[實用新型]鎂合金鑄軋系統(tǒng)有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201720100268.1 | 申請日： | 2017-01-23 |
| 公開（公告）號： | CN206425507U | 公開（公告）日： | 2017-08-22 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 陳曉陽;李華欣 | 申請（專利權(quán)）人： | 深圳市中創(chuàng)鎂工程技術(shù)有限公司 |
| 主分類號： | B22D11/06 | 分類號： | B22D11/06 |
| 代理公司： | 廣州市越秀區(qū)哲力專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙)44288 | 代理人： | 石伍軍,張鵬 |
| 地址： | 518000 廣東省深圳市*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 鎂合金 系統(tǒng) | ||
1.一種鎂合金鑄軋系統(tǒng)，包括鑄嘴、連接管和用于存儲鎂合金熔體的前液箱，所述鑄嘴通過所述連接管與所述前液箱連接，所述鑄嘴設(shè)有鑄嘴熔體入口和鑄嘴熔體出口，其特征在于，所述連接管設(shè)有一級分流單元、連接管熔體入口和連接管熔體出口，所述連接管熔體入口與所述前液箱連接，所述連接管熔體出口與所述鑄嘴熔體入口連接，所述鑄嘴上設(shè)有二級分流單元。
2.如權(quán)利要求1所述的鎂合金鑄軋系統(tǒng)，其特征在于，所述一級分流單元包括至少一個一級分流塊，所述一級分流塊呈半橢圓形狀。
3.如權(quán)利要求1所述的鎂合金鑄軋系統(tǒng)，其特征在于，所述一級分流單元包括至少兩個相互間隔設(shè)置的一級分流塊。
4.如權(quán)利要求3所述的鎂合金鑄軋系統(tǒng)，其特征在于，兩個相鄰一級分流塊的間隔距離在熔體的垂直方向由中部向兩端逐漸增大。
5.如權(quán)利要求3所述的鎂合金鑄軋系統(tǒng)，其特征在于，位于中間的一級分流塊正對所述連接管熔體入口。
6.如權(quán)利要求1所述的鎂合金鑄軋系統(tǒng)，其特征在于，所述連接管熔體入口與所述前液箱的熔體出口相適配，所述連接管熔體出口與鑄嘴熔體入口相適配。
7.如權(quán)利要求1所述的鎂合金鑄軋系統(tǒng)，其特征在于，所述連接管內(nèi)腔為擴(kuò)口式結(jié)構(gòu)。
8.如權(quán)利要求1所述的鎂合金鑄軋系統(tǒng)，其特征在于，所述連接管為金屬材料制成的連接管，所述鑄嘴為硅酸鋁材料制成的鑄嘴。
9.如權(quán)利要求2或3所述的鎂合金鑄軋系統(tǒng)，其特征在于，所述二級分流單元包括多個二級分流塊，相鄰所述二級分流塊相互間隔設(shè)置，每一相鄰一級分流塊的間隔距離正對一個二級分流塊。
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