[發(fā)明專利]顯示基板及其制備方法、顯示裝置在審
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201810871986.8 | 申請(qǐng)日： | 2018-08-02 |
| 公開（公告）號(hào)： | CN109004106A | 公開（公告）日： | 2018-12-14 |
| 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人： | 劉華清;魏雄周 | 申請(qǐng)（專利權(quán)）人： | 京東方科技集團(tuán)股份有限公司;重慶京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號(hào)： | H01L51/52 | 分類號(hào)： | H01L51/52;H01L51/56 |
| 代理公司： | 北京天昊聯(lián)合知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11112 | 代理人： | 柴亮;張?zhí)焓?/td> |
| 地址： | 100015 *** | 國(guó)省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 隔離層 基底 正投影 底面 頂面 顯示基板 顯示裝置 隔離柱 制備 覆蓋 背離 | ||
1.一種顯示基板，包括位于基底上的隔離柱，其特征在于，
所述隔離柱包括：第一隔離層和第二隔離層；
其中，所述第一隔離層位于所述第二隔離層背離所述基底的一側(cè)；
所述第二隔離層和所述第一隔離層分別具有靠近所述基底的底面和遠(yuǎn)離所述基底的頂面；其中，所述第一隔離層的頂面在所述基底的正投影覆蓋所述第一隔離層的底面在所述基底的正投影，所述第二隔離層的頂面在所述基底的正投影覆蓋所述第二隔離層的底面在所述基底的正投影，所述第二隔離層的底面在所述基底的正投影覆蓋所述第一隔離層的頂面在所述基底的正投影，且所述第二隔離層的底面的面積大于所述第一隔離層的頂面的面積。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，
所述第一隔離層與所述第二隔離層的材料相同。
3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的顯示基板，其特征在于，
所述第一隔離層與所述第二隔離層的材料均包括有機(jī)光刻膠。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，
所述第一隔離層與所述第二隔離層的材料不同。
5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的顯示基板，其特征在于，
所述第一隔離層的材料為第一負(fù)性光刻膠；所述第二隔離層的材料為第二負(fù)性光刻膠；所述第一負(fù)性光刻膠的光敏感度大于所述第二負(fù)性光刻膠的光敏感度；
或者，所述第一隔離層的材料為第一正性光刻膠；所述第二隔離層的材料為第二正性光刻膠；所述第一正性光刻膠的光敏感度小于所述第二正性光刻膠的光敏感度。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的顯示基板，其特征在于，
所述顯示基板為OLED顯示基板。
7.一種顯示基板的制備方法，其特征在于，包括：
通過(guò)構(gòu)圖工藝在基底上依次形成第一隔離層和第二隔離層的圖形；
其中，所述第二隔離層和所述第一隔離層分別具有靠近所述基底的底面和遠(yuǎn)離所述基底的頂面；其中，所述第一隔離層的頂面覆蓋所述第一隔離層的底面，所述第二隔離層的頂面覆蓋所述第二隔離層的底面，所述第二隔離層的底面覆蓋所述第一隔離層的頂面，且所述第二隔離層的底面的面積大于所述第一隔離層的頂面的面積。
8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，所述通過(guò)構(gòu)圖工藝在基底上依次形成第一隔離層和第二隔離層的圖形的步驟具體包括：
在基底上形成第一隔離層膜層，通過(guò)構(gòu)圖工藝在基底上形成第一隔離層的圖形；
在形成有所述第一隔離層的基底上形成第二隔離層膜層，通過(guò)構(gòu)圖工藝形成第二隔離層。
9.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，所述通過(guò)構(gòu)圖工藝在基底上依次形成第一隔離層和第二隔離層的圖形的步驟具體包括：
在基底上依次形成第一隔離層膜層和第二隔離層膜層，通過(guò)一次構(gòu)圖工藝形成包括第一隔離層和第二隔離層的圖形；
其中，所述第一隔離層的材料為第一負(fù)性光刻膠；所述第二隔離層的材料為第二負(fù)性光刻膠；所述第一負(fù)性光刻膠的光敏感度大于所述第二負(fù)性光刻膠的光敏感度；
或者，所述第一隔離層的材料為第一正性光刻膠；所述第二隔離層的材料為第二正性光刻膠；所述第一正性光刻膠的光敏感度小于所述第二正性光刻膠的光敏感度。
10.根據(jù)權(quán)利要求7所述的顯示基板的制備方法，其特征在于，
所述顯示基板為OLED顯示基板；
所述通過(guò)構(gòu)圖工藝在基底上依次形成第一隔離層和第二隔離層的圖形的步驟之后，還包括：通過(guò)蒸鍍工藝在基底上陰極層的圖形，所述陰極層在所述第二隔離層的邊緣位置自然斷裂，分割成多個(gè)陰極圖案。
11.一種顯示裝置，其特征在于，包括：
權(quán)利要求1至6中任意一項(xiàng)所述的顯示基板。
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H01L 半導(dǎo)體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機(jī)材料作有源部分或使用有機(jī)材料與其他材料的組合作有源部分的固態(tài)器件；專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設(shè)備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的；具有至少一個(gè)電位躍變勢(shì)壘或表面勢(shì)壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應(yīng)紅外線輻射、光、較短波長(zhǎng)的電磁輻射或微粒輻射；專門適用于將這些輻射能轉(zhuǎn)換為電能，或者適用于通過(guò)這樣的輻射進(jìn)行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發(fā)射的，如有機(jī)發(fā)光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇
