較短軸(較小直徑);以及至少2的縱橫比(x1/x2)。
圖1c示意性地描繪了球形粒子,具有:長度為x1的第一軸;長度為x2的垂直于第一軸的第二軸;以及約1的縱橫比(x1/x2)。
圖1d示意性地描繪了本發(fā)明中使用的具有不規(guī)則形狀的細(xì)長粒子的實施方式,具有:長度為x1的較長軸;長度為x2(從粒子的一側(cè)到粒子的另一側(cè)的最長直線的長度)的垂直于較長軸的較短軸(較小直徑,粒子的最短尺寸);以及至少2的縱橫比(x1/x2)。
圖2示出了在PCT 48小時之后的透射變化。
具體實施方式
本發(fā)明涉及一種改善的涂層。可以通過例如通過加熱將涂層制劑轉(zhuǎn)化成功能涂層來獲得這種改善的涂層。本發(fā)明因此還涉及一種改善的經(jīng)涂布基材。通常,通過將基材上的涂層制劑轉(zhuǎn)化成經(jīng)涂布基材。
本發(fā)明還涉及一種用于在太陽能模塊中使用的蓋玻璃上提供具有改善的性能的抗反射涂層的零件套件。
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