本發明提供一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置，屬于顯示技術領域。本發明的顯示基板，包括位于基底上的隔離柱，隔離柱包括：第一隔離層和第二隔離層；其中，第一隔離層位于第二隔離層背離基底的一側；第二隔離層和第一隔離層分別具有靠近基底的底面和遠離基底的頂面；其中，第一隔離層的頂面在基底的正投影覆蓋第一隔離層的底面在基底的正投影，第二隔離層的頂面在基底的正投影覆蓋第二隔離層的底面在基底的正投影，第二隔離層的底面在基底的正投影覆蓋第一隔離層的頂面在基底的正投影，且第二隔離層的底面的面積大于第一隔離層的頂面的面積。

技術領域

本發明屬于顯示技術領域，具體涉及一種顯示基板及其制備方法、顯示裝置。

背景技術

如圖1所示，無源矩陣OLED顯示基板中，為了實現無源矩陣OLED的高分辨率和彩色化，更好地解決陰極模板分辨率低和器件成品率低等問題，提出了倒梯形陰極隔離柱的設計，從而在OLED器件制備過程中，利用隔離柱實現陰極層的自然斷裂，形成多個陰極圖案，從而提高產品良率。

其中，為了更好地發揮倒梯形隔離柱的隔斷作用，需要隔離柱的頂面與底面的有較大差距，由于現有材料形成的倒梯形隔離柱的倒角角度有限，只能通過隔離柱高度的設計增強其隔斷作用，而這樣會限制顯示基板的輕薄化。

發明內容

本發明旨在至少解決現有技術中存在的技術問題之一，提供一種能夠降低顯示基板厚度，提升隔離效果的顯示基板。

解決本發明技術問題所采用的技術方案是一種顯示基板，包括位于基底上的隔離柱，所述隔離柱包括：第一隔離層和第二隔離層；

其中，所述第一隔離層位于所述第二隔離層背離所述基底的一側；

所述第二隔離層和所述第一隔離層分別具有靠近所述基底的底面和遠離所述基底的頂面；其中，所述第一隔離層的頂面在所述基底的正投影覆蓋所述第一隔離層的底面在所述基底的正投影，所述第二隔離層的頂面在所述基底的正投影覆蓋所述第二隔離層的底面在所述基底的正投影，所述第二隔離層的底面在所述基底的正投影覆蓋所述第一隔離層的頂面在所述基底的正投影，且所述第二隔離層的底面的面積大于所述第一隔離層的頂面的面積。

優選的，所述第一隔離層與所述第二隔離層的材料相同。

進一步優選的，所述第一隔離層與所述第二隔離層的材料均包括有機光刻膠。

優選的，所述第一隔離層與所述第二隔離層的材料不同。

進一步優選的，所述第一隔離層的材料為第一負性光刻膠；所述第二隔離層的材料為第二負性光刻膠；所述第一負性光刻膠的光敏感度大于所述第二負性光刻膠的光敏感度；

或者，所述第一隔離層的材料為第一正性光刻膠；所述第二隔離層的材料為第二正性光刻膠；所述第一正性光刻膠的光敏感度小于所述第二正性光刻膠的光敏感度。

優選的，所述顯示基板為OLED顯示基板。

解決本發明技術問題所采用的技術方案是一種顯示基板的制備方法，包括：

通過構圖工藝在基底上依次形成第一隔離層和第二隔離層的圖形；

其中，所述第二隔離層和所述第一隔離層分別具有靠近所述基底的底面和遠離所述基底的頂面；其中，所述第一隔離層的頂面覆蓋所述第一隔離層的底面，所述第二隔離層的頂面覆蓋所述第二隔離層的底面，所述第二隔離層的底面覆蓋所述第一隔離層的頂面，且所述第二隔離層的底面的面積大于所述第一隔離層的頂面的面積。

優選的，所述通過構圖工藝在基底上依次形成第一隔離層和第二隔離層的圖形的步驟具體包括：

在基底上形成第一隔離層膜層，通過構圖工藝在基底上形成第一隔離層的圖形；

在形成有所述第一隔離層的基底上形成第二隔離層膜層，通過構圖工藝形成第二隔離層。