[發明專利]止擋裝置和劃刻設備以及止擋裝置的工作方法在審
| 申請號: | 201910251636.6 | 申請日: | 2019-03-29 |
| 公開(公告)號: | CN111755561A | 公開(公告)日: | 2020-10-09 |
| 發明(設計)人: | 張玉功 | 申請(專利權)人: | 北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L21/304;B28D7/04 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100176 北京市大興區北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 裝置 設備 以及 工作 方法 | ||
本發明公開了一種止擋裝置和劃刻設備以及止擋裝置的工作方法。其中止擋裝置包括驅動機構和多個止擋部,驅動機構與多個止擋部驅動連接,用于驅動止擋部運動;驅動機構用于驅動止擋部運動至用于止擋工件的止擋位置以及驅動止擋部離開止擋位置,任一止擋部由驅動機構驅動至止擋位置,其他止擋部由驅動機構驅離止擋位置。本發明的止擋裝置包括多個用于止擋工件的止擋部,由于當其中之一進入止擋位置時,其他的止擋部無法進入止擋位置,即每次只能由一個止擋部止擋工件,這樣多個止擋部在驅動機構的驅動下,輪流止擋工件,止擋部不需要連續工作,從而使得疲勞損傷情況得到改善,降低了止擋部磨損的概率,提高了生產效率和良品率。
技術領域
本發明涉及機械制造設備技術領域,尤其涉及一種止擋裝置和劃刻設備以及止擋裝置的工作方法。
背景技術
定位機構是機械加工設備中的重要部件,其作用為在工件的加工過程中固定其位置,保障加工精度。常用的定位機構包括用于定位的止擋裝置和用于夾緊的夾緊裝置。
在光伏電池生產過程中,需要進行劃處理,工件從傳送通道輸送至劃刻設備內,之后被止擋裝置攔下停止運動,被固定到加工位置后由劃刻設備的劃刻機構進行劃刻處理。
圖1示出了一種現有的止擋裝置,止擋裝置包括止擋件10’,圖中止擋件10’包括柔性件,柔性件與工件100接觸并用于抵消工件100的沖擊。該機構的動作如下:止擋件10’升起并插入工件100的運動軌跡,其中柔性件朝向工件100的來向,工件100在傳動裝置的驅動下撞擊到柔性件從而被止擋裝置停止運動,工件100夾緊后,止擋件10’下降,避開工件100的運動軌跡。但隨著磨損和老化,柔性件上與工件100接觸的部分會產生磨損部101,若磨損部101深度過大,則止擋裝置止擋工件100時,工件100有可能陷入磨損部101,磨損部101卡住工件100的邊緣,若工件100陷入磨損部101的情況下令止擋件10’下降,則可能造成玻璃破損,產生廢品。
發明內容
為了解決上述技術問題,本發明提供了一種止擋裝置和劃刻設備以及止擋裝置的工作方法。其中止擋裝置包括驅動機構和多個止擋部,驅動機構與多個止擋部驅動連接,用于驅動止擋部運動;驅動機構用于驅動止擋部運動至用于止擋工件的止擋位置以及驅動止擋部離開止擋位置,任一止擋部由驅動機構驅動至止擋位置,其他止擋部由驅動機構驅離止擋位置。
根據本發明的另一個方面,還提供了一種劃刻設備,包括用于定位待加工的工件的定位機構和執行劃刻的劃刻機構,定位機構包括上述的止擋裝置。
根據本發明的另一個方面,還提供了一種止擋裝置的工作方法,止擋裝置為上述的止擋裝置,止擋裝置的工作方法包括:止擋裝置的驅動機構驅動一個止擋部運動到位并進入止擋位置,以對工件進行止擋;驅動機構驅動止擋部離開止擋位置;驅動機構驅動另一個止擋部運動到位并進入止擋位置,以對工件進行止擋。
本發明的止擋裝置包括多個用于止擋工件的止擋部,由于當其中之一進入止擋位置時,其他的止擋部無法進入止擋位置,即每次只能由一個止擋部止擋工件,這樣多個止擋部在驅動機構的驅動下,輪流止擋工件,止擋部不需要連續工作,從而使得疲勞損傷情況得到改善,降低了止擋部磨損的概率,提高了生產效率和良品率。
本發明的其它特征和優點將在隨后的說明書中闡述,并且,部分地從說明書中變得顯而易見,或者通過實施本發明而了解。本發明的目的和其他優點可通過在說明書、權利要求書以及附圖中所特別指出的結構來實現和獲得。
附圖說明
附圖用來提供對本發明技術方案的進一步理解,并且構成說明書的一部分,與本申請的實施例一起用于解釋本發明的技術方案,并不構成對本發明技術方案的限制。
圖1為現有技術中的止擋裝置的結構示意圖;
圖2為本發明的止擋裝置的一種實施例的結構示意圖;
圖3為本發明的劃刻設備的定位機構的一種實施例結構示意圖。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





