本申請(qǐng)涉及一種基板顯影方法和基板顯影裝置，該基板顯影方法包括：獲取顯影指令，顯影指令攜帶基板所需的顯影時(shí)長(zhǎng)和顯影開(kāi)始時(shí)刻；根據(jù)顯影開(kāi)始時(shí)刻和顯影時(shí)長(zhǎng)，確定第一補(bǔ)液時(shí)刻和第二補(bǔ)液時(shí)刻，第一補(bǔ)液時(shí)刻在顯影開(kāi)始時(shí)刻之前，第二補(bǔ)液時(shí)刻在顯影開(kāi)始時(shí)刻之后；在第一補(bǔ)液時(shí)刻，向顯影槽注入第一預(yù)設(shè)濃度顯影液，以增大顯影槽內(nèi)顯影液的濃度；在顯影開(kāi)始時(shí)刻，將基板放入顯影槽中進(jìn)行顯影；在顯影過(guò)程中，在第二補(bǔ)液時(shí)刻，向顯影槽注入第二預(yù)設(shè)濃度顯影液，以減小顯影槽內(nèi)顯影液的濃度。通過(guò)這種方式，能夠在顯影開(kāi)始或結(jié)束時(shí)避免由于顯影液濃度波動(dòng)較大而導(dǎo)致顯影設(shè)備宕機(jī)以及產(chǎn)能下降的問(wèn)題。

【技術(shù)領(lǐng)域】

本申請(qǐng)涉及顯示技術(shù)領(lǐng)域，具體涉及一種基板顯影方法和基板顯影裝置。

【背景技術(shù)】

顯影工藝是有機(jī)發(fā)光器件制造中的重要環(huán)節(jié)。在顯影工藝中，顯影設(shè)備中的顯影液對(duì)基板進(jìn)行顯影，現(xiàn)有的顯影液通常為四甲基氫氧化銨(TMAH)水溶液。

但在顯影設(shè)備從空閑狀態(tài)進(jìn)入工作狀態(tài)或由工作狀態(tài)進(jìn)入空閑狀態(tài)時(shí)，即開(kāi)始投放基板或停止投放基板時(shí)，TMAH濃度會(huì)出現(xiàn)較大波動(dòng)，易導(dǎo)致顯影設(shè)備宕機(jī)，影響產(chǎn)能。

【發(fā)明內(nèi)容】

本申請(qǐng)的目的在于提供一種基板顯影方法和基板顯影裝置，以在顯影開(kāi)始或結(jié)束時(shí)避免由于顯影液濃度波動(dòng)較大而導(dǎo)致顯影設(shè)備宕機(jī)以及產(chǎn)能下降的問(wèn)題。

為了解決上述問(wèn)題，本申請(qǐng)實(shí)施例提供了一種基板顯影方法，該基板顯影方法包括：獲取顯影指令，顯影指令攜帶基板所需的顯影時(shí)長(zhǎng)和顯影開(kāi)始時(shí)刻；根據(jù)顯影開(kāi)始時(shí)刻和顯示時(shí)長(zhǎng)，確定第一補(bǔ)液時(shí)刻和第二補(bǔ)液時(shí)刻，第一補(bǔ)液時(shí)刻在顯影開(kāi)始時(shí)刻之前，第二補(bǔ)液時(shí)刻在顯影開(kāi)始時(shí)刻之后；在第一補(bǔ)液時(shí)刻，向顯影槽注入第一預(yù)設(shè)濃度顯影液，以增大顯影槽內(nèi)顯影液的濃度；在顯影開(kāi)始時(shí)刻，將基板放入顯影槽中進(jìn)行顯影；在顯影過(guò)程中，在第二補(bǔ)液時(shí)刻，向顯影槽注入第二預(yù)設(shè)濃度顯影液，以減小顯影槽內(nèi)顯影液的濃度。

其中，根據(jù)顯影開(kāi)始時(shí)刻和顯示時(shí)長(zhǎng)，確定第一補(bǔ)液時(shí)刻和第二補(bǔ)液時(shí)刻的步驟，具體包括：根據(jù)顯影開(kāi)始時(shí)刻和第一預(yù)設(shè)差值，確定第一補(bǔ)液時(shí)刻；根據(jù)顯影開(kāi)始時(shí)刻和顯影時(shí)長(zhǎng)，確定顯影結(jié)束時(shí)刻；根據(jù)顯影結(jié)束時(shí)刻和第二預(yù)設(shè)差值，確定第二補(bǔ)液時(shí)刻。

其中，在第一補(bǔ)液時(shí)刻，向顯影槽注入第一預(yù)設(shè)濃度顯影液的步驟之后，還包括：開(kāi)始計(jì)時(shí)；判斷計(jì)時(shí)時(shí)長(zhǎng)是否到達(dá)第一預(yù)設(shè)時(shí)長(zhǎng)；若是，則檢測(cè)顯影槽內(nèi)顯影液的當(dāng)前濃度，并判斷當(dāng)前濃度是否大于預(yù)設(shè)濃度；若當(dāng)前濃度不大于預(yù)設(shè)濃度，則向顯影槽注入第一預(yù)設(shè)濃度顯影液，并重新開(kāi)始計(jì)時(shí)。

其中，在顯影過(guò)程中，在第二補(bǔ)液時(shí)刻，向顯影槽注入第二預(yù)設(shè)濃度顯影液的步驟之后，還包括：開(kāi)始計(jì)時(shí)；判斷計(jì)時(shí)時(shí)長(zhǎng)是否到達(dá)第二預(yù)設(shè)時(shí)長(zhǎng)；若是，則檢測(cè)顯影槽內(nèi)顯影液的當(dāng)前濃度，并判斷當(dāng)前濃度是否大于預(yù)設(shè)濃度；若當(dāng)前濃度大于預(yù)設(shè)濃度，則向顯影槽注入第二預(yù)設(shè)濃度顯影液，并重新開(kāi)始計(jì)時(shí)。

其中，在將基板放入顯影槽中進(jìn)行顯影的步驟之后，還包括：統(tǒng)計(jì)當(dāng)前已進(jìn)行顯影的基板的數(shù)量；判斷數(shù)量是否到達(dá)預(yù)設(shè)數(shù)量；若是，則向顯影槽中注入第三預(yù)設(shè)濃度顯影液，以增大所述顯影槽內(nèi)顯影液的濃度，并以下一已顯影基板開(kāi)始重新統(tǒng)計(jì)數(shù)量。

為了解決上述問(wèn)題，本申請(qǐng)實(shí)施例還提供了一種基板顯影裝置，該基板顯影裝置包括：獲取模塊，用于獲取顯影指令，顯影指令攜帶基板所需的顯影時(shí)長(zhǎng)和顯影開(kāi)始時(shí)刻；確定模塊，用于根據(jù)顯影開(kāi)始時(shí)刻和顯示時(shí)長(zhǎng)，確定第一補(bǔ)液時(shí)刻和第二補(bǔ)液時(shí)刻，第一補(bǔ)液時(shí)刻在顯影開(kāi)始時(shí)刻之前，第二補(bǔ)液時(shí)刻在顯影開(kāi)始時(shí)刻之后；第一補(bǔ)液模塊，用于在第一補(bǔ)液時(shí)刻，向顯影槽注入第一預(yù)設(shè)濃度顯影液，以增大顯影槽內(nèi)顯影液的濃度；顯影模塊，用于在顯影開(kāi)始時(shí)刻，將基板放入顯影槽中進(jìn)行顯影；第二補(bǔ)液模塊，用于在顯影過(guò)程中，在第二補(bǔ)液時(shí)刻，向顯影槽注入第二預(yù)設(shè)濃度顯影液，以減小顯影槽內(nèi)顯影液的濃度。