本發(fā)明的成膜用掩模(50a)，包括：設(shè)置為框狀的掩模主體(41)、設(shè)置為從掩模主體(41)向框內(nèi)突出的突出部(42a)，并且與被成膜基板相對地配置，所述成膜用掩模(50a)的特征在于，在突出部(42a)的表面上，設(shè)置有凹部(R)，上述凹部以不到達突出部(42a)的框內(nèi)側(cè)的端部。

技術(shù)領(lǐng)域

本發(fā)明是關(guān)于成膜掩模以及使用其之顯示裝置的制造方法。

背景技術(shù)

近年以來，作為代替液晶顯示裝置的顯示裝置，使用有機EL(electroluminescence)元件的自發(fā)光型有機EL顯示裝置引起關(guān)注。在此，在有機EL顯示裝置中，為了抑制水分、氧等的混入導(dǎo)致的有機EL元件的劣化，而提案了將覆蓋有機EL元件的密封膜由無機膜與有機膜的層疊膜來構(gòu)成的密封結(jié)構(gòu)。

例如，專利文獻1公開了一種顯示裝置，該顯示裝置包括：薄膜密封層，該薄膜密封層包括由CVD(chemical vapor deposition)法等形成的無機膜層與由噴墨法等形成的有機膜層交替地配置的層疊結(jié)構(gòu)，并且覆蓋有機發(fā)光元件。

現(xiàn)有技術(shù)文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2014-86415號公報

發(fā)明內(nèi)容

發(fā)明所要解決的技術(shù)問題

近年以來，提案了在有機EL顯示裝置中，使進行圖像顯示且設(shè)置為略矩形狀的顯示區(qū)域的一邊的一部分凹陷，并且在其凹陷的切口部中裝載攝像頭、環(huán)境傳感器等的畫面形狀。因此，在包括這樣的畫面形狀的有機EL顯示裝置中，需要以覆蓋構(gòu)成顯示區(qū)域的有機EL元件的方式形成密封膜，從而需要使形成密封膜的無機膜時所使用的成膜用掩模的開口部的形狀與顯示區(qū)域的平面形狀對應(yīng)。在此應(yīng)用的成膜用掩模在其開口部的一邊中，與顯示區(qū)域的切口部對應(yīng)，包括在俯視下向內(nèi)側(cè)突出的突出部，但是在其突出部中，將成膜用掩模拉伸焊接于成膜裝置內(nèi)的框架從而作用的張力不作用，因此存在突出部從被成膜基板的表面上浮的問題。這樣的話，無機膜繞回于突出部與被成膜基板之間，其周邊中的無機膜的膜厚變薄，或無機膜被形成于過大的范圍，因此降低密封功能的可靠性。

本發(fā)明是鑒于上述問題而完成的，其目的在于抑制成膜用的突出部的上浮。

解決問題的手段

為了達成上述目的，本發(fā)明所述涉及的成膜用掩模包括：設(shè)置為框狀的掩模主體、設(shè)置為從上述掩模主體向框內(nèi)突出的突出部，并且與被成膜基板相對地配置，所述成膜用掩模特征在于，在上述突出部的上述被成膜基板側(cè)的表面上，設(shè)置有凹部，上述凹部不到達該突出部的框內(nèi)側(cè)的端部。

發(fā)明效果

根據(jù)本發(fā)明，在從成膜用掩模的掩模主體向框內(nèi)突出的突出部的被成膜基板側(cè)的表面上設(shè)置有凹部，凹部不到達突出部的框內(nèi)側(cè)的端部，因此可以抑制成膜用掩模的突出部的上浮。

附圖說明

圖1是表示本發(fā)明的第一實施方式所涉及的有機EL顯示裝置的概略構(gòu)成的俯視圖。

圖2是表示沿著圖1中的II-II線的有機EL顯示裝置的概略構(gòu)成的剖視圖。

圖3是表示本發(fā)明的第一實施方式所涉及的有機EL顯示裝置的顯示區(qū)域的詳細(xì)構(gòu)成的剖視圖。

圖4是表示本發(fā)明的第一實施方式所涉及的構(gòu)成有機EL顯示裝置的有機EL層的剖視圖。

圖5是表示本發(fā)明的第一實施方式所涉及的有機EL顯示裝置的邊框區(qū)域的詳細(xì)構(gòu)成的剖視圖。

圖6是使用于本發(fā)明的第一實施方式所涉及的有機EL顯示裝置的制造方法的成膜用掩模的俯視圖。

圖7是擴大使用于本發(fā)明的第一實施方式所涉及的有機EL顯示裝置的制造方法的成膜用掩模的要部的里面?zhèn)鹊母┮晥D。