10.如權(quán)利要求1所記載的基板處理裝置，其中，

還具備：

第一氣體供給部，對(duì)所述載置單元供給非活性氣體，由此將所述載置單元設(shè)定成低氧氛圍；

第二阻隔部，可阻隔所述分度器區(qū)塊與所述載置單元之間的氣體的移動(dòng)；以及

控制部，控制所述第一搬運(yùn)機(jī)械手、所述第二搬運(yùn)機(jī)械手、所述第一阻隔部、所述第一氣體供給部以及所述第二阻隔部；

所述第一阻隔部具備：第一門(mén)體，用以將連接所述搬運(yùn)路徑的內(nèi)部空間與所述載置單元的內(nèi)部空間的第一開(kāi)口予以開(kāi)閉；

所述第二阻隔部具備：第二門(mén)體，用以將連接所述分度器區(qū)塊的內(nèi)部空間與所述載置單元的內(nèi)部空間的第二開(kāi)口予以開(kāi)閉；

通過(guò)所述控制部的控制，在通過(guò)所述第一門(mén)體以及所述第二門(mén)體關(guān)閉所述第一開(kāi)口以及所述第二開(kāi)口的狀態(tài)下將所述載置單元設(shè)定成低氧氛圍后，開(kāi)放所述第二開(kāi)口，通過(guò)所述第二搬運(yùn)機(jī)械手將未處理的基板經(jīng)由所述第二開(kāi)口搬入至所述載置單元，通過(guò)所述第二門(mén)體關(guān)閉所述第二開(kāi)口后，開(kāi)放所述第一開(kāi)口，通過(guò)所述第一搬運(yùn)機(jī)械手將所述未處理的基板經(jīng)由所述第一開(kāi)口從所述載置單元搬出。