[實用新型]校正準確率高的振動盤有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201821086149.6 | 申請日: | 2018-07-10 |
| 公開(公告)號: | CN208647993U | 公開(公告)日: | 2019-03-26 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 史續(xù)強;朱勉 | 申請(專利權(quán))人: | 深圳市晶展鑫電子設(shè)備有限公司 |
| 主分類號: | B65G47/14 | 分類號: | B65G47/14;B65G27/02;B65G27/16;B65G47/26 |
| 代理公司: | 深圳市金筆知識產(chǎn)權(quán)代理事務(wù)所(特殊普通合伙) 44297 | 代理人: | 胡清方;彭友華 |
| 地址: | 518000 廣東省深圳市光明新區(qū)*** | 國省代碼: | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 校正 螺旋軌道 出氣口 吹氣片 導出面 振動盤 準確率 盤體 本實用新型 側(cè)面 大接觸面 軌道側(cè)壁 安裝面 避空面 避空位 吹氣針 上側(cè)面 支撐位 掉落 外置 出口 | ||
1.一種校正準確率高的振動盤,適合于對小尺寸長方體片狀材料的校正,包括盤體(1),在所述盤體(1)上設(shè)有一容納器件的凹部(11),在凹部(11)的側(cè)面(112)上設(shè)有沿所述側(cè)面(112)呈螺旋狀上升的側(cè)面螺旋軌道(1121),其特征在于,還包括至少一個校正吹氣片(2),所述校正吹氣片(2)設(shè)在所述側(cè)面螺旋軌道(1121)的遠離側(cè)面螺旋軌道(1121)的軌道側(cè)壁(11211)的一側(cè),所述校正吹氣片(2)的安裝面(21)與所述軌道側(cè)壁(11211)之間的距離等于或略大于器件的寬度,小于器件的長度;所述校正吹氣片(2)的頂面的一部分被設(shè)置成順著器件前進方向(F1)逐漸上升的避空面(22),所述校正吹氣片(2)的頂面的另一部分被設(shè)置成順著器件前進方向(F1)逐漸上升并向安裝面(21)傾斜的器件導出面(23);所述校正吹氣片(2)與盤體(1)裝配后,所述校正吹氣片(2)的器件導出面(23)與側(cè)面螺旋軌道(1121)的大接觸面(11212)形成夾角B,所述夾角B在95度-175度之間選擇,并使校正吹氣片(2)的器件導出面入口低點(231)和器件導出面出口低點(232)低于大接觸面(11212);校正吹氣片(2)的器件導出面出口高點(233)所對應(yīng)的側(cè)壁上設(shè)有校正出氣口(234),所述器件導出面出口高點(233)高于大接觸面(11212);校正出氣口(234)的位置被設(shè)置成當需校正的器件從器件導出面出口高點(233)掉落到所述大接觸面(11212)時,校正出氣口(234)正好對著需校正的器件的厚度,使從校正出氣口(234)出去的氣作用于需校正的器件的長度大于安裝面(21)與所述軌道側(cè)壁(11211)之間的距離的部位,讓需校正的器件以位于側(cè)面螺旋軌道(1121)上的校正支撐位(11213)沿位于側(cè)面螺旋軌道(1121)上的器件校正避空位(11214)旋轉(zhuǎn)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的校正準確率高的振動盤,其特征在于:所述少一個校正吹氣片(2)是兩個以上的所述校正吹氣片(2)相隔預定距離設(shè)置在遠離側(cè)面螺旋軌道(1121)的軌道側(cè)壁(11211)的一側(cè)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的校正準確率高的振動盤,其特征在于:在凹部(11)的底面(111)上設(shè)有底面螺旋軌道(1111),所述底面螺旋軌道(1111)與所述側(cè)面螺旋軌道(1121)圓滑過渡連接。
4.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的校正準確率高的振動盤,其特征在于:所述避空面(22)向遠離軌道側(cè)壁(11211)的一側(cè)傾斜。
5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的校正準確率高的振動盤,其特征在于:所述側(cè)面螺旋軌道(1121)的大接觸面(11212)被設(shè)置成與水平面形成向下的夾角A,所述夾角A可在5度-85度之間選擇。
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