1.一種壓力平穩(wěn)的加注系統(tǒng)，其特征在于，包括依次連接的打料泵(6)、原料儲罐(7)、加注泵(8)以及緩沖罐(1)，所述加注泵(8)與所述原料儲罐(7)的底部連接，所述原料儲罐(7)的頂部設置有液位傳感器(71)，所述原料儲罐(7)的罐壁四周外包裹有防爆半導體電伴熱帶(72)，所述防爆半導體電伴熱帶(72)外以及所述原料儲罐(7)的頂部和底部均設置有保溫板(73)，

所述打料泵(6)、所述液位傳感器(71)以及所述加注泵(8)均與控制器連接，

所述原料儲罐(7)內設置有攪拌棒(74)，所述攪拌棒(74)伸出所述原料儲罐(7)與電機(75)連接，所述攪拌棒(74)上設置有分散盤(76)，所述分散盤(76)包括分散盤盤體(761)，所述分散盤盤體(761)上設置有與所述攪拌棒(74)連接的中心孔(762)，所述中心孔(762)內設置有卡住所述攪拌棒(74)的卡槽(763)，所述分散盤盤體(761)的四周設置有若干個與所述分散盤盤體(761)表面垂直的分散齒(764)，所述分散齒(764)間隔設置在所述分散盤盤體(761)軸向方向上的兩側，

所述緩沖罐(1)包括罐體(16)，所述罐體(16)的上下兩側分別設置有伸入至所述罐體(16)內的進料管道(11)和出料管道(12)，所述進料管道(11)與所述加注泵(8)連接，所述出料管道(12)內設置有均流板(15)，所述進料管道(11)和所述出料管道(12)的外壁上均設置有環(huán)形凹槽(13)，

所述罐體(16)內靠近其內壁四周設置有環(huán)形氣囊(2)，所述環(huán)形氣囊(2)內充有氮氣，所述環(huán)形氣囊(2)的兩個環(huán)形端口分別設置在兩個所述環(huán)形凹槽(13)內。

2.根據權利要求1所述的一種壓力平穩(wěn)的加注系統(tǒng)，其特征在于，所述環(huán)形氣囊(2)和所述罐體(16)內壁之間設置有聚氨酯保溫層(3)。

3.根據權利要求1所述的一種壓力平穩(wěn)的加注系統(tǒng)，其特征在于，所述環(huán)形氣囊(2)包括進氣口(21)和出氣口(22)，所述進氣口(21)和所述出氣口(22)均與儲氣罐(4)連接，且所述進氣口(21)通過蛇形熱交換器(5)與所述儲氣罐(4)連接。

4.根據權利要求1所述的一種壓力平穩(wěn)的加注系統(tǒng)，其特征在于，所述進料管道(11)位于所述罐體(16)內的一端連接有直徑逐漸變大的錐筒狀管道(14)。

5.根據權利要求1所述的一種壓力平穩(wěn)的加注系統(tǒng)，其特征在于，所述均流板(15)上均勻設置有若干個圓形通孔(151)。

6.根據權利要求3所述的一種壓力平穩(wěn)的加注系統(tǒng)，其特征在于，所述儲氣罐(4)的頂部設置有補氣口(41)。

7.根據權利要求3所述的一種壓力平穩(wěn)的加注系統(tǒng)，其特征在于，所述進氣口(21)和所述出氣口(22)上均設置有電磁閥(23)。

8.根據權利要求1所述的一種壓力平穩(wěn)的加注系統(tǒng)，其特征在于，所述環(huán)形氣囊(2)為導熱硅橡膠氣囊。