本發明的一個方式涉及的成膜用掩模具有一對第一板部和一對第二板部。上述一對第一板部具有一對第一內周緣部和一對第一外周緣部。上述一對第一內周緣部分別具有在第一軸向上相向且朝向相互分離的方向呈凸形狀的第一彎曲部。上述一對第一外周緣部分別與上述一對第一內周緣部在上述第一軸向上相向。上述一對第二板部具有一對第二內周緣部和一對第二外周緣部。上述一對第二內周緣部分別具有在上述第二軸向上相向且朝向相互分離的方向呈凸形狀的第二彎曲部。上述一對第二外周緣部分別與上述一對第二內周緣部在上述第二軸向上相向。

技術領域

本發明涉及在等離子體CVD裝置等成膜裝置中使用的成膜用掩模以及具有該成膜用掩模的成膜裝置。

背景技術

在等離子體CVD裝置等的成膜裝置中，用于防止向基板周緣部著膜的掩模被廣泛使用。例如在專利文獻1中公開了一種具有與配置于加熱板上的玻璃基板的周緣部相向的掩模、以及在處理室內可升降地支承該掩模的掩模支承體的真空處理裝置。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本專利第5773731號公報。

發明內容

發明要解決的課題

隨著近年來的基板的大型化，在基板的周緣部配置的掩模的尺寸也大型化，高精度地維持掩模的開口形狀逐漸變得困難。例如，在專利文獻1的結構中，由于在靠近加熱板的掩模的內周側和與其相反的外周側之間的輸入熱量不同，所以存在掩模開口形狀發生變化，在欲掩模的區域即基板周緣部的膜端的形狀精度變差的可能。此外，存在由于掩模的內周側與外周側的應力差而使掩模破損的可能。

鑒于像以上這樣的情況，本發明的目的在于提供一種能夠維持基板周緣部的膜端的形狀精度的成膜用掩模以及具有該成膜用掩模的成膜裝置。

用于解決課題的方案

為了達到上述目的，本發明的一個方式涉及的成膜用掩模具有一對第一板部和一對第二板部。

上述一對第一板部具有一對第一內周緣部和一對第一外周緣部。上述一對第一內周緣部分別具有在第一軸向上相向且朝向相互分離的方向呈凸形狀的第一彎曲部。上述一對第一外周緣部分別與上述一對第一內周緣部在上述第一軸向上相向。

上述一對第二板部具有一對第二內周緣部和一對第二外周緣部。上述一對第二內周緣部分別具有在上述第二軸向上相向且朝向相互分離的方向呈凸形狀的第二彎曲部。上述一對第二外周緣部分別與上述一對第二內周緣部在上述第二軸向上相向。

在上述成膜用掩模中，由于第一及第二板部的內周緣部分別具有朝向相互分離方向呈凸形狀的第一及第二彎曲部，因此，在第一及第二彎曲部發生沿著長度方向的熱膨脹(熱伸長)時，第一及第二彎曲部變形為直線的形狀。由此，能夠維持基板周緣部上的膜端的形狀精度。

上述一對第一板部還可以具有多個第一缺口部，其分別設置于上述一對第一外周緣部且間隔配置于與上述第一軸向正交的第二軸向；同樣，上述一對第二板部還可以具有多個第二缺口部，其分別設置于上述一對第二外周緣部且間隔配置于上述第一軸向。

由此，伴隨著上述內周緣部的熱變形的外周緣部的變形變得容易，由此能夠防止第一及第二板部的破損。

上述一對第一板部和上述一對第二板部分別由單獨的板構件構成。由此，能夠抑制在熱輸入時的第一板部與第二板部間的相互干涉。

上述一對第一板部的兩端部重合于上述一對第二板部的兩端部。由此，能夠防止第一及第二板部的分離，并維持這些板部規定的一體關系。

上述一對第一板部和上述一對第二板部通常由陶瓷材料構成。

本發明一個方式涉及的成膜裝置具有：真空腔、載置臺、成膜源及掩模。