[發明專利]一種制備高鉬和高磷鍍層的化學鍍鎳-鉬-磷合金溶液在審
| 申請號： | 201810287344.3 | 申請日： | 2018-04-03 |
| 公開（公告）號： | CN108277486A | 公開（公告）日： | 2018-07-13 |
| 發明（設計）人： | 孫碩;孔淼;劉瀅;蔡新雯;張加帥;嚴鳴;馬正華 | 申請（專利權）人： | 沈陽工業大學 |
| 主分類號： | C23C18/50 | 分類號： | C23C18/50 |
| 代理公司： | 沈陽智龍專利事務所(普通合伙) 21115 | 代理人： | 宋鐵軍 |
| 地址： | 110178 遼寧省沈*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 鍍層 化學鍍鎳 制備 合金溶液 高磷 高鉬 掃描電鏡結果 非晶態結構 擴散阻擋層 次磷酸鈉 電子行業 鍍液配方 化學鍍液 檸檬酸鈉 熱穩定性 溶液制備 四硼酸鈉 速度要求 磷鍍液 硫酸鎳 乙酸鈉 鉬酸鈉 丙酸 鍍液 糖精 沉積 配方 應用 | ||
【權利要求書】：
1.一種制備高鉬和高磷鍍層的化學鍍鎳-鉬-磷合金溶液，其特征在于：該溶液每升含有：
硫酸鎳：26～36g；
次磷酸鈉：27～37g；
鉬酸鈉：0.6～0.7g；
檸檬酸鈉：40～50g；
丙酸：1～2.5ml；
四硼酸鈉：10～15g；
乙酸鈉：10～20g；
糖精：0.8～0.9g。
2.根據權利要求1所述的制備高鉬和高磷鍍層的化學鍍鎳-鉬-磷合金溶液，其特征在于：溶液為堿性。
3.根據權利要求2所述的制備高鉬和高磷鍍層的化學鍍鎳-鉬-磷合金溶液，其特征在于：溶液pH值為8.0～8.5。
4.根據權利要求1所述的制備高鉬和高磷鍍層的化學鍍鎳-鉬-磷合金溶液，其特征在于：溶液中還添加有用來調節pH值的氨水。
5.根據權利要求1所述的制備高鉬和高磷鍍層的化學鍍鎳-鉬-磷合金溶液，其特征在于：溶液的溫度控制在75～80℃。
6.一種如權利要求1-5任一項所述化學鍍鎳-鉬-磷合金溶液的制備方法，其特征在于：
依配方分別稱取檸檬酸鈉、硫酸鎳、鉬酸鈉胺、四硼酸鈉、乙酸鈉、糖精、次磷酸鈉加水制得溶液；
將硫酸鎳溶液、鉬酸鈉胺溶液、四硼酸鈉溶液、乙酸鈉溶液、糖精溶液和次磷酸鈉溶液邊攪拌，邊加入檸檬酸鈉溶液中，得混合溶液；
將上述混合溶液用氨水調節pH值至8.0～8.5范圍內，并加蒸餾水稀釋至規定體積。
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C23 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面化學處理；金屬材料的擴散處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆；金屬材料腐蝕或積垢的一般抑制
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法，例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法，例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍，即無電流化學鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預處理
C23C 對金屬材料的鍍覆；用金屬材料對材料的鍍覆；表面擴散法，化學轉化或置換法的金屬材料表面處理；真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C18-00 通過液態化合物分解抑或覆層形成化合物溶液分解、且覆層中不留存表面材料反應產物的化學鍍覆
C23C18-02 .熱分解法
C23C18-14 .輻射分解法，例如光分解、粒子輻射
C23C18-16 .還原法或置換法，例如無電流鍍
C23C18-54 .接觸鍍，即無電流化學鍍
C23C18-18 ..待鍍材料的預處理
