本發明公開了一種基于圖像灰度值的掩膜版光學缺陷檢測方法，方法的步驟中含有：在相機界面上采集實際圖的亮區數據和暗區數據；利用相機平場校正功能，對實際圖進行相機視場的亮度校正，保證一個視場內的亮區和暗區的灰度值分別保值，并保持盡可能一致；在實際圖的標定版上選擇一個暗區，標定灰度值為V1；在實際圖的標定版上選擇一個亮區，標定灰度值為V2；然后將暗區的標定灰度值V1和亮區的標定灰度值V2記錄到Recipe模板中，作為后續mask檢測參數，并且后續mask檢測參數直接作用于標準圖生成位圖的灰度值，使實際圖的灰度值和標準圖的灰度值保持盡可能一致；待配準后，實際圖和標準圖進行絕對相減操作，進而判斷實際圖上是否存在缺陷。本發明通過該方法可以提高缺陷檢測精度，檢測效果好。

技術領域

本發明涉及一種基于圖像灰度值的掩膜版光學缺陷檢測方法，屬于半導體檢測技術領域。

背景技術

目前，半導體掩膜版蝕刻后，圖形上的缺陷對后道工序的質量尤為重要，如果采用光學檢測，一般會通過相機把采集的灰度圖進行二值化處理，然后與黑白的標準圖進行對比檢測，但是如果為了效果好，比較消耗性能，快速的二值化，效果也欠佳；二值化的效果直接影響缺陷檢測精度。

發明內容

本發明所要解決的技術問題是克服現有技術的缺陷，提供一種基于圖像灰度值的掩膜版光學缺陷檢測方法，通過該方法可以提高缺陷檢測精度，檢測效果好。

為了解決上述技術問題，本發明的技術方案是：一種基于圖像灰度值的掩膜版光學缺陷檢測方法，方法的步驟中含有：

步驟S01：提供一掩膜版的實際圖和標準圖，并在相機界面上采集實際圖的亮區數據和暗區數據；

步驟S02：利用相機平場校正功能，對實際圖進行相機視場的亮度校正，保證一個視場內的亮區和暗區的灰度值分別保值，并保持盡可能一致；

步驟S03：在實際圖的標定版上選擇一個暗區，標定灰度值為V1；在實際圖的標定版上選擇一個亮區，標定灰度值為V2；然后將暗區的標定灰度值V1和亮區的標定灰度值V2記錄到Recipe模板中，作為后續mask檢測參數，并且后續mask檢測參數直接作用于標準圖生成位圖的灰度值，使實際圖的灰度值和標準圖的灰度值保持盡可能一致；

步驟S04：待配準后，實際圖和標準圖進行絕對相減操作，進而判斷實際圖上是否存在缺陷。

進一步，在步驟S01中，采集數據前，打開透射光源和相機，調節透射光源的亮度和相機的曝光時間。

進一步，在步驟S04中，判斷實際圖上是否存在缺陷的方法：根據Recipe模板中設定的缺陷閾值T，來判斷是否存在缺陷，取實際圖的像素灰度值V和對應的標準圖的灰度值Vt，當實際圖的像素的像素灰度值V滿足|V-V1|T時，則認為實際圖的該像素可能存在缺陷，先把該像素設置成1，如果沒有大于T的，則該像素設置成0，實際圖中像素全部處理完成后，新生成的圖則為純二值化圖，記為圖S；把圖S分成若干網格，每個網格大小記為缺陷分辨率，當像素為1的聚集面積大于閾值M，則此區域是有缺陷的；當像素為1的聚集面積小于閾值M，但通過訪問標準圖對應位置的八鄰域像素灰度值，如果對應位置的八鄰域像素灰度值都是0，則說明是孤立的，此圖S中該位置也算作缺陷。

進一步，通過減小設定的閾值M的大小，來提高捕獲缺陷的靈敏度。

采用了上述技術方案后，本發明可以規避采用二值化圖進行對比，而是通過實際的檢測物的實際圖來標定的灰度值設定到標準圖中，然后將實際圖與標準圖通過灰度進行對比檢測，這樣就可以提高其缺陷檢測精度，檢測效果好。

附圖說明

圖1為本發明的掩膜版的透射照明原始圖；

圖2為本發明的掩膜版的標準圖；

圖3為本發明的實際圖和標準圖的相減圖；