[發明專利]一種真空鍍膜設備有效
| 申請號： | 201910400704.0 | 申請日： | 2019-05-14 |
| 公開（公告）號： | CN110029323B | 公開（公告）日： | 2020-12-29 |
| 發明（設計）人： | 孫啟敬;孫劍;高裕弟;洪耀;朱松山;張民井 | 申請（專利權）人： | 棗莊睿諾電子科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/56 | 分類號： | C23C14/56 |
| 代理公司： | 北京三聚陽光知識產權代理有限公司 11250 | 代理人： | 賈曉燕 |
| 地址： | 277000 山東*** | 國省代碼： | 山東;37 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 真空鍍膜 設備 | ||
1.一種真空鍍膜設備，其特征在于包括：
真空鍍膜腔室，包括腔室門和對基板進行真空鍍膜的至少一個真空制程腔，所述真空制程腔設于所述腔室門內；
大氣傳輸腔室，包括至少一個對鍍膜后的所述基板進行散熱的大氣腔；
以及移動裝置，將所述基板移動至所述真空鍍膜腔室或者所述大氣傳輸腔室的輸入端；
其中所述大氣傳輸腔室的數量少于所述真空鍍膜腔室的數量；
所述真空鍍膜腔室和所述大氣傳輸腔室內均設有傳輸機構，各所述傳輸機構均包括磁性導軌以及傳送輥；
所述真空鍍膜設備還包括基板架，所述基板固定設于所述基板架上，所述基板架與所述磁性導軌磁性連接；所述基板架上設有與所述傳送輥連接的傳動軸。
2.根據權利要求1所述的真空鍍膜設備，其特征在于：每個所述大氣傳輸腔室對應設有至少兩個真空鍍膜腔室。
3.根據權利要求1或2所述的真空鍍膜設備，其特征在于：所述真空鍍膜腔室包括多個間隔設置的真空環境不同的所述真空制程腔，和/或所述大氣傳輸腔室包括多個間隔設置的大氣環境不同的所述大氣腔。
4.根據權利要求3所述的真空鍍膜設備，其特征在于：所述真空鍍膜腔室和/或所述大氣傳輸腔室包括腔室門和真空閥，所述腔室門設于所述真空鍍膜腔室和/或所述大氣傳輸腔室的端部，所述真空閥連通所述真空制程腔和/或所述大氣腔和真空泵。
5.根據權利要求4所述的真空鍍膜設備，其特征在于：所述真空鍍膜腔室可切換為所述大氣傳輸腔室，和/或，所述大氣傳輸腔室可切換為真空鍍膜腔室。
6.根據權利要求1或2或4或5中任一項所述的真空鍍膜設備，其特征在于：所述移動裝置設于所述真空鍍膜腔室和所述大氣傳輸腔室的同側端部。
7.根據權利要求6所述的真空鍍膜設備，其特征在于：
所述真空鍍膜腔室和所述大氣傳輸腔室的兩側端部分別設置有所述移動裝置。
8.根據權利要求6所述的真空鍍膜設備，其特征在于：
所述移動裝置的傳輸方向垂直于所述傳輸機構的傳輸方向。
9.根據權利要求6所述的真空鍍膜設備，其特征在于：所述移動裝置包括移動組件和與其連接的固定組件，所述固定組件固定所述基板架，所述移動組件驅動所述固定組件移動。
10.根據權利要求9所述的真空鍍膜設備，其特征在于：所述固定組件包括機架和設于其上的固定輥，所述固定輥上設有允許所述傳動軸卡入的凹槽；所述移動組件包括帶輪傳動件，所述機架與所述帶輪傳動件的傳動帶連接。
11.根據權利要求10所述的真空鍍膜設備，其特征在于：所述固定組件還包括與所述固定輥對應設置的鎖緊氣缸，所述鎖緊氣缸固設于所述機架上，所述鎖緊氣缸推動所述基板架以將所述傳動軸固定鎖緊在所述凹槽中。
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