技術領域

本發明涉及一種光學用薄膜，尤其涉及一種水汽氧氣阻隔膜及其制備方法。

背景技術

如今的顯示技術中，液晶顯示使用的光源都是以設備背面的一組發光二極管作為光源，或者采用藍光LED和稀土熒光粉相配合以達到顯示不同色彩的效果。最終發出的白光顏色純度不高、色彩飽和度低，只能實現70～75％NTSC的色域。

隨著技術的發展，引入了量子點膜技術和OLED技術，較大的提高色域，使得顯示設備的色域能夠達到100％全色域甚至更高，具有更好的色彩表現力。OLED和量子點對環境中的水汽和氧氣非常敏感，阻隔膜的使用尤為重要。OLED可用于柔性顯示，是未來的一大趨勢，而OLED對阻隔膜的水汽氧氣阻隔性和熱穩定性要求更加苛刻。阻隔膜的性能關系顯示設備的使用性能和壽命。

目前，阻隔膜主要采用真空蒸鍍方法單層制備，制備過程中易產生連續性缺陷，制備的水氧阻隔膜的均勻性及在基材的附著力較差，對水汽氧氣的阻隔性一般。

發明內容

為了提高水汽氧氣阻隔膜的水汽氧氣阻隔性和耐熱性，本發明提供一種水汽氧氣阻隔膜及其制備方法。所述水汽氧氣阻隔膜依次包括基材層，第一有機阻隔層、第一無機阻隔層、第二有機阻隔層、第二無機阻隔層、第三有機阻隔層和第三無機阻隔層。本發明提供的水汽氧氣阻隔膜(簡稱水氧阻隔膜)具有較高的水汽氧氣阻隔性和耐熱性，可用于對熱穩定性要求較高的OLED顯示設備中，能夠提高OLED顯示設備的使用壽命。

為了解決上述技術問題，本發明提供下述技術方案：

本發明提供一種水汽氧氣阻隔膜，所述水汽氧氣阻隔膜依次包括基材層，第一有機阻隔層、第一無機阻隔層、第二有機阻隔層、第二無機阻隔層、第三有機阻隔層和第三無機阻隔層。

進一步的，所述第一有機阻隔層在基材層的上表面，所述第一無機阻隔層在第一有機阻隔層的上表面，所述第二有機阻隔層在第一無機阻隔層的上表面，所述第二無機阻隔層在第二有機阻隔層的上表面，所述第三有機阻隔層在第二無機阻隔層的上表面，所述第三無機阻隔層在第三有機阻隔層的上表面。

在所述的水汽氧氣阻隔膜中，所述有機阻隔層印刷在基材層或無機阻隔層上表面。

進一步的，所述有機阻隔層采用噴墨印刷涂布液的方法制備，溫度控制在80-120℃。

進一步的，在所述的水汽氧氣阻隔膜中，所述第一、第二和第三有機阻隔層的厚度分別為1-5μm。

進一步的，所述第一有機阻隔層的厚度優選為2-4μm。

進一步的，所述第二有機阻隔層的厚度優選為2-4μm。

進一步的，所述第三有機阻隔層的厚度優選為2-4μm。

進一步的，所述第一有機阻隔層的厚度最優選為2-3μm。

進一步的，所述第二有機阻隔層的厚度最優選為2-3μm。

進一步的，所述第三有機阻隔層的厚度最優選為2-3μm。

進一步的，在所述的水汽氧氣阻隔膜中，所述第一、第二和第三無機阻隔層的厚度分別為10-200nm。

進一步的，所述第一無機阻隔層的厚度優選為100-200nm。

進一步的，所述第二無機阻隔層的厚度優選為100-200nm。

進一步的，所述第三無機阻隔層的厚度優選為100-200nm。

進一步的，所述第一無機阻隔層的厚度最優選為150-170nm。

進一步的，所述第二無機阻隔層的厚度最優選為150-170nm。

進一步的，所述第三無機阻隔層的厚度最優選為150-170nm。

進一步的，在所述的水汽氧氣阻隔膜中，所述基材層為透明高分子薄膜，所述基材層的厚度為50-200μm。

進一步的，所述基材層的厚度優選為50-150μm。

進一步的，所述基材層的厚度優選為120-150μm。

進一步的，所述基材層選自聚對苯二甲酸乙二醇酯(PET)、聚萘二甲酸乙二醇酯(PEN)或聚偏氯乙烯(PVDF)中的一種。

進一步的，所述基材層材料優選為PEN或PVDF。

進一步的，所述基材層材料優選為PEN。

進一步的，在所述的水汽氧氣阻隔膜中，所述第一、第二和第三有機阻隔層的厚度相同或不同。

進一步的，所述第一、第二和第三有機阻隔層的材料選自聚偏二氯乙烯(PVDC)或聚偏氯乙烯(PVDF)中的一種。

進一步的，所述有機阻隔層先配置成涂布液(簡稱溶液)，所述涂布液包括20％的聚偏乙烯樹脂，0.5～1％的流平劑，79-79.5％的溶劑。