[發(fā)明專利]成膜用掩模以及使用其之顯示裝置的制造方法在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201880090172.9 | 申請(qǐng)日: | 2018-02-27 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN111788327A | 公開(kāi)(公告)日: | 2020-10-16 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 園田通;宮本惠信 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 夏普株式會(huì)社 |
| 主分類號(hào): | C23C14/04 | 分類號(hào): | C23C14/04;H01L27/32;H01L51/50;H05B33/10 |
| 代理公司: | 深圳市賽恩倍吉知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 44334 | 代理人: | 郝家歡 |
| 地址: | 日本國(guó)大*** | 國(guó)省代碼: | 暫無(wú)信息 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 成膜用掩模 以及 使用 顯示裝置 制造 方法 | ||
1.一種成膜用掩模,包括:
設(shè)置為框狀的掩模主體、設(shè)置為從上述掩模主體向框內(nèi)突出的突出部,并且與被成膜基板相對(duì)地配置,上述成膜用掩模特征在于,
在上述突出部的表面上,設(shè)置有凹部,上述凹部不到達(dá)該突出部的框內(nèi)側(cè)的端部。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的成膜用掩模,其特征在于,
上述凹部設(shè)置于上述突出部的上述被成膜基板側(cè)的表面。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的成膜用掩模,其特征在于,
上述凹部由多個(gè)溝構(gòu)成,上述多個(gè)溝構(gòu)設(shè)置為互相平行地延伸。
4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的成膜用掩模,其特征在于,
上述多個(gè)溝沿著與上述突出部的突出方向正交的方向設(shè)置。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的成膜用掩模,其特征在于,
上述突出部在俯視下包括R形狀,
上述各溝的長(zhǎng)度與上述R形狀對(duì)應(yīng),隨著向上述突出部的突出側(cè)變短。
6.根據(jù)權(quán)利要求3所述的成膜用掩模,其特征在于,
上述多個(gè)溝沿著與上述突出部的突出方向正交的方向間歇地設(shè)置。
7.根據(jù)權(quán)利要求4至6中任一項(xiàng)所述的成膜用掩模,其特征在于,
上述各溝的寬度隨著向上述突出部的突出側(cè)變寬。
8.根據(jù)權(quán)利要求3所述的成膜用掩模,其特征在于,
上述多個(gè)溝沿著上述突出部的突出方向設(shè)置。
9.根據(jù)權(quán)利要求8所述的成膜用掩模,其特征在于,
上述各溝的深度隨著向上述突出部的突出側(cè)變淺。
10.根據(jù)權(quán)利要求8所述的成膜用掩模,其特征在于,
上述各溝的深度隨著向上述突出部的突出側(cè)變深。
11.一種顯示裝置的制造方法,包括:
發(fā)光元件形成工序,形成有發(fā)光元件,上述發(fā)光元件在襯底基板的一方的表面?zhèn)葮?gòu)成顯示區(qū)域,
密封膜形成工序,以覆蓋上述發(fā)光元件的方式形成密封膜,上述顯示裝置的制造方法的其特征在于,
在上述顯示區(qū)域中,設(shè)置有在俯視下輪廓的一部分向內(nèi)側(cè)凹陷的切口部,
上述發(fā)光元件形成工序與密封膜形成工序的至少一方包括使用成膜掩模形成無(wú)機(jī)膜的無(wú)機(jī)膜形成工序,
上述成膜掩模包括:設(shè)置為框狀的掩模主體、設(shè)置為從該掩模主體向框內(nèi)突出,并且使與上述切口部對(duì)應(yīng)配置的突出部,在使與上述突出部的上述襯底基板相對(duì)地配置的側(cè)表面上,設(shè)置有凹部,上述凹部不到達(dá)該突出部的框內(nèi)側(cè)的端部。
12.根據(jù)權(quán)利要求11所述的顯示裝置的制造方法,其特征在于,
上述密封膜形成工序包括:
作為上述無(wú)機(jī)膜以覆蓋上述發(fā)光元件的方式形成第一無(wú)機(jī)膜的第一無(wú)機(jī)膜形成工序;
以在該第一無(wú)機(jī)膜上與上述發(fā)光元件重疊的方式形成有機(jī)膜的有機(jī)膜形成工序、
作為上述無(wú)機(jī)膜以覆蓋該有機(jī)膜的方式形成第二無(wú)機(jī)膜的第二無(wú)機(jī)膜形成工序。
13.根據(jù)權(quán)利要求12所述的顯示裝置的制造方法,其特征在于,
在上述第一無(wú)機(jī)膜形成工序與第二無(wú)機(jī)膜形成工序中,以CVD法形成上述第一無(wú)機(jī)膜與第二無(wú)機(jī)膜。
14.根據(jù)權(quán)利要求11所述的顯示裝置的制造方法,其特征在于,
在上述發(fā)光元件形成工序中,作為上述無(wú)機(jī)膜在上述顯示區(qū)域形成共用電極。
15.根據(jù)權(quán)利要求11至14中任一項(xiàng)所述的顯示裝置的制造方法,其特征在于,
上述顯示區(qū)域在俯視下設(shè)置為矩形狀,
上述切口部設(shè)置于上述顯示區(qū)域的一邊。
16.根據(jù)權(quán)利要求11至15中任一項(xiàng)所述的顯示裝置的制造方法,其特征在于,
上述發(fā)光元件為有機(jī)EL元件。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C14-00 通過(guò)覆層形成材料的真空蒸發(fā)、濺射或離子注入進(jìn)行鍍覆
C23C14-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C14-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物
C23C14-06 .以鍍層材料為特征的
C23C14-22 .以鍍覆工藝為特征的
C23C14-58 .后處理
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