[發明專利]一種水汽氧氣阻隔膜及其制備方法在審
| 申請號： | 201710584490.8 | 申請日： | 2017-07-18 |
| 公開（公告）號： | CN107644943A | 公開（公告）日： | 2018-01-30 |
| 發明（設計）人： | 張克然 | 申請（專利權）人： | 寧波安特弗新材料科技有限公司 |
| 主分類號： | H01L51/52 | 分類號： | H01L51/52 |
| 代理公司： | 北京策略律師事務所11546 | 代理人： | 張華 |
| 地址： | 315100 浙江省寧*** | 國省代碼： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 水汽 氧氣 阻隔 及其 制備 方法 | ||
1.一種水汽氧氣阻隔膜，其特征在于，所述水汽氧氣阻隔膜依次包括基材層，第一有機阻隔層、第一無機阻隔層、第二有機阻隔層、第二無機阻隔層、第三有機阻隔層和第三無機阻隔層。
2.根據權利要求1所述的水汽氧氣阻隔膜，其特征在于，所述有機阻隔層印刷在基材層或無機阻隔層上表面。
3.根據權利要求1所述的水汽氧氣阻隔膜，其特征在于，所述第一、第二和第三有機阻隔層的厚度分別為1-5μm。
4.根據權利要求1所述的水汽氧氣阻隔膜，其特征在于，所述第一、第二和第三無機阻隔層的厚度分別為10-200nm。
5.根據權利要求1所述的水汽氧氣阻隔膜，其特征在于，所述基材層為透明高分子薄膜，所述基材層的厚度為50-200μm。
6.根據權利要求3所述的水汽氧氣阻隔膜，其特征在于，所述第一、第二和第三有機阻隔層的厚度相同或不同。
7.根據權利要求4所述的水汽氧氣阻隔膜，其特征在于，其特征在于，所述第一、第二和第三無機阻隔層的厚度相同或不同。
8.根據權利要求2所述的水汽氧氣阻隔膜，其特征在于，所述有機阻隔層采用噴墨印刷的方式印刷在基材層或無機阻隔層上表面，所述第一有機阻隔層印刷在基材層的上表面，第二有機阻隔層印刷在第一無機阻隔層的上表面，第三有機阻隔層印刷在第二無機阻隔層的上表面。
9.根據權利要求1所述的水汽氧氣阻隔膜，其特征在于，所述水汽氧氣阻隔膜的表面粗糙度是0.75μm－0.92μm。
10.一種制備所述的水汽氧氣阻隔膜的方法，所述方法包括下述步驟：
(1)制備基材層；
(2)在基材層的上表面印刷第一有機阻隔層；
(3)在第一有機阻隔層的上表面濺射第一無機阻隔層；
(4)在第一無機阻隔層的上表面印刷第二有機阻隔層；
(5)在第二有機阻隔層的上表面濺射第二無機阻隔層；
(6)在第二無機阻隔層的上表面印刷第三有機阻隔層；
(7)在第三有機阻隔層的上表面濺射第三無機阻隔層。
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H01L 半導體器件；其他類目中不包括的電固體器件
H01L51-00 使用有機材料作有源部分或使用有機材料與其他材料的組合作有源部分的固態器件；專門適用于制造或處理這些器件或其部件的工藝方法或設備
H01L51-05 .專門適用于整流、放大、振蕩或切換且并具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的；具有至少一個電位躍變勢壘或表面勢壘的電容器或電阻器
H01L51-42 .專門適用于感應紅外線輻射、光、較短波長的電磁輻射或微粒輻射；專門適用于將這些輻射能轉換為電能，或者適用于通過這樣的輻射進行電能的控制
H01L51-50 .專門適用于光發射的，如有機發光二極管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料選擇
