[發明專利]一種離子源安裝支架有效
| 申請號: | 201810645342.7 | 申請日: | 2018-06-21 |
| 公開(公告)號: | CN109599310B | 公開(公告)日: | 2021-01-05 |
| 發明(設計)人: | 楊圓明;宋韻洋;趙鑫;王漢清;楊恩武;劉蘭超;楊林月;劉敏勝 | 申請(專利權)人: | 新奧科技發展有限公司 |
| 主分類號: | H01J1/92 | 分類號: | H01J1/92 |
| 代理公司: | 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 065001 河*** | 國省代碼: | 河北;13 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 離子源 安裝 支架 | ||
本發明實施例公開了一種離子源安裝支架,涉及離子源安裝技術領域,用于提高離子源安裝支架的空間利用率及其通用性。所述離子源安裝支架包括:用于安裝在真空腔室上的法蘭安裝盤,通過間隙可調組件與法蘭安裝盤連接的離子源固定套,以及與離子源匹配設置的緊定件;其中,離子源固定套上設置有離子源容置孔、以及至少一個沿離子源容置孔的徑向設置的離子源限位孔;離子源限位孔與離子源容置孔連通,緊定件穿過離子源限位孔與設在離子源容置孔內的離子源固定連接。本發明實施例提供的離子源安裝支架用于實現離子源在真空腔室內的安裝。
技術領域
本發明涉及離子源安裝技術領域,尤其涉及一種離子源安裝支架。
背景技術
離子源是一種使中性原子或中性分子電離并從中引出離子束流的裝置,可廣泛的應用于各種離子加速器、質譜儀、電磁同位素分離器、離子注入機、離子束刻蝕裝置、離子推進器以及受控聚變裝置中的中性束注入器等設備。
目前,離子源多通過離子源安裝支架安裝在真空腔室的內壁上。離子源安裝支架通常采用三角形托架或梯形托架,比如,由兩塊相對設置的三角板或梯形板將其底部通過連接桿固定在真空腔室的內壁上,并在三角板或梯形板的頂部設置用于承托安裝離子源的離子源安裝孔,即可通過該離子源安裝支架完成離子源的安裝固定。
然而,離子源安裝支架采用三角形托架結構或梯形托架結構,容易在真空腔室內占用較大的安裝空間;而且,離子源的電氣部分及冷卻部分還需要通過貫穿件引出真空腔室外,也容易在三角形托架或梯形托架占用空間的基礎上進一步增加占用的空間,從而不利于實現離子源在小型真空腔室的安裝固定。
發明內容
本發明實施例的目的在于提供一種離子源安裝支架,用于提高離子源安裝支架的空間利用率及其通用性。
為達到上述目的,本發明實施例提供了如下技術方案:
本發明實施例提供了一種離子源安裝支架,包括:用于安裝在真空腔室上的法蘭安裝盤,通過間隙可調組件與法蘭安裝盤連接的離子源固定套,以及與離子源匹配設置的緊定件;其中,離子源固定套上設置有離子源容置孔、以及至少一個沿離子源容置孔的徑向設置的離子源限位孔;離子源限位孔與離子源容置孔連通,緊定件穿過離子源限位孔與設在離子源容置孔內的離子源固定連接。
本發明實施例提供的離子源安裝支架,在離子源固定套上分別設置離子源容置孔和離子源限位孔,即可利用穿過離子源限位孔的緊定件,將設在離子源容置孔內的離子源與離子源固定套固定,從而高效利用離子源固定套的占用空間,并實現離子源在離子源固定套中的快速安裝。而且,本發明實施例提供的離子源安裝支架,將離子源固定套通過間隙可調組件與法蘭安裝盤連接,不僅可以利用法蘭安裝盤實現離子源固定套與真空腔室的固定安裝,還可以利用間隙可調組件調整離子源固定套與法蘭安裝盤之間的間隙,從而對離子源在真空腔室內的位置進行相應調整,以便于滿足小型真空腔室或球形真空腔室對離子源的安裝需求,有利于提高離子源安裝支架的通用性。由此,本發明實施例提供的離子源安裝支架,通過法蘭安裝盤、間隙可調組件和離子源固定套依次串接的結構,不僅可以將離子源安裝支架緊湊化布置,提高離子源安裝支架的空間利用率,還能對離子源在真空腔室內的位置進行相應調整,以提高離子源安裝支架的通用性。
附圖說明
此處所說明的附圖用來提供對本發明實施例的進一步理解,構成本發明實施例的一部分,本發明的示意性實施例及其說明用于解釋本發明,并不構成對本發明的不當限定。在附圖中:
圖1為本發明實施例提供的一種離子源安裝支架的分解示意圖;
圖2為圖1所示離子源安裝支架的局部連接示意圖;
圖3為圖1所示離子源安裝支架裝配總成的結構示意圖;
圖4為本發明實施例提供的另一種離子源安裝支架的結構示意圖;
圖5為本發明實施例提供的離子源與貫穿件的連接示意圖;
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