1.一種基板翻轉裝置，其特征在于，所述基板包括多列呈列排布的晶片，每列晶片包括多片晶片，所述基板翻轉裝置包括：用于承載晶片的、能夠上下移動的多個提升銷以及用于夾持晶片邊緣的邊緣夾持器，所述多個提升銷與待承載的基板上的多個晶片相對應，且所述提升銷的表面小于晶片表面，每個所述提升銷的上下移動能夠帶動放置在其上的晶片上下移動；

所述邊緣夾持器包括多個相互平行的夾持部件，每個所述夾持部件包括多根上下相對設置的夾持棒，所述多根上下相對設置的夾持棒用于夾持一列晶片的上下表面的邊緣區域；

所述多根上下相對設置的夾持棒在豎直方向上能夠運動，或者，所述多根上下相對設置的夾持棒在豎直方向和水平方向上均能夠運動。

2.根據權利要求1所述的基板翻轉裝置，其特征在于，所述多個提升銷成列排布，所述基板翻轉裝置還包括提升銷運動控制部件，所述提升銷運動控制部件用于控制所有所述提升銷、一列提升銷或者互不相鄰列上的多列提升銷同時上下移動。

3.根據權利要求1所述的基板翻轉裝置，其特征在于，所述基板翻轉裝置還包括用于承載基板的基座，所述基座能夠對放置在其上的基板進行加熱。

4.根據權利要求1所述的基板翻轉裝置，其特征在于，所述基板翻轉裝置還包括基板傳送叉定位部件，所述基板傳送叉定位部件用于對各個分叉的自由端進行定位，以使傳送的基板上的各個晶片和各自對應的提升銷均上下對準。

5.根據權利要求1-4任一項所述的基板翻轉裝置，其特征在于，每個所述夾持部件用于夾持一列的晶片，相鄰兩個所述夾持部件之間的間距d為n個晶片在行方向上的寬度，其中，n為正整數。

6.一種基板處理系統，其特征在于，所述基板包括多列呈列排布的晶片，每列晶片包括多片晶片，所述基板處理系統包括：用于裝載基板的裝載室、用于傳送基板的傳送室、用于基板處理的工藝反應室、用于基板翻轉的翻轉室以及用于拆卸基板的拆卸室，所述傳送室分別與所述裝載室、所述工藝反應室、所述翻轉室以及所述拆卸室之間連通且均設置有隔離閥；

所述翻轉室內設置有如權利要求1-5任一項所述的基板翻轉裝置。

7.根據權利要求6所述的基板處理系統，其特征在于，所述傳送室內設置有基板傳送裝置，所述基板傳送裝置包括：

傳送機械臂，所述傳送機械臂上設置有基板傳送叉，所述基板傳送叉包括一條主干和多條相互平行的分叉，每條所述分叉的一端連接在所述主干上，另一端為自由端；

每條所述分叉上設置有多個凹槽，每相鄰兩條所述分叉上的多個所述凹槽相對設置；

每條所述分叉上的每相鄰兩個凹槽與相鄰分叉上與之相對的兩個凹槽共同形成支撐一片晶片的晶片支撐結構。

8.根據權利要求7所述的基板處理系統，其特征在于，所述凹槽的側壁為斜坡。

9.根據權利要求7-8任一項所述的基板處理系統，其特征在于，所述系統還包括設置在所述裝載室前端的基板裝載裝置，所述基板裝載裝置與所述基板傳送裝置的結構相同。

10.根據權利要求7-8任一項所述的基板處理系統，其特征在于，所述系統還包括設置在所述拆卸室后端的基板拆卸裝置，所述基板拆卸裝置的結構與所述基板傳送裝置的結構相同。