1.一種超潔亮止滑磚，其特征在于：自上而下依次包括基層、超潔亮層（2）、納米級止滑層（3）及防污層（4）。

2.根據權利要求1所述的超潔亮止滑磚，其特征在于：所述納米級止滑層（3）在超潔亮層（2）表面形成，包括止滑層（301）和修復層（302）。

3.根據權利要求2所述的超潔亮止滑磚，其特征在于：所述止滑層（301）通過止滑劑對超潔亮層（2）進行部分侵蝕后形成，其表面密布微孔（5），所述微孔（5）的深度不超過10μm。

4.根據權利要求2所述的超潔亮止滑磚，其特征在于：所述修復層（302）所用修復劑的粒度為40~100nm，部分修補止滑層（301）。

5.一種超潔亮止滑磚的制造方法，其特征在于：包括如下工藝流程：

a.對出窯半成品以公知的超潔亮工藝進行拋光，形成超潔亮層；

b.用止滑劑對超潔亮層進行部分侵蝕，形成止滑層；

c.用修復劑對止滑層進行部分修復，形成修復層；

d.上防污劑，選別，包裝。

6.根據權利要求5所述的超潔亮止滑磚的制造方法，其特征在于：所述出窯半成品可以為拋光磚出窯品或拋釉磚出窯品。

7.根據權利要求5所述的超潔亮止滑磚的制造方法，其特征在于：所述止滑劑主要成分為有機或無機酸，所述有機或無機酸為硫酸、鹽酸、磷酸、硼酸、草酸、醋酸、果酸中的一種或多種。

8.根據權利要求5所述的超潔亮止滑磚的制造方法，其特征在于：所述修復劑的主要成分為硅油類，所述硅油為甲基硅油、乙基硅油、氨基硅油、線性硅油、甲基羥基硅油、改性硅油、氫化硅油中的一種或多種。

9.根據權利要求5所述的超潔亮止滑磚的制造方法，其特征在于：所述步驟b和c可以分步進行，也可將止滑劑和修復劑按一定比例混合后一步完成。

10.根據權利要求9所述的超潔亮止滑磚的制造方法，其特征在于：所述止滑劑和修復劑混合使用時兩者比例為體積比1：（1~4）。