技術(shù)領(lǐng)域

本實(shí)用新型涉及硅片清洗裝置技術(shù)領(lǐng)域，尤其涉及一種硅片清洗架。

背景技術(shù)

隨著大規(guī)模集成電路的發(fā)展,集成度的不斷提高,線寬的不斷減小,對(duì)硅片的質(zhì)量要求也越來(lái)越高,特別是對(duì)硅片的表面質(zhì)量要求越來(lái)越嚴(yán)。這主要是因?yàn)楣杵瑨伖饷娴念w粒和金屬雜質(zhì)沾污會(huì)嚴(yán)重影響器件的質(zhì)量和成品率。在目前的集成電路生產(chǎn)中,硅片清洗不徹底,可能使全部硅片報(bào)廢,或者制造出來(lái)的器件性能低劣,穩(wěn)定性和可靠性很差。

目前，硅片清洗多采用物理清洗方法。一是刷洗或擦洗：可去除硅片表面的顆粒污染和大多數(shù)粘在硅片上的薄膜，但是如果操作不當(dāng)會(huì)在硅片表面產(chǎn)生劃痕而影響硅片表面質(zhì)量，而且工作效率低下，勞動(dòng)強(qiáng)度較大。二是高壓清洗：靠噴射作用清洗硅片不易產(chǎn)生劃痕和損傷，但高壓噴射會(huì)產(chǎn)生靜電作用。三是采用超聲波清洗，超聲波能傳入溶液，靠氣蝕作用洗掉硅片上的污染物。但是，如果去除硅片上小于1微米的顆粒則比較困難，需要通過(guò)提高超聲波頻率才能去除，而現(xiàn)有的清洗設(shè)備由于設(shè)計(jì)不合理，盛放硅片的清洗籃是放置在鋼絲網(wǎng)上的，若提高超聲波頻率，清洗籃會(huì)振動(dòng)加劇，反而會(huì)對(duì)硅片造成損壞，智能以較低的頻率進(jìn)行清洗。

實(shí)用新型內(nèi)容

本實(shí)用新型是提供一種硅片清洗架，旨在解決上述現(xiàn)有技術(shù)中提高超聲波清洗頻率會(huì)對(duì)硅片造成損壞的技術(shù)問(wèn)題。

為解決上述技術(shù)問(wèn)題，本實(shí)用新型所采取的技術(shù)方案是：

一種硅片清洗架，包括能夠放置到超聲波清洗池內(nèi)的清洗筐，所述清洗筐內(nèi)設(shè)若干個(gè)硅片放置區(qū)，所述硅片放置區(qū)上下為敞口狀，相鄰硅片放置區(qū)間設(shè)有支撐臺(tái)，用于盛放硅片的清洗籃兩側(cè)凸檐能夠放置在支撐臺(tái)上。

優(yōu)選地，所述硅片放置區(qū)并列設(shè)置在清洗筐的內(nèi)部空間內(nèi)，所述支撐臺(tái)為若干個(gè)、且設(shè)置在硅片放置區(qū)兩側(cè)。

優(yōu)選地，所述清洗筐為矩形框架式結(jié)構(gòu)，所述清洗筐的四邊均包括上邊框和下邊框，所述上邊框與下邊框的對(duì)應(yīng)四角部位通過(guò)立柱固定相連，所述支撐臺(tái)的左右兩端與清洗筐的左右兩側(cè)上邊框固定相連。

優(yōu)選地，所述清洗筐底部對(duì)應(yīng)的下邊框間水平設(shè)有交叉相連的橫向加強(qiáng)筋和縱向加強(qiáng)筋，所述橫向加強(qiáng)筋和縱向加強(qiáng)筋端部分別與四周下邊框焊接固定，所述支撐臺(tái)對(duì)應(yīng)設(shè)置在橫向加強(qiáng)筋上方。

優(yōu)選地，所述支撐臺(tái)包括水平上托架和下支撐桿，所述上托架為中部鏤空的長(zhǎng)方形，所述上托架為兩個(gè)以上、且沿橫向加強(qiáng)筋長(zhǎng)度方向間隔設(shè)置，所述清洗筐的左右兩側(cè)上邊框通過(guò)上連接桿與上托架短邊相連；所述下支撐桿上端與上托架的短邊相連、下端與橫向加強(qiáng)筋固定相連；相鄰上托架間距離小于清洗籃寬度。

優(yōu)選地，所述清洗筐的前后兩側(cè)上邊框內(nèi)側(cè)設(shè)有端部托架，所述端部托架為中部鏤空的長(zhǎng)方形，所述端部托架短邊寬度為上托架短邊的一半。

優(yōu)選地，所述清洗筐的左右兩側(cè)上邊框與下邊框之間設(shè)有垂直加強(qiáng)筋。

優(yōu)選地，所述清洗筐的前后兩側(cè)外部均設(shè)有兩個(gè)以上的把手。

優(yōu)選地，所述把手固定在安裝板上，所述安裝板兩側(cè)焊接固定在立桿上，所述立桿上下兩端分別與上邊框、下邊框焊接固定。

優(yōu)選地，所述把手下方設(shè)有肋板，所述肋板兩端與立柱固定相連，所述肋板中部與立桿焊接固定。

采用上述技術(shù)方案所產(chǎn)生的有益效果在于：與現(xiàn)有技術(shù)相比，本實(shí)用新型通過(guò)硅片放置區(qū)兩側(cè)的支撐臺(tái)對(duì)盛放硅片的清洗籃進(jìn)行支撐，可將清洗籃架空在清洗筐內(nèi)，清洗筐置于敞口狀的硅片放置區(qū)內(nèi)，使清洗籃內(nèi)硅片置于超聲波清洗池內(nèi)的清洗液中，能夠利用高頻率超聲波對(duì)硅片進(jìn)行清洗，使清洗池底部超聲波更好地作用到硅片表面，提升了硅片清洗的潔凈度，保證了硅片清洗質(zhì)量。

附圖說(shuō)明

圖1是本實(shí)用新型實(shí)施例提供的一種硅片清洗架的結(jié)構(gòu)示意圖；

圖2是圖1中硅片清洗架的使用狀態(tài)示意圖；

圖中：1-硅片放置區(qū)，2-支撐臺(tái)，3-清洗籃，4-上邊框，5-下邊框，6-立柱，7-橫向加強(qiáng)筋，8-縱向加強(qiáng)筋，9-上托架，10-下支撐桿，11-上連接桿，12-端部托架，13-垂直加強(qiáng)筋，14-把手，15-安裝板，16-立桿，17-水平立板。

具體實(shí)施方式

為了使本實(shí)用新型的目的、技術(shù)方案及優(yōu)點(diǎn)更加清楚明白，以下結(jié)合附圖及具體實(shí)施例，對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步詳細(xì)的說(shuō)明。應(yīng)當(dāng)理解，此處所描述的具體實(shí)施例僅僅用以解釋本實(shí)用新型，并不用于限定本實(shí)用新型。