[發明專利]多面超聲波清洗機及硅片清洗方法在審
| 申請號： | 201711366233.3 | 申請日： | 2017-12-18 |
| 公開（公告）號： | CN109926392A | 公開（公告）日： | 2019-06-25 |
| 發明（設計）人： | 魏超鋒;鄧浩;張濟蕾;高攀紅;劉曉東;李瑛;張超;辛麗 | 申請（專利權）人： | 隆基綠能科技股份有限公司 |
| 主分類號： | B08B3/12 | 分類號： | B08B3/12;B08B3/08;B08B3/04;B08B13/00 |
| 代理公司： | 西安弘理專利事務所 61214 | 代理人： | 鐘歡 |
| 地址： | 710100 陜西*** | 國省代碼： | 陜西;61 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 硅片 超聲震板 多面 超聲清洗機 超聲清洗 清洗槽 相對設置 清洗 超聲波清洗機 超聲振動作用 超聲功率 硅片表面 硅片清洗 清洗效果 清洗效率 超聲場 放入 | ||
1.多面超聲清洗機，用于超聲清洗硅片，其特征在于，所述多面超聲清洗機具有清洗槽以及設置于所述清洗槽的多個超聲震板，所述清洗槽用于放置硅片，所述多個超聲震板包括至少一個底超聲震板和多個側超聲震板，所述底超聲震板位于所述硅片的底部，所述多個側超聲震板相對設置于所述硅片的兩側。
2.根據權利要求1所述的多面超聲清洗機，其特征在于，每個所述側超聲震板均沿所述硅片的厚度方向設置。
3.根據權利要求1所述的多面超聲清洗機，其特征在于，所述超聲震板內具有多個不同頻率的超聲振子，每個所述超聲振子的超聲頻率為10khz-850khz。
4.根據權利要求3所述的多面超聲清洗機，其特征在于，多個所述超聲振子錯位等間距排列于所述超聲震板，多個所述超聲振子沿第一方向等間隔設置，形成超聲振子組，多個所述超聲振子組在所述超聲震板上依次設置。
5.根據權利要求4所述的多面超聲清洗機，其特征在于，多個所述超聲振子組沿第二方向等間隔設置，所述第二方向垂直于第一方向，沿第二方向，相鄰的兩個超聲振子組中，一個超聲振子組的超聲振子正對另一個超聲振子組的兩個超聲振子之間的間隙。
6.硅片超聲清洗方法，其特征在于，包括步驟：
提供待清洗的硅片和如權利要求1-5任一項所述的多面超聲清洗機；
將所述待清洗的硅片放入所述多面超聲清洗機的清洗槽內，使所述底超聲震板位于所述硅片的底部，所述多個側超聲震板相對設置于所述硅片的兩側；以及
利用所述多個超聲震板的超聲振動作用清洗所述待清洗的硅片。
7.根據權利要求6所述的硅片超聲清洗方法，其特征在于，將所述待清洗的硅片放入所述清洗槽內，所述硅片的厚度方向與每個所述側超聲震板的設置方向相同。
8.根據權利要求7所述的硅片超聲清洗方法，其特征在于，利用多個超聲震板的超聲振動作用清洗所述待清洗的硅片時，調節超聲振子的功率使所述超聲震板的功率密度為0.2-4w/cm2，調節超聲振子的頻率使所述超聲振子的超聲頻率為10khz-850khz。
9.根據權利要求6所述的硅片超聲清洗方法，其特征在于，所述待清洗的硅片通過花籃放置于所述清洗槽內，所述花籃具有至少一個插槽，所述硅片設置于所述插槽中。
10.根據權利要求9所述的硅片超聲清洗方法，其特征在于，所述花籃為多個，所述多個花籃在所述清洗槽內依次設置，形成多行和/或多列，并且設置為一層或多層。
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