[發明專利]濺射靶和濺射方法在審
| 申請號： | 201811008466.0 | 申請日： | 2012-06-14 |
| 公開（公告）號： | CN109097746A | 公開（公告）日： | 2018-12-28 |
| 發明（設計）人： | 羅納德·M·帕克;羅伯特·T·羅茲比金 | 申請（專利權）人： | 唯景公司 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 北京律盟知識產權代理有限責任公司 11287 | 代理人： | 章蕾 |
| 地址： | 美國加利*** | 國省代碼： | 美國;US |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 濺射靶 濺射 濺射沉積 申請 | ||
1.一種用于濺射沉積電致變色裝置的材料層的濺射靶總成，所述濺射靶總成包括：
背部板；和
在所述背部板上彼此相鄰組裝的兩個或多個平面濺射靶分區，每個濺射靶分區具有濺射表面和相對的表面；和
在所述兩個或多個平面濺射靶分區的任何鄰近分區之間的間隙，其中每個間隙被構造使得在所述背部板和所述平面濺射靶分區的所述濺射表面之間沒有視線。
2.根據權利要求1所述的濺射靶總成，其中在鄰近分區之間的所述間隙的寬度為大于1毫米。
3.根據權利要求1所述的濺射靶總成，其中所述兩個或多個平面濺射靶分區包含相同的濺射材料，其中所述濺射材料為鎳鎢合金或燒結的鎳鎢復合物。
4.根據權利要求1所述的濺射靶總成，其中所述兩個或多個平面濺射靶分區包含相同的濺射材料，其中所述濺射材料為以下中的一者：W、Mo、V、Ti、Ni、Cu、Al、Si、Ta、Nb和其合金、氧化物或氮化物。
5.根據權利要求1所述的濺射靶總成，其中所述兩個或多個平面濺射靶分區包含相同的濺射材料，其中所述濺射材料為氧化銦錫、氧化鋁鋅或氧化銦鋅。
6.根據權利要求1所述的濺射靶總成，其中所述兩個或多個平面濺射靶分區包含相同的濺射材料，其中所述濺射材料為鋰。
7.根據權利要求1所述的濺射靶總成，其中，所述間隙的寬度在從所述濺射表面至所述相對的表面的路徑的范圍內是不均勻的。
8.根據權利要求1所述的濺射靶總成，其中所述間隙的側視截面圖包括彎曲部分和直線部分。
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