[發明專利]基于圖像灰度值的掩膜版光學缺陷檢測方法有效
| 申請號: | 201711262401.4 | 申請日: | 2017-12-04 |
| 公開(公告)號: | CN108037142B | 公開(公告)日: | 2021-01-19 |
| 發明(設計)人: | 劉建明;劉莊;張彥鵬 | 申請(專利權)人: | 江蘇維普光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G01N21/956 | 分類號: | G01N21/956;G01N21/88 |
| 代理公司: | 常州興瑞專利代理事務所(普通合伙) 32308 | 代理人: | 肖興坤 |
| 地址: | 213000 江*** | 國省代碼: | 江蘇;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 圖像 灰度 掩膜版 光學 缺陷 檢測 方法 | ||
1.一種基于圖像灰度值的掩膜版光學缺陷檢測方法,其特征在于方法的步驟中含有:
步驟S01:提供一掩膜版的實際圖和標準圖,并在相機界面上采集實際圖的亮區數據和暗區數據;
步驟S02:利用相機平場校正功能,對實際圖進行相機視場的亮度校正,保證一個視場內的亮區和暗區的灰度值分別保值,并保持盡可能一致;
步驟S03:在實際圖的標定版上選擇一個暗區,標定灰度值為V1;在實際圖的標定版上選擇一個亮區,標定灰度值為V2;然后將暗區的標定灰度值V1和亮區的標定灰度值V2記錄到Recipe模板中,作為后續mask檢測參數,并且后續mask檢測參數直接作用于標準圖生成位圖的灰度值,使實際圖的灰度值和標準圖的灰度值保持盡可能一致;
步驟S04:待配準后,實際圖和標準圖進行絕對相減操作,進而判斷實際圖上是否存在缺陷;
在步驟S04中,判斷實際圖上是否存在缺陷的方法:根據Recipe模板中設定的缺陷閾值T,來判斷是否存在缺陷,取實際圖的像素灰度值V和對應的標準圖的灰度值Vt,當實際圖的像素的像素灰度值V滿足|V-V1|T時,則認為實際圖的該像素可能存在缺陷,先把該像素設置成1,如果沒有大于T的,則該像素設置成0,實際圖中像素全部處理完成后,新生成的圖則為純二值化圖,記為圖S;把圖S分成若干網格,每個網格大小記為缺陷分辨率,當像素為1的聚集面積大于閾值M,則此區域是有缺陷的;當像素為1的聚集面積小于閾值M,但通過訪問標準圖對應位置的八鄰域像素灰度值,如果對應位置的八鄰域像素灰度值都是0,則說明是孤立的,此圖S中該位置也算作缺陷;
在步驟S01中,采集數據前,打開透射光源和相機,調節透射光源的亮度和相機的曝光時間;
通過減小設定的閾值M的大小,來提高捕獲缺陷的靈敏度。
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