[實用新型]電極結構、觸控板及觸控裝置有效
| 申請號： | 201721924180.8 | 申請日： | 2017-12-30 |
| 公開（公告）號： | CN207909096U | 公開（公告）日： | 2018-09-25 |
| 發明（設計）人： | 王士敏;趙湘輝;朱澤力;古海裕;宋小來;李寶會 | 申請（專利權）人： | 深圳萊寶高科技股份有限公司;重慶萊寶科技有限公司 |
| 主分類號： | G06F3/041 | 分類號： | G06F3/041 |
| 代理公司： | 廣州華進聯合專利商標代理有限公司 44224 | 代理人： | 生啟 |
| 地址： | 518057 廣東省深圳*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 氮氧化物層 氮化物層 電極結構 氧化物層 觸控裝置 觸控板 導電層 過渡層 黑化層 本實用新型 導電金屬層 鉬合金層 附著性 靈敏度 疊層 消影 鉬層 | ||
1.一種電極結構，用于觸控裝置，其特征在于，所述電極結構包括依次疊層的第一黑化層、過渡層及導電層；
所述第一黑化層為鉬的氧化物層、鉬的氮化物層、鉬的氮氧化物層、鈮的氧化物層、鈮的氮化物層、鈮的氮氧化物層、鉻的氧化物層、鉻的氮化物層、鉻的氮氧化物層、鈦的氧化物層、鈦的氮化物層、鈦的氮氧化物層、鎢的氧化物層、鎢的氮化物層或鎢的氮氧化物層；
所述過渡層為鉬層或鉬合金層；
所述導電層為導電金屬層。
2.根據權利要求1所述的電極結構，其特征在于，所述第一黑化層為氧化鉬層、氮化鉬層、氮氧化鉬層、氧化鈮層、氮化鈮層、氮氧化鈮層、氧化鉻層、氮化鉻層、氮氧化鉻層、氧化鈦層、氮化鈦層、氮氧化鈦層、氧化鎢層、氮化鎢層、氮氧化鎢層。
3.根據權利要求1所述的電極結構，其特征在于，所述第一黑化層的厚度為10nm～100nm；所述過渡層的厚度為10nm～150nm；所述導電層的厚度為50nm～800nm。
4.根據權利要求1所述的電極結構，其特征在于，所述導電層為銅層、銀層或鋁層。
5.根據權利要求1所述的電極結構，其特征在于，還包括層疊于所述導電層表面的保護層，所述保護層為鉬層或鉬合金層。
6.根據權利要求5所述的電極結構，其特征在于，還包括層疊于所述保護層的表面的第二黑化層，所述第二黑化層為鉬的氧化物層、鉬的氮化物層、或鉬的氮氧化物層。
7.根據權利要求6所述的電極結構，其特征在于，所述第二黑化層的厚度為10nm～100nm。
8.根據權利要求1所述的電極結構，其特征在于，還包括依次層疊于所述導電層的表面的緩沖層及保護層；所述保護層為鉬層或鉬合金層。
9.一種觸控板，其特征在于，包括基板及疊層于所述基板表面的權利要求1～8任一項所述的電極結構。
10.一種觸控裝置，其特征在于，包括權利要求1～8任一項所述的電極結構。
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