技術領域

本實用新型涉及表面處理領域，尤其涉及一種線性蒸發源及蒸鍍設備。

背景技術

蒸鍍裝置是用于薄膜制備領域的實驗和生產設備，在有機電致發光二極管 (OLED)、有機太陽能電池(OPV)、有機場效應晶體管(OFET)等有機光電領域被廣泛使用。目前現行蒸鍍裝置的蒸發源主要有點源和線源，而線性蒸發源以其材料利用率高、成膜均勻性好等優點，逐漸成為蒸鍍設備的首要選擇。

目前線性蒸發源所采用的遮擋裝置都為外置式的開關，主要通過將一塊遮擋板放置于噴嘴上方，以攔截從噴嘴中蒸出的材料，這種遮擋裝置雖然構造比較簡單、控制方便。但是在使用過程中容易出現關閉不嚴以及漏膜等問題，使得蒸鍍材料交叉污染，而且由于這種遮擋裝置的遮擋板距離噴嘴較近，影響噴嘴的溫度，使得蒸發源存在很大的堵塞風險，嚴重影響成膜性質和設備的使用效率，另外，隨著使用時間的增長，遮擋裝置的遮擋板上會殘留較多的材料，由于材料的污染，這部分材料無法回收，造成很大的材料浪費，并且遮擋板上的材料有脫落風險，不僅容易堵塞噴嘴，也容易污染腔室環境。

實用新型內容

本實用新型實施例提供一種線性蒸發源及蒸鍍設備，用于減少蒸鍍材料泄露的發生，提高蒸鍍材料的利用率。

為達到上述目的，本實用新型提供以下技術方案：

一種線性蒸發源，包括：

殼體，所述殼體的一端具有開口、內部設有用于容置蒸鍍材料的中空腔室；

頂罩，所述頂罩蓋合所述殼體的開口端，所述頂罩上設有多個用于向待鍍基板噴射氣化的蒸鍍材料的噴嘴；

還包括：

遮擋模塊，所述遮擋模塊設置于所述中空腔室內部且具有打開工位和關閉工位；當所述遮擋模塊處于關閉工位時，所述遮擋模塊與所述頂罩朝向所述中空腔室內部的一面相接觸以對中空腔體內流向所述噴嘴的氣化的蒸鍍材料進行阻擋；

驅動模塊，所述驅動模塊與所述遮擋模塊相連接以驅動所述遮擋模塊動作，當所述遮擋模塊從關閉工位切換至打開工位時，所述噴嘴向所述待鍍基板噴射氣化的蒸鍍材料。

在上述線性蒸發源中，在遮擋模塊處于打開工位時，線性蒸發源處于正常蒸鍍狀態，此時，氣化的蒸鍍材料從頂罩上的噴嘴噴出，線性蒸發源對待鍍基板進行鍍膜，當需要進行遮擋時，驅動模塊驅動遮擋模塊從打開工位切換至關閉工位，遮擋模塊與頂罩朝向中空腔室內部的一面相接觸，阻擋中空腔體內氣化的蒸鍍材料流向噴嘴，以使蒸鍍材料只能夠留在中空腔室內部，防止蒸鍍材料泄露，且同時外部的其它材料不能從外界進入到中空腔室內部，避免污染中空腔室內部的蒸鍍材料，提高了蒸鍍材料的潔凈度。

因此，上述線性蒸發源能夠減少蒸鍍材料泄露的發生，提高蒸鍍材料的利用率。

優選地，所述遮擋模塊包括擋板，所述擋板的延伸方向與多個所述噴嘴的排列方向平行、且沿垂直于所述頂罩的方向可移動地設置在所述中空腔室內部。

進一步地，所述擋板在所述頂罩上的投影覆蓋每一個所述噴嘴在所述頂罩上朝向所述中空腔室一側的開口。

進一步地，所述遮擋模塊還包括至少一個立柱，所述立柱垂直設置在所述擋板朝向所述頂罩的一側，且所述立柱的軸線與所述噴嘴的軸線相平行，當所述遮擋模塊處于關閉工位時，所述立柱位于所述噴嘴內部。

更進一步地，所述遮擋模塊包括多個立柱，多個所述立柱與多個所述噴嘴一一對應設置，當所述遮擋模塊處于關閉工位時，多個所述立柱位于與之一一對應的所述噴嘴內部。

更進一步地，每一個所述立柱的直徑小于所述噴嘴的最小內徑。

更進一步地，還包括第一加熱器，所述第一加熱器設置在所述殼體內部，用于為所述殼體提供熱量。

更進一步地，所述擋板上設置有第二加熱器，和/或，所述立柱上設有第二加熱器。

優選地，所述驅動模塊為伺服馬達。

優選地，還包括位于所述殼體的外壁上的限位板，所述限位板對稱設置在所述噴嘴排列方向兩側。

另外，本實用新型還提供一種蒸鍍設備，還包括如上任一項所述的線性蒸發源。

由于線性蒸發源能夠減少蒸鍍材料泄露的發生，提高蒸鍍材料的利用率，因此，具有該線性蒸發源的蒸鍍設備也能夠減少蒸鍍材料泄露的發生，提高蒸鍍材料的利用率。

附圖說明

圖1為本實用新型提供的一種線性蒸發源的結構示意圖；

圖2為本實用新型提供的一種線性蒸發源的另一結構示意圖；

圖3為本實用新型提供的一種線性蒸發源處于關閉工位時的結構示意圖；

圖4為本實用新型提供的一種線性蒸發源的另一結構示意圖；