[發(fā)明專利]多面超聲波清洗機(jī)及硅片清洗方法在審
| 申請?zhí)枺?/td> | 201711366233.3 | 申請日: | 2017-12-18 |
| 公開(公告)號: | CN109926392A | 公開(公告)日: | 2019-06-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 魏超鋒;鄧浩;張濟(jì)蕾;高攀紅;劉曉東;李瑛;張超;辛麗 | 申請(專利權(quán))人: | 隆基綠能科技股份有限公司 |
| 主分類號: | B08B3/12 | 分類號: | B08B3/12;B08B3/08;B08B3/04;B08B13/00 |
| 代理公司: | 西安弘理專利事務(wù)所 61214 | 代理人: | 鐘歡 |
| 地址: | 710100 陜西*** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 硅片 超聲震板 多面 超聲清洗機(jī) 超聲清洗 清洗槽 相對設(shè)置 清洗 超聲波清洗機(jī) 超聲振動作用 超聲功率 硅片表面 硅片清洗 清洗效果 清洗效率 超聲場 放入 | ||
本發(fā)明的多面超聲清洗機(jī),用于超聲清洗硅片,具有清洗槽以及設(shè)置于清洗槽的多個超聲震板,清洗槽用于放置硅片,多個超聲震板包括至少一個底超聲震板和多個側(cè)超聲震板,底超聲震板位于硅片的底部,多個側(cè)超聲震板相對設(shè)置于所述硅片的兩側(cè)。本發(fā)明的硅片超聲清洗方法,包括:提供硅片和如上所述的多面超聲清洗機(jī);將硅片放入多面超聲清洗機(jī)的清洗槽內(nèi),使底超聲震板位于硅片的底部,多個側(cè)超聲震板相對設(shè)置于硅片的兩側(cè);利用多個超聲震板的超聲振動作用清洗硅片。本發(fā)明的多面超聲清洗機(jī)超聲功率密度更高、超聲場更為均勻,有利于超聲清洗硅片。利用本發(fā)明的硅片超聲清洗方法,使硅片表面清洗效果好、清洗效率高,并且清洗硅片數(shù)量多。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明屬于清洗設(shè)備技術(shù)領(lǐng)域,具體涉及一種多面超聲清洗機(jī),還涉及一種硅片超聲清洗方法,利用上述多面超聲清洗機(jī)完成。
背景技術(shù)
隨著世界經(jīng)濟(jì)的快速發(fā)展,人類對能源的需求不斷增長,煤、石油、天然氣等化石燃料,正逐漸被耗竭。而作為綠色能源的太陽能正越來越多的被人類所接受和應(yīng)用,日益受到世界各國的重視并得到大力發(fā)展。硅片作為光伏發(fā)電的基礎(chǔ)材料,其產(chǎn)品質(zhì)量的好壞直接影響下游電池組件端的效率。目前,晶錠切片后,表面會有切割液殘留,需要進(jìn)行清洗。
隨著太陽能技術(shù)的發(fā)展,未來硅片趨向于薄片化,隨之帶來的是硅片表面狀態(tài)及其表面附著物特征的改變,現(xiàn)有的超聲波清洗技術(shù)已逐漸不能滿足清洗要求。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的目的在于提供一種多面超聲清洗機(jī),解決了現(xiàn)有的超聲清洗機(jī)對硅片表面的清洗效果差,清洗效率低的問題。
本發(fā)明的目的還在于提供一種硅片超聲清洗方法,利用上述多面超聲清洗機(jī)完成。
本發(fā)明所采用的一種技術(shù)方案是:多面超聲清洗機(jī),用于超聲清洗硅片,所述多面超聲清洗機(jī)具有清洗槽以及設(shè)置于所述清洗槽的多個超聲震板,所述清洗槽用于放置硅片,所述多個超聲震板包括至少一個底超聲震板和多個側(cè)超聲震板,所述底超聲震板位于所述硅片的底部,所述多個側(cè)超聲震板相對設(shè)置于所述硅片的兩側(cè)。
本發(fā)明的特點(diǎn)還在于,
每個所述側(cè)超聲震板均沿所述硅片的厚度方向設(shè)置。
所述超聲震板內(nèi)具有多個不同頻率的超聲振子,每個所述超聲振子的超聲頻率為10khz-850khz。
多個所述超聲振子錯位等間距排列于所述超聲震板,多個所述超聲振子沿第一方向等間隔設(shè)置,形成超聲振子組,多個所述超聲振子組在所述超聲震板上依次設(shè)置。
多個所述超聲振子組沿第二方向等間隔設(shè)置,所述第二方向垂直于第一方向,沿第二方向,相鄰的兩個超聲振子組中,一個超聲振子組的超聲振子正對另一個超聲振子組的兩個超聲振子之間的間隙。
本發(fā)明所采用的另一種技術(shù)方案是:硅片超聲清洗方法,包括步驟:
提供待清洗的硅片和如權(quán)利要求1-5任一項所述的多面超聲清洗機(jī);
將所述待清洗的硅片放入所述多面超聲清洗機(jī)的清洗槽內(nèi),使所述底超聲震板位于所述硅片的底部,所述多個側(cè)超聲震板相對設(shè)置于所述硅片的兩側(cè);
以及利用所述多個超聲震板的超聲振動作用清洗所述待清洗的硅片。
本發(fā)明的特點(diǎn)還在于,
將所述待清洗的硅片放入所述清洗槽內(nèi),所述硅片的厚度方向與每個所述側(cè)超聲震板的設(shè)置方向相同。
利用多個超聲震板的超聲振動作用清洗所述待清洗的硅片時,調(diào)節(jié)超聲振子的功率使所述超聲震板的功率密度為0.2-4w/cm2,調(diào)節(jié)超聲振子的頻率使所述超聲振子的超聲頻率為10khz-850khz。
所述待清洗的硅片通過花籃放置于所述清洗槽內(nèi),所述花籃具有至少一個插槽,所述硅片設(shè)置于所述插槽中。
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