1.一種線性蒸發(fā)源，其特征在于，包括：

殼體，所述殼體的一端具有開口、內(nèi)部設有用于容置蒸鍍材料的中空腔室；

頂罩，所述頂罩蓋合所述殼體的開口端，所述頂罩上設有多個用于向待鍍基板噴射氣化的蒸鍍材料的噴嘴；

遮擋模塊，所述遮擋模塊設置于所述中空腔室內(nèi)部且具有打開工位和關閉工位；當所述遮擋模塊處于關閉工位時，所述遮擋模塊與所述頂罩朝向所述中空腔室內(nèi)部的一面相接觸以對中空腔體內(nèi)流向所述噴嘴的氣化的蒸鍍材料進行阻擋；

驅(qū)動模塊，所述驅(qū)動模塊與所述遮擋模塊相連接以驅(qū)動所述遮擋模塊動作，當所述遮擋模塊從關閉工位切換至打開工位時，所述噴嘴向所述待鍍基板噴射氣化的蒸鍍材料。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，所述遮擋模塊包括擋板，所述擋板的延伸方向與多個所述噴嘴的排列方向平行、且沿垂直于所述頂罩的方向可移動地設置在所述中空腔室內(nèi)部。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，所述擋板在所述頂罩上的投影覆蓋每一個所述噴嘴在所述頂罩上朝向所述中空腔室一側(cè)的開口。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，所述遮擋模塊還包括至少一個立柱，所述立柱垂直設置在所述擋板朝向所述頂罩的一側(cè)，且所述立柱的軸線與所述噴嘴的軸線相平行，當所述遮擋模塊處于關閉工位時，所述立柱位于所述噴嘴內(nèi)部。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，所述遮擋模塊包括多個立柱，多個所述立柱與多個所述噴嘴一一對應設置，當所述遮擋模塊處于關閉工位時，多個所述立柱位于與之一一對應的所述噴嘴內(nèi)部。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，每一個所述立柱的直徑小于所述噴嘴的最小內(nèi)徑。

7.根據(jù)權(quán)利要求4所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，還包括第一加熱器，所述第一加熱器設置在所述殼體內(nèi)部。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，所述擋板上設置有第二加熱器，和/或，所述立柱上設有第二加熱器。

9.根據(jù)權(quán)利要求1所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，所述驅(qū)動模塊為伺服馬達。

10.根據(jù)權(quán)利要求1-9任一項所述的線性蒸發(fā)源，其特征在于，還包括位于所述殼體的外壁上的限位板，所述限位板對稱設置在所述噴嘴排列方向兩側(cè)。

11.一種蒸鍍設備，其特征在于，包括如權(quán)利要求1-10任一項所述的線性蒸發(fā)源。