[發(fā)明專利]觀察方法和觀察裝置在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201980060628.1 | 申請日： | 2019-09-05 |
| 公開（公告）號： | CN112703389A | 公開（公告）日： | 2021-04-23 |
| 發(fā)明（設計）人： | 豐倉祥太 | 申請（專利權(quán)）人： | 京瓷株式會社 |
| 主分類號： | G01N21/17 | 分類號： | G01N21/17 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 莊錦軍 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 暫無信息 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 觀察 方法 裝置 | ||
1.一種觀察方法，包括：
從光學相干斷層成像儀獲取測量對象在與深度方向相交的平面中的不同的多個位置處的測量值；
通過對所述多個位置中的每個位置處的同一深度位置處的測量值求平均，來計算平均值；
通過在所述深度方向上對所述深度位置中的每個深度位置處的平均值進行積分，來計算積分值；以及
基于所述積分值來計算所述測量對象的收縮參數(shù)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的觀察方法，還包括：
在所述多個位置中的每個位置處，檢測所述測量值在所述深度方向上的峰值位置，其中，
計算所述平均值包括：對所述多個位置中的每個位置處的、參考了所述峰值位置的同一深度位置處的測量值求平均。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的觀察方法，其中，
計算所述積分值包括：在預定深度位置的范圍內(nèi)對所述測量值進行積分。
4.根據(jù)權(quán)利要求1至3中任一項所述的觀察方法，其中，
使用校準曲線來將所述積分值轉(zhuǎn)換成所述收縮參數(shù)。
5.一種觀察方法，包括：
從光學相干斷層成像儀獲取測量對象在與深度方向相交的平面中的不同的多個位置處的測量值；
通過在所述深度方向上對所述多個位置中的每個位置處的測量值進行積分，來計算積分值；
通過對針對所述多個位置中的每個位置計算的積分值求平均，來計算平均值；以及
基于所述平均值來計算所述測量對象的收縮參數(shù)。
6.一種觀察裝置，包括：
控制器，所述控制器從光學相干斷層成像儀獲取測量對象在與深度方向相交的平面中的不同的多個位置處的測量值，通過對所述多個位置中的每個位置處的同一深度位置處的測量值求平均，來計算平均值，通過對所述深度位置中的每個深度位置處的平均值進行積分，來計算積分值，并且基于所述積分值來計算所述測量對象的收縮參數(shù)。
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