技術領域

本發明屬于建筑陶瓷技術領域，特別是涉及一種超潔亮止滑磚及其制造方法。

背景技術

超潔亮瓷磚具有光澤度高、防污性能好等優點，自面世以來備受青睞，被譽為建陶行業防污技術的革命性突破，同時也大大提高了表面的光澤度，陶瓷行業內很多企業相繼研究開發了超潔亮磚。但是超潔亮磚有一個致命缺陷—止滑效果差，特別是遇水后過于光滑，對人身安全造成威脅，這嚴重制約了超潔亮瓷磚在家裝、商場、醫院、寫字樓、公寓等公共場所的推廣使用。

傳統的止滑磚制作方式是通過化學品對坯體或釉面進行腐蝕，形成凹洞，利用真空吸附原理實現止滑效果。然而該方式因表面被腐蝕而導致表面光澤度嚴重降低，防污差等缺陷，遠遠不能滿足現代人日益提高的審美要求。

因此，如何提高超潔亮磚的止滑性，實現止滑與高亮、防污等的高度融合已成為了行業內亟待解決的難題。

發明內容

為了解決上述問題，本發明提供了一種超潔亮止滑磚及其制造方法，實現瓷磚在具有止滑效果的同時，仍保持較高的光澤度和防污性。

為實現上述目的，本發明采用的技術方案如下：

一種超潔亮止滑磚，自上而下依次包括基層、超潔亮層、納米級止滑層及防污層。

所述納米級止滑層在超潔亮層表面形成，包括止滑層和修復層。

所述止滑層通過止滑劑對超潔亮層進行部分侵蝕后形成，其表面密布微孔，所述微孔的深度不超過10μm。

所述修復層所用修復劑的粒度為40~100nm，部分修補止滑層。

一種超潔亮止滑磚的制造方法，包括如下工藝流程：

a.對出窯半成品以公知的超潔亮工藝進行拋光，形成超潔亮層；

b.用止滑劑對超潔亮層進行部分侵蝕，形成止滑層；

c.用修復劑對止滑層進行部分修復，形成修復層；

d.上防污劑，選別，包裝。

所述出窯半成品可以為拋光磚出窯品或拋釉磚出窯品；

所述止滑劑主要成分為有機或無機酸，所述有機或無機酸為硫酸、鹽酸、磷酸、硼酸、草酸、醋酸、果酸中的一種或多種。

所述修復劑的主要成分為硅油類，所述硅油為甲基硅油、乙基硅油、氨基硅油、線性硅油、甲基羥基硅油、改性硅油、氫化硅油中的一種或多種。

所述步驟b和c可以分步進行，也可將止滑劑和修復劑按一定比例混合后一步完成。

所述止滑劑和修復劑混合使用時兩者比例為體積比1：（1~4）。

本發明與現有技術相比有益效果在于：本發明提供的超潔亮止滑磚的制造方法對于超潔亮止滑拋光磚和超潔亮止滑拋釉磚均適用；利用本發明制造的的超潔亮止滑磚光澤度可達到85度以上，干、濕狀態下的靜摩擦系數均可達到0.6以上，濕態時效果更優，兼具超潔亮和止滑功能，防污等級與普通超潔亮磚相當，可以廣泛應用于各種公共場所，極大地降低潮濕狀態下引發的摔倒事故，提高了人們日常生活的安全系數；同時高光澤度、光亮美觀的外觀特點，有利于推廣和使用于更高檔的公共場所。

附圖說明

下面結合附圖和實施例對本發明進一步說明。

圖1為超潔亮止滑拋釉磚的結構示意圖。

圖2為超潔亮止滑拋光磚的結構示意圖。

其中：101、坯體層；102、底釉層；103、噴墨裝飾層；104、透明釉層；2、超潔亮層；3、納米級止滑層；301、止滑層；302、修復層；4、防污層；5、微孔。

具體實施方式

下面結合附圖對本發明作進一步詳細的說明。

實施例1：超潔亮止滑拋釉磚

如圖1所示的一種超潔亮止滑拋釉磚，由下到上分別包括基層、超潔亮層2、納米級止滑層3及防污層4，所述基層自上而下由坯體層101、底釉層102、噴墨裝飾層103及透明釉層104構成；所述納米級止滑層3在超潔亮層2表面形成，包括止滑層301和修復層302；所述止滑層301為通過止滑劑對超潔亮層2進行部分侵蝕后形成，其表面密布微孔5，所述微孔5的深度不超過10μm；所述修復層302所用修復劑的粒度為40~100nm，部分修補止滑層301，保證產品的光澤度及耐污性。

一種超潔亮止滑拋釉磚的制造方法，包括如下步驟：

a.對拋釉磚出窯品以公知的超潔亮工藝進行拋光，形成超潔亮層；

b.用止滑劑對超潔亮層進行部分侵蝕，形成止滑層；

c.用修復劑對止滑層進行部分修復，形成修復層；

d.上防污劑，選別，包裝；