本發明的實施方式涉及集塵裝置以及集塵方法。實施方式的集塵裝置具備在第1面配置有第1電極的背面的主體、對上述第1電極、以及上述主體的裝拆進行控制的固定部、向上述第1電極傳送電壓的第2電極、以及對向上述第2電極施加的電壓的大小及定時進行控制的控制基板。

技術領域

本發明實施方式涉及集塵裝置以及集塵方法。

背景技術

伴隨著近年來的半導體裝置的高集成化及大容量化，半導體裝置所要求的電路線寬日益微小。為了實現半導體裝置所希望的電路圖案，使用了平板印刷技術。在該平板印刷技術中，進行采用被稱為掩模(reticle：刻線)的原畫圖案的圖案轉印。為了制造該圖案轉印中使用的高精度的掩模，采用具有良好的分辨率的帶電粒子束描繪裝置。

在該帶電粒子束描繪裝置中，設有對載放掩模、胚料(blank)等試料的載臺進行收容的描繪室、對試料搬送用的機械手裝置進行收容的機械手室、試料搬入搬出用的預真空鎖(load lock)室等，這些室的內部通常維持為真空狀態。試料被機械手裝置從預真空鎖室經由機械手室搬入到描繪室，在描繪后被從描繪室搬出并經由機械手室返回到預真空鎖室。在圖案的描繪時，使載放有試料的載臺移動并且使電荷粒子束偏轉而照射到載臺上的試料的規定位置，在載臺上的試料上描繪圖案。

在帶電粒子束描繪裝置內，由于各種理由，有存在灰塵(例如垃圾等雜質)的情況。這樣，若帶電粒子束描繪裝置內存在灰塵，則在試料搬送中或描繪時等灰塵會向試料附著。例如，若在描繪前灰塵附著于試料，則因該灰塵而產生描繪不良。這樣，灰塵的附著成為試料品質即制品品質下降的要因，需要抑制因灰塵的附著引起的制品品質的下降。另一方面，為了清潔裝置內的灰塵，需要打破真空而對裝置內的機構進行清潔。但是，將帶電粒子束描繪裝置內抽真空需要大量的時間。此外，在將帶電粒子束描繪裝置內抽真空后，還需要帶電粒子束描繪裝置內的電子光學系統的調整。因此，帶電粒子束描繪裝置無法運轉的時間(停機時間)會變長。有可能因為停機時間而引起成品率降低。由于成品率的降低，掩模的制造所花費的成本也有增大的可能性。因此，需要降低由灰塵引起的裝置的停機時間的發生。

發明內容

本發明的實施方式提供能夠抑制由灰塵的附著引起的制品品質的下降的集塵裝置以及集塵方法。

實施方式的集塵裝置具備：主體，在第1面配置有第1電極的背面；固定部，對上述第1電極、以及上述主體的裝拆進行控制；第2電極，向上述第1電極傳送電壓；以及控制基板，對施加于上述第2電極的電壓的大小以及定時進行控制。

附圖說明

圖1是第1實施方式的集塵裝置的立體圖。

圖2是從圖1的S1方向觀察集塵裝置的圖。

圖3是示意性表示第1實施方式的被搬送集塵裝置的帶電粒子束描繪裝置的結構的概略圖。

圖4是集塵裝置的動作例，是表示高電壓產生部向可更換電極施加的電壓與時間的關系的圖。

圖5是第2實施方式的集塵裝置的立體圖。

圖6是從圖5的S2方向觀察集塵裝置的圖。

圖7是從圖1的S1方向觀察集塵裝置的圖。

圖8是示意性表示第3實施方式的被搬送集塵裝置的帶電粒子束描繪裝置的結構的概略圖。

圖9是從圖5的S2方向觀察集塵裝置的圖。

圖10是示意性表示第3實施方式的被搬送集塵裝置的帶電粒子束描繪裝置的結構的概略圖。

具體實施方式

以下，參照附圖詳細說明實施方式。在該說明時，在全圖中對共通的部分附加共通的參照符號。