[發明專利]涂層和涂層制劑在審
| 申請號： | 201980064959.2 | 申請日： | 2019-10-15 |
| 公開（公告）號： | CN112789251A | 公開（公告）日： | 2021-05-11 |
| 發明（設計）人： | 瑟伊斯·貝塞林;彼得·萊昂納多·伊麗莎白·瑪麗亞·帕斯曼;蓋伊·德拉亞斯瑪 | 申請（專利權）人： | 帝斯曼知識產權資產管理有限公司 |
| 主分類號： | C03C17/34 | 分類號： | C03C17/34 |
| 代理公司： | 北京東方億思知識產權代理有限責任公司 11258 | 代理人： | 趙艷 |
| 地址： | 荷蘭*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 涂層 制劑 | ||
1.一種用于在太陽能模塊中使用的蓋玻璃上提供具有改善的性能的抗反射涂層的零件套件，包括：
(a)第一容器，所述第一容器包含第一涂層制劑，所述第一涂層制劑包含無機氧化物粘合劑和溶劑；以及
(b)第二容器，所述第二容器包含第二涂層制劑，所述第二涂層制劑包含
i.以無機氧化物當量為準至少2wt％的縱橫比為至少2且較小直徑在3nm至20nm的范圍內的細長致密無機氧化物粒子；
ii.能夠形成直徑在10nm至120nm的范圍內的孔隙的致孔劑；
iii.無機氧化物粘合劑；和
iv.溶劑
其中基于在空氣中在600℃下燃燒2分鐘之后的總灰分余量，所述第二涂層制劑包含0wt％至30wt％氧化鋁當量的含鋁化合物。
2.根據權利要求1所述的套件，其中所述第二涂層制劑包含0.1wt％至25wt％氧化鋁當量的含鋁化合物。
3.根據前述權利要求中任一項所述的套件，其中所述第一涂層制劑包含能夠形成直徑在1nm至120nm的范圍內的孔隙的致孔劑，并且其中所述致孔劑包含一定量的有機致孔劑材料，被表達為在1wt％至30wt％的范圍內的有機致孔劑材料的wt％。
4.根據前述權利要求中任一項所述的套件，其中所述第二涂層制劑包含能夠形成直徑在10nm至120nm的范圍內的孔隙的致孔劑，并且其中所述致孔劑包含一定量的有機致孔劑材料，被表達為在20wt％至50wt％的范圍內的有機致孔劑材料的wt％。
5.根據前述權利要求中任一項所述的套件，其中所述第一涂層制劑中的有機致孔劑材料的wt％小于所述第二涂層制劑中的有機致孔劑材料的wt％。
6.根據權利要求1-3中任一項的套件，其中所述致孔劑包含核-殼納米粒子，其中所述核包含有機化合物并且所述殼包含無機氧化物。
7.根據權利要求1至4中任一項所述的套件，其中所述致孔劑具有如使用DLS所測量的20-150nm的平均大小。
8.一種制備經涂布基材的方法，所述方法包括以下步驟：
-提供具有第一表面的基材；
-在所述基材的第一表面上施加如前述實施方式中任一項所定義的第一涂層制劑；
-干燥所施加的第一涂層制劑以獲得包含至少部分被覆蓋的第一表面的所述基材；
-在所述至少部分被覆蓋的第一表面上施加如前述實施方式中任一項所定義的第二涂層制劑；
-任選地干燥所施加的第二涂層制劑；以及
-將所述基材轉化成經涂布基材。
9.一種經涂布基材，包括基材，和
在所述基材的表面上提供的抗反射涂層，
其中所述抗反射涂層包括在所述基材的表面上提供的第一涂布層、在與所述基材的相反側接觸所述第一層的表面的第二涂布層，其中所述第一層包含：
-無機氧化物粘合劑；并且
其中所述第二層包含：
-縱橫比為至少2且較小直徑在3nm至20nm的范圍內的細長致密無機氧化物粒子；
-0wt％至30wt％氧化鋁當量的含鋁化合物；
-無機氧化物粘合劑；和
-如用橢圓偏光法和/或電子顯微鏡所測量的直徑在10nm至120nm的范圍內的孔隙。
10.根據權利要求8所述的經涂布基材，其中所述第一層包括如使用橢圓偏光法橢圓偏光法和/或電子顯微鏡所測量的直徑在10nm至120nm的范圍內的孔隙。
11.根據權利要求8或9所述的經涂布基材，其中所述第一層與所述第二層比具有較低的孔隙率。
12.根據前述權利要求中任一項所述的經涂布基材，其中，所述第二涂布層包含介于0.5wt％至25wt％氧化鋁當量之間的含鋁化合物。
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