6.一種指紋識(shí)別裝置，其特征在于，所述裝置包括：

第一確定模塊，用于在第一指紋圖像中存在過(guò)曝時(shí)，確定光敏器件陣列中的過(guò)曝區(qū)域，所述過(guò)曝區(qū)域中包括過(guò)曝的光敏器件，所述第一指紋圖像是所述光敏器件陣列基于第一曝光周期采集的；

第二確定模塊，用于針對(duì)所述過(guò)曝區(qū)域確定第二曝光周期，使得所述過(guò)曝區(qū)域中的光敏器件基于所述第二曝光周期采集的指紋圖像滿足曝光條件，其中，所述第二曝光周期小于所述第一曝光周期；

控制模塊，用于控制所述光敏器件陣列中至少包括過(guò)曝區(qū)域的第一區(qū)域基于所述第二曝光周期采集指紋圖像，得到第二指紋圖像，并基于所述第二指紋圖像進(jìn)行指紋識(shí)別。