[發明專利]一種定點浸錫機構有效
| 申請號： | 201710380423.4 | 申請日： | 2017-05-25 |
| 公開（公告）號： | CN107026000B | 公開（公告）日： | 2018-12-07 |
| 發明（設計）人： | 李日旺 | 申請（專利權）人： | 珠海市日創工業自動化設備有限公司 |
| 主分類號： | H01F41/00 | 分類號： | H01F41/00;H01F41/04;B23K1/08;B23K3/06 |
| 代理公司： | 廣州三環專利商標代理有限公司 44202 | 代理人： | 溫旭 |
| 地址： | 519000 廣東省珠*** | 國省代碼： | 廣東;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 定點 機構 | ||
1.一種定點浸錫機構，其特征在于：包括錫爐、錫杯和浸錫升降裝置；所述錫爐上開設有熔腔，所述錫爐的一側上設置有用于清除錫面氧化物的刮錫裝置，所述浸錫升降裝置設置在所述錫爐的另一側上；所述錫杯設置在所述錫爐的上方，所述錫杯通過浸錫連接板與所述浸錫升降裝置連接并可隨浸錫升降機構的移動部分浸入熔腔內；所述錫杯包括浸錫板和與所述浸錫板固接的連接臂，所述浸錫板上開設有與骨架針腳相匹配的貫通的浸錫孔、及與骨架定位腳相匹配的避讓孔，所述連接臂與所述浸錫連接板螺接。
2.根據權利要求1所述的定點浸錫機構，其特征在于：所述浸錫板上向下凹陷形成有浸錫凹槽，所述浸錫孔和避讓孔均設置在所述浸錫凹槽內。
3.根據權利要求2所述的定點浸錫機構，其特征在于：所述浸錫凹槽的深度為1～2mm。
4.根據權利要求1～3中任一項所述的定點浸錫機構，其特征在于：所述浸錫孔的直徑為7～9mm。
5.根據權利要求1～3中任一項所述的定點浸錫機構，其特征在于：所述浸錫連接板上開設有數個均勻布設的第一散熱孔。
6.根據權利要求1～3中任一項所述的定點浸錫機構，其特征在于：所述刮錫裝置包括可沿豎直方向呈直線往復運動的第一刮錫氣缸、可沿水平方向呈直線往復運動的第二刮錫氣缸和用于清除錫面氧化物的刮錫條；所述第一刮錫氣缸通過氣缸連接板與所述第二刮錫氣缸連接，所述刮錫條設置在所述錫爐的熔腔的上方并與所述第二刮錫氣缸連接。
7.根據權利要求6所述的定點浸錫機構，其特征在于：所述刮錫條上開設有數個均勻布設的第二散熱孔。
8.根據權利要求6所述的定點浸錫機構，其特征在于：所述第一刮錫氣缸與所述錫爐之間設置有用于容置錫面氧化物殘渣的錫渣盒，所述錫渣盒靠近所述第一刮錫氣缸的一側上設置有氣缸防護板。
9.根據權利要求1～3中任一項所述的定點浸錫機構，其特征在于：所述浸錫升降裝置包括升降連接板、兩根導向桿、固定板、連接塊、及可沿豎直方向呈直線往復運動的第一浸錫氣缸和第二浸錫氣缸；兩根所述導向桿的一端分別與所述升降連接板的兩端固定連接、另一端與所述固定板的兩端滑動連接；每根所述導向桿上固定設置有兩個限位器，所述連接塊可滑動地設置在兩根所述導向桿上并位于兩個所述限位器之間；所述第一浸錫氣缸的底部固設在所述連接塊上，所述第二浸錫氣缸的底部固設在所述固定板上，所述第一浸錫氣缸的輸出軸與所述第二浸錫氣缸的輸出軸固定連接。
10.根據權利要求9所述的定點浸錫機構，其特征在于：所述第一浸錫氣缸和第二浸錫氣缸均為高精度氣缸。
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