[發明專利]止擋裝置和劃刻設備以及止擋裝置的工作方法在審
| 申請號: | 201910251636.6 | 申請日: | 2019-03-29 |
| 公開(公告)號: | CN111755561A | 公開(公告)日: | 2020-10-09 |
| 發明(設計)人: | 張玉功 | 申請(專利權)人: | 北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;H01L21/304;B28D7/04 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100176 北京市大興區北京*** | 國省代碼: | 北京;11 |
| 權利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 裝置 設備 以及 工作 方法 | ||
1.一種止擋裝置,其特征在于,包括驅動機構和多個止擋部,所述驅動機構與多個所述止擋部驅動連接,用于驅動所述止擋部運動;
所述驅動機構用于驅動所述止擋部運動至用于止擋工件(100)的止擋位置以及驅動所述止擋部離開所述止擋位置,任一所述止擋部由所述驅動機構驅動至所述止擋位置,其他所述止擋部由所述驅動機構驅離所述止擋位置。
2.根據權利要求1所述的止擋裝置,其特征在于,所述驅動機構驅動所述止擋部運動至與所述工件(100)的運動軌跡相干涉的位置處以使所述止擋部處于所述止擋位置;所述驅動機構驅動所述止擋部運動至與所述工件(100)的運動軌跡相避讓的位置處以使所述止擋部離開所述止擋位置。
3.根據權利要求1所述的止擋裝置,其特征在于,所述工件(100)在第一平面內運動,多個所述止擋部沿垂直于第一平面的第一方向排列設置,所述驅動機構包括第一驅動部(20),所述第一驅動部(20)用于驅動所述止擋部沿第一方向運動。
4.根據權利要求1所述的止擋裝置,其特征在于,所述止擋裝置包括多個止擋件(10),多個所述止擋件(10)沿所述工件(100)的與所述止擋部相接觸的邊緣相間隔地設置,每個所述止擋件(10)均包括多個止擋塊(11),多個所述止擋件(10)的所述止擋塊(11)一一對應地設置,所述止擋部包括分別設置在不同的所述止擋件(10)上的相互對應的多個所述止擋塊(11)。
5.根據權利要求4所述的止擋裝置,其特征在于,所述止擋塊(11)為柔性件。
6.根據權利要求1所述的止擋裝置,其特征在于,所述止擋裝置包括多個止擋件(10),多個所述止擋件(10)沿所述工件(100)的與所述止擋部相接觸的邊緣相間隔地設置,每個所述止擋件(10)的朝向所述工件(100)來向的一側均設置有一個柔性件,所述柔性件的沿垂直于所述工件(100)的方向分為多個止擋區域,所述止擋部包括不同的所述柔性件上的相互對應多個止擋區域。
7.根據權利要求1至6中任一項所述的止擋裝置,其特征在于,所述驅動機構包括第二驅動部,所述第二驅動部用于驅動所述止擋部沿所述工件(100)的運動方向運動。
8.一種劃刻設備,包括用于定位待加工的工件(100)的定位機構和執行劃刻的劃刻機構,其特征在于,所述定位機構包括權利要求1至7中任一項所述的止擋裝置。
9.一種止擋裝置的工作方法,其特征在于,所述止擋裝置為權利要求1至7中任一項所述的止擋裝置,所述止擋裝置的工作方法包括:
所述止擋裝置的驅動機構驅動一個止擋部運動到止擋位置,以對工件(100)進行止擋;
所述驅動機構驅動所述止擋部離開止擋位置;
所述驅動機構驅動另一個止擋部運動到位并進入止擋位置,以對工件(100)進行止擋。
10.根據權利要求9所述的止擋裝置的工作方法,其特征在于,所述工件(100)在第一平面內運動,多個所述止擋部沿垂直于第一平面的第一方向排列設置,所述驅動機構包括:
第一驅動部(20),所述第一驅動部(20)用于驅動所述止擋部沿第一方向運動;
第二驅動部,所述第二驅動部用于驅動所述止擋部沿所述工件(100)的運動方向運動;
所述驅動機構驅動所述止擋部離開止擋位置包括:
所述第二驅動部驅動所述止擋部遠離所述工件(100)后所述第一驅動部驅動所述止擋部在第一方向上移動。
該專利技術資料僅供研究查看技術是否侵權等信息,商用須獲得專利權人授權。該專利全部權利屬于北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司,未經北京鉑陽頂榮光伏科技有限公司許可,擅自商用是侵權行為。如果您想購買此專利、獲得商業授權和技術合作,請聯系【客服】
本文鏈接:http://www.17sss.com.cn/pat/books/201910251636.6/1.html,轉載請聲明來源鉆瓜專利網。
- 上一篇:一種日志分析方法、裝置、存儲介質和計算機設備
- 下一篇:燃氣制熱水設備
- 同類專利
- 專利分類
H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





